【課題】レジスト組成物中の酸発生剤濃度を高くしても、高い解像性が得られるポジ型レジスト組成物および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ可溶性が増大する基材成分（Ａ）、及び放射線の照射により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、基材成分（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）で表されるフェノール化合物またはその水酸基の水素原子の一部が炭素数１〜１０のアルキル基で置換された置換フェノール化合物の水酸基の水素原子の一部または全部が酸解離性溶解抑制基で置換された化合物（Ａ１）を含有し、基材成分（Ａ）に対する前記酸発生剤成分（Ｂ）の含有量が１０質量％を超えることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】特に、ラインエッジラフネスが良好である化学増幅型ポジ型レジスト組成物を与える化合物を提供する。
【解決手段】式（Ｉ）で示される多価フェノール誘導体。


（式（Ｉ）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は少なくとも一つが下式（II）で示される酸不安定基であり、残りは水素原子である。


（式（II）中、Ｘ¹、Ｘ²、Ｘ³およびＸ⁴は、水素原子又はアルキル基示す。ｎは、０〜３の整数を示す。Ｚ¹はアルキル基又はシクロアルキル基を示す。環Ｙは脂環式炭化水素基を示す。）） （もっと読む）

【課題】溶解性等に優れ、病巣選択的なリポソーム造影剤に適した化合物の提供。
【解決手段】式（Ｉ）：


［式中、Ａ¹およびＡ²はそれぞれ独立に酸素原子または単結合を表し；Ｌ¹およびＬ²はそれぞれ独立に、主鎖が５〜２０個の炭素原子からなる２価の連結基を表し；Ｘは炭素原子、酸素原子、窒素原子、リン原子、および硫黄原子からなる群から選択される１〜２０個の原子および水素原子からなる基を表す］で表される化合物、又はその塩。 （もっと読む）

【課題】表面変性剤としてのペルフルオロアルキル基で置換されたフェノール誘導体を提供すること。
【解決手段】本発明は、
（ａ）酸化、熱又は光誘発分解を受け易い有機材料、及び
（ｂ）少なくとも１種の、式（Ｉ）
【化１】


（式中、一般記号は請求項１で定義した通りであり、
特に、基Ｒ_２、Ｒ_３又はＲ_４の少なくとも１種は−ＣＨ_２−ＣＨ（ＣＨ_３）−Ｓ（Ｏ）_p−Ｒ_１２、−ＣＨ_２−ＣＨ_２−ＣＨ_２−Ｓ（Ｏ）−Ｒ_１２、−ＣＨ_２−ＣＨ（Ｒ_１１）
−ＣＨ_２−Ｒ_１２又は−ＣＨ_２−ＣＨ＝ＣＨ−Ｒ_１２を表し、
Ｒ_１１は水素原子又はハロゲン原子を表し、
Ｒ_１２は１価のペルフルオロ化アルキル又はアルケニル鎖の、４ないし２０個の完全にフッ素化された炭素原子を有する直線状の又は枝分かれした有機基、−ＣＨ_２ＣＨ_２（ＣＦ_２）_mＣＦ_３を表し、
ｍは３ないし１２を表し、及び
ｐは０、１又は２を表す。）で表される化合物を含む組成物に関する。

式（Ｉ）で表される化合物は、有機材料、例えば合成ポリマー、のための表面エネルギーの減少剤として有用である。そのような減少した表面エネルギーを有するポリマーは、“易洗浄性”、“自浄性”“抗汚染性”“防汚染性”“落書き抵抗性”“耐油性”“耐溶剤性”“耐薬品性”“自己潤滑性”“耐引掻性”“低吸湿性”“耐吸塵性”“スリップ性”及び“疎水性表面”、ならびにたんぱく質及び微生物、例えば細菌、真菌類及び藻類、に対する抗接着性を有する。
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【課題】レジスト組成物用としての利用が可能な化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ａ−１）で表される化合物［Ｒ’は水素原子または酸解離性溶解抑制基であって；Ｒ”はアルキル基であり；Ｒ^１１〜Ｒ^１７はアルキル基または芳香族炭化水素基であって；Ａは下記一般式（Ｉａ）で表される基、下記一般式（Ｉｂ）で表される基または脂肪族環式基である。］。
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11-β-ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼ I型阻害剤である、新規な化合物を提供する。11-β-ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼI型阻害剤は、11-β-ヒドロキシステロイドデヒドロゲナーゼI型阻害剤療法を必要とする疾病の進行を治療、予防、または遅らせるのに有用である。これらの新規な化合物は、該構造:


、またはそのエナンチオマー、ジアステレオマー、溶媒和物、もしくは塩であり、式中のA、W、XおよびZは明細書に定義される。
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【課題】レジスト組成物用として利用可能な化合物、該化合物を含有するポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】式(Ａ−１)で表される化合物。
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本発明は、置換された１，３−ジフェニルプロパン誘導体、それらを含有する医薬組成物および、特にヒトおよび動物の健康の分野におけるその治療的使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、式（I）で示されるヒドロキシフェニル誘導体。Ｒ１はフェニルまたは６員の単環状含窒素へテロアリール、Ｒ２はフェニル、Ｃ_１−Ｃ_８アルキル、Ｃ_２−Ｃ_８アルケニル、Ｃ_２−Ｃ_８アルキニル、Ｃ_１−Ｃ_４フルオロ−アルキル、Ｃ_２−Ｃ_４フロロ−アルケニル、ＯＲ_ａ、ＳＲ_ａ、YはＨであるか、またはインビボで遊離のフェノール化合物を再生し得る不安定な化学基、Ｚ１およびＺ３は、ハロゲンまたはＨ、Ｚ２はフルオロまたはＨである；
【化１】

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本発明は、他の活性酸素種及び活性窒素種よりもむしろペルオキシナイトライトと特異的に反応する組成物を提供する。本発明は、ペルオキシナイトライトの測定に関連した作用剤も提供する。本発明は、そのような組成物及び作用剤を使用することを含む、試料中のペルオキシナイトライトの測定に関連した方法、ペルオキシナイトライトの検出のためのハイ-スループットスクリーニング蛍光法、及びペルオキシナイトライトの生成を増加又は減少する化合物のスクリーニングのためのハイ-スループット法も提供する。 （もっと読む）