【課題】ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】下記化合物を含むポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成法。
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【課題】次世代のフォトリソグラフィーに対応したフォトレジストとして使用し得る新規な構造のカリックスアレーン系誘導体及びそれを含有する組成物を提供する。
【解決手段】式（２）で示される置換基を有するカリックスアレーン系誘導体及びそれを含有する組成物。


（Ａは炭素数１〜１１の置換又は非置換の２価の炭化水素基；Ｂは１価の酸解離性基を表し；ｎは０又は１である。） （もっと読む）

【課題】 ポジ型レジスト組成物用として好適な化合物の提供。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）［式中、Ｒ^１１〜Ｒ^１７はそれぞれ独立に炭素数１〜１０のアルキル基または芳香族炭化水素基であって、その構造中にヘテロ原子を含んでもよく；Ｘは脂肪族環式基である。］で表され、分子量が３００〜２５００である多価フェノール化合物におけるフェノール性水酸基の水素原子の一部または全部が酸解離性溶解抑制基で置換された化合物。
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【課題】 ラフネスの低減されたレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法、ならびに該ポジ型レジスト組成物用として好適な化合物を提供する。
【解決手段】 下記一般式（Ｉ）［式（Ｉ）中、Ｒ_１１〜Ｒ_１４はそれぞれ独立に炭素数１〜５の直鎖状のアルキル基である。］で表され、分子量が３００〜２５００である多価フェノール化合物におけるフェノール性水酸基の水素原子の一部または全部が酸解離性溶解抑制基で置換された化合物。該化合物を含有するポジ型レジスト組成物。該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。
【化１】
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遊離形または薬学的に許容される塩形の式（Ｉ）
【化１】


〔式中、Ｒ^１、Ｒ^２、Ｒ^３、Ｒ^４、Ｒ^５、ｍ、ｎ、ｗ、Ｘ、ＹおよびＱは明細書に記載の意味を有する〕の化合物はＣＲＴｈ_２受容体が介在する状態、とりわけ炎症性または閉塞性気道疾患を処置するために有用である。
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アリルアルコールを、適当な触媒の存在で、エポキシドと反応させてヒドロキシエーテルを形成させ、これを過度の重合または転移を誘発しない触媒を使用して、アルデヒドまたはカルボン酸もしくはその誘導体とさらに反応させて、反応性希釈剤として有用な-エーテルエステルまたは-アセタール組成物を形成させることによって、反応性希釈剤として使用される組成物が製造される。 （もっと読む）

本発明は置換２−（４−カルボニルメトキシ−２，５−ジ置換可フェニル）アセトアルデヒドの製造のための改良方法に関するものである。特に、２−（４−アルコキシカルボニルメトキシ−２，５−ジ置換可フェニル）アセトアルデヒドと、置換可２−〔４−〔２−〔〔２−ヒドロキシ−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−メチルエチル〕アミノ〕エチル〕−２，５−ジ置換可フェノキシ〕酢酸誘導体、又はその塩の製造におけるそれらの使用に関するものであり、それらは医薬活性物質として用いられる。 （もっと読む）

本発明は、アンドロゲン受容体として作用することのできる化合物、アンタゴニスト、それを含有する医薬製剤、およびその使用方法に関する。このような使用としては、限定されるものではないが、特に、結腸癌、皮膚癌および前立腺癌などの癌の治療のための抗腫瘍剤としての使用、ならびにアンドロゲンに関連する病気に罹患している被検体においてアンドロゲン受容体アンタゴニスト活性を誘導することが挙げられる。アンドロゲンに関連する病気の例としては、限定されるものではないが、脱毛症、多毛症、行動障害、座瘡、および精子形成の抑制が望まれる場合の抑制されない精子形成が挙げられる。
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本発明は、脂質代謝異常、アテローム性動脈硬化症、および糖尿病の治療に用いることのできる、式（Ｉ）の化合物に関し、式中、ｎは、１、２、および３から選択された整数であり、Ｙは、Ｏ、Ｒ⁹がＨまたは飽和炭化水素ベース脂肪族基を表すＮ−ＯＲ⁹、Ｒ¹⁰およびＲ¹¹が同一でも異なっていてもよく、Ｈまたは飽和炭化水素ベース脂肪族基を表すＣＲ¹⁰Ｒ¹¹を表し、Ｒ¹およびＲ²は、同一でも異なっていてもよく、Ｈまたは飽和脂肪族炭化水素ベース鎖を表すか、あるいはＲ¹およびＲ²は合わせて、場合によって置換された飽和脂肪族炭化水素ベース鎖を形成し、基Ｒ³およびＲ⁴は、同一でも異なっていてもよく、Ｒ¹およびＲ²に関して上述した任意の意味を持つか、あるいはＲ¹およびＣＲ¹Ｒ²への炭素アルファに結合する基Ｒ⁴は、何も表さず、二重結合が、ＣＲ¹Ｒ²炭素をアルファＣＲ³Ｒ⁴炭素と結合するか、あるいは基Ｒ¹およびＲ²の１つは、基Ｒ³およびＲ⁴の１つと共に、場合によって置換された飽和または不飽和脂肪族炭化水素ベース鎖を形成し、基Ｒ⁵およびＲ⁶の１つはＷを表し、他方はＺを表し、Ｚは、飽和または不飽和脂肪族炭化水素ベース基、場合によって置換された飽和、不飽和、および／または芳香族炭素環または複素環基、ａｌｋがアルキレン鎖を表し、Ｃｙが場合によって置換された飽和、不飽和、および／または芳香族複素環または炭素環基を表す基−ａｌｋ−Ｃｙから選択され、Ｗは、−ＸＬ−ＣＯ₂Ｒ⁷、−Ｘ−Ｌ−Ｔｅｔを表し、式中、ＸおよびＬは、下に定義するとおりであり、Ｔｅｔは、場合によって置換されたテトラゾールを表し、式中、Ｌは、場合によって置換されている、および／または場合によって置換されたアリーレンによって場合によって中断されている飽和または不飽和脂肪族炭化水素ベース鎖を表し、Ｘは、Ｏ、Ｒ⁸がＨ、飽和脂肪族炭化水素ベース基、Ｒ’がＲ⁷に関して下に示すＨを除く任意の意味を持つ基−ＣＯ−Ｒ’もしくは−ＳＯ₂−Ｒ’、または場合によって置換された芳香族炭素環基を表すＮＲ⁸、あるいはｍが０、１、および２から選択されるＳ（Ｏ）_mを表し、Ｒ⁷は、Ｈ、飽和または不飽和脂肪族炭化水素ベース基、場合によって置換された飽和、不飽和、および／または芳香族炭素環基、場合によって置換された飽和、不飽和、および／または芳香族複素環基を表す化合物、ならびに薬剤として許容されるそれらの誘導体、塩、溶媒和物、および立体異性体、ならびにあらゆる割合のそれらの混合物に関する。
【化１】

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活性又は官能性有機化合物は、溶媒、共溶媒又は添加剤として、極性又は分極性官能基を有するジアリール有機化合物中で可溶化され、組成物を形成する。代表的な活性又は官能性有機化合物としては、パーソナルケア製品中に存在するものが挙げられ、、例えば、アボベンゾン、ベンゾフェノン-３及び４-メチルベンジリデンカンファー等のＵＶＡ／ＵＶＢ吸収化合物を含有する日焼け止め剤が挙げられる。また、かかる組成物は、増大したＳＰＦ、ＵＶＡ／ＵＶＢ吸光度比及び臨界波長性能の特性を示す。 （もっと読む）