【課題】ケトン分子などの特定の官能基を持つＶＯＣsを選択的に吸着しうる新規な感応材料用カリックスアレン誘導体およびカリックスアレン系複合材料、およびそれらを用いたセンサー素子、センサーの提供。
【解決手段】下記式で表わされる感応材料用カリックスアレン誘導体。


上記式において、ｍは４〜８から選択される整数、Ｘ、Ｒの少なくとも一方は末端に二重結合を有する。 （もっと読む）

【課題】感光性レジストの原料として有用なビス（ヒドロキシホルミルフェニル）化合物及びそれから誘導される多核ポリフェノール化合物を提供する。
【解決手段】下記一般式（７）で表される多核ポリフェノール化合物。


代表的な化合物としては、２，６−ビス｛（３−ホルミル−４−ヒドロキシフェニル）メチル｝−４−フェニルフェノール，２，６−ビス｛（３−ホルミル−４−メトキシカルボニルメトキシフェニル）メチル｝−４−フェニル−１−メトキシカルボニルメトキシベンゼンなどが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】 糖尿病、糖尿病合併症、糖尿病性細小血管合併症、インスリン抵抗性症候群、メタボリックシンドローム、高血糖症、脂質異常症、アテローム性硬化症、心不全、心筋症、心筋虚血症、脳虚血症、脳卒中、肺高血圧症、高乳酸血症、ミトコンドリア病、ミトコンドリア脳筋症又は癌の予防または治療剤、即ち、ＰＤＨＫ阻害剤等を提供すること。
【解決手段】 下記一般式［Ｉ］で表される化合物又はその医薬上許容される塩、或いはその溶媒和物。


（式中、各記号は明細書に記載の通りである。） （もっと読む）

【課題】 性能のロバスト性が向上したポジ型フォトレジストを提供すること。
【解決手段】 フォトレジスト組成物は、少なくとも１つの完全保護カリックス［４］レゾルシンアレンと少なくとも１つの非保護カリックス［４］レゾルシンアレンとのブレンドであって、完全保護カリックス［４］レゾルシンアレンが酸不安定性基で保護されたフェノール基を有する、ブレンドと、光酸発生剤と、溶媒とを含み、ブレンド及び光酸発生剤は溶媒に可溶である。フォトレジスト組成物を用いて基板上にレジスト像を生成するためのプロセスもまた開示される。 （もっと読む）

【課題】一般的な高分子材料と比較して分子サイズが十分に小さく、レジスト材料としての利用が期待できる材料特性を有する芳香族化合物を提供すること。
【解決手段】レゾルシノール系化合物と特定のアルデヒドを反応させることでダブルレゾルシンアレーン環構造を有する新規な芳香族化合物が得られることを見出した。 （もっと読む）

【課題】レジスト組成物用として有用な新規な化合物、該化合物を含有するポジ型レジスト組成物、および該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有するポジ型レジスト組成物であって、前記基材成分（Ａ）が、下記一般式（Ａ１−１）［式中、Ｐは、分子量５００〜２５００の多価フェノール化合物から（ｎ_１２＋１）個の−ＯＨを除いた基であり、Ｒ^１は酸解離性溶解抑制基であり、Ｒ^２は酸非解離性基であり、ｎ_１２は１〜３の整数である。］で表される化合物（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
［化１］
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【課題】高感度及び高解像度のフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】カリックスレゾルシナレン化合物と酸解離性溶解抑制基を有する化合物とを１〜３種の塩基性有機化合物を縮合剤として縮合し下記式（４）で表される化合物を合成し、これを高感度及び高解像度のフォトレジスト組成物に使用する。
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【課題】 うつ病などの治療薬として期待される新規化合物の中間体として有用なクロマノン化合物の工業的規模での製造を可能とする新規中間体および該化合物を用いる新規製造方法を提供する。
【解決手段】 式（１）で表される化合物：


［式中、破線は単結合または二重結合を表し、（ｉ）破線が二重結合であるとき、Ｒ¹は水素原子、エチル基、置換もしくは無置換のベンゼンスルホニル基等を表し、Ｒ²はｔｅｒｔ−ブチル基、置換もしくは無置換のベンジル基等を表し；（ｉｉ）破線が単結合であるとき、Ｒ¹は水素原子、エチル基、置換もしくは無置換のベンゼンスルホニル基等を表し、Ｒ²は水素原子、ｔｅｒｔ−ブチル基、置換もしくは無置換のベンジル基等を表す。］、および該化合物を用いるクロマノン化合物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】高感度、高解像度のフォトレジスト材料を提供する。
【解決手段】下記式（１）で表される１〜４種類の環状化合物が９０％以上含まれる組成物。


［式中、８個のＲ^１は、ｍ個（ｍは０〜７から選択される１〜４種類の整数）の水酸基と、ｎ個（ｎは８−ｍの１〜４種類の整数）の水酸基以外の同一の置換基である。］ （もっと読む）

【課題】化学増幅型ポジ型レジスト膜の成膜に好適に用いることができる感放射線性組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）一般式（１）で表される化合物と


と、（ｂ）Ｍ^＋Ｚ⁻で表される感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性組成物。 （もっと読む）