【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が一般式（１）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。ｍは１又は２である。なお、ｍ個の水酸基は三級炭素原子に結合する。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が下記一般式（１−１）〜（１−３）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位のいずれか１種以上を有する高分子化合物であることを特徴とするポジ型レジスト材料。


（式中、Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｘは単結合又はメチレン基を示す。Ｙは水酸基又はヒドロキシメチル基を示す。ｍは０、１又は２である。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に可溶となる樹脂成分（Ａ）と、活性光線又は放射線に感応して酸を発生する化合物（Ｂ）とを含有し、樹脂成分（Ａ）が一般式（１）で示される非脱離性の水酸基を含有する繰り返し単位を有する高分子化合物であるポジ型レジスト材料。


（Ｒ¹は水素原子、メチル基、又はトリフルオロメチル基を示す。Ｙは水素原子又は水酸基を示し、少なくとも１個のＹは水酸基である。波線は結合の向きが不特定であることを示す。）
【効果】本発明のポジ型レジスト材料は、微細加工技術、特にＡｒＦリソグラフィー技術において極めて高い解像性を有し、精密な微細加工に極めて有用である。 （もっと読む）

【課題】硬化性に優れ、帯電防止性、ハードコート性、透明性及び耐光性を保ちながら、１．５〜１．９の屈折率をもつ帯電防止用硬化性組成物、及びそれを用いた硬化膜とその積層体を提供する。
【解決手段】平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの導電性無機微粒子と、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子と、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基、および、未反応のエチレン性不飽和二重結合を有するアミノ基含有光硬化性化合物とを含有することを特徴とする帯電防止用硬化性組成物、該硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜、およびその積層体。 （もっと読む）

【化１】


放射線硬化性組成物及びインキジェットインキとの向上した適合性及びそれらの中での向上した溶解性を示し、且つ硬化後に光開始剤及びその残留物の抽出可能な量が少ない、基Ａ、Ｌ、Ｒ_１及びＲ_２が請求項１において規定される通りである式（Ｉ）に従う重合可能なノリッシュＩＩ型光開始剤ならびにそれを含有する放射線硬化性組成物及びインキジェットインキを開示する。
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【課題】レジスト膜の形成工程においてプリベークを必要とせず、さらに高感度、特に半導体レーザーを照射源とした最大発光波長が４００ｎｍ〜４１０ｎｍの範囲内にある活性エネルギー線に対して高感度かつパターン形成性が良好なポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】（Ａ）一般式（Ｉ）［式（Ｉ）中、Ｒ^１は水素原子または直鎖もしくは分岐鎖の炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ^２は置換もしくは非置換のアルキル基、置換もしくは非置換のアリール基または置換もしくは非置換のアラルキル基を表す。］で表される構造単位を有するビニル系重合体、（Ｂ）特定の構造で表される光酸発生剤、及び（Ｃ）特定の構造で表される増感色素を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
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本発明の対象は、一般式（Ｉ）で示され、その式中、Ｒ¹は、水素又はメチル基であり、Ｘは、酸素又は式ＮＲ′の基であり、その際、Ｒ′は、水素又は１〜６個の炭素原子を有する基であり、Ｒ²は、３〜３１個の炭素原子と少なくとも１個のアルデヒド基とを有する基である（メタ）アクリレートモノマーに関する。更に、本発明は、上述のモノマーの製造方法、該モノマー混合物から得られるポリマー並びに上述のポリマーを含有する被覆剤に関する。
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【課題】保護膜としての透明性が高く、ガラス基板や透明導電膜との密着性に優れ、高い表面硬度を示し、耐擦傷性に優れたタッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物とその形成方法に関する。
【解決手段】
（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、
（Ｂ）式（１）及び式（２）から選ばれる１つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物、
（Ｃ）感放射線性重合開始剤
を含むことを特徴とするタッチパネルの保護膜形成用感放射線性樹脂組成物とその形成方法によって達成される。 （もっと読む）

【課題】露光時に疎水性を有し、かつ、現像の際にレジスト膜表面の親水性が高くなる特性を有し、良好なレジストパターンを形成できるポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法の提供。
【解決手段】酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が増大する基材成分（Ａ）、および露光により酸を発生する酸発生剤成分（Ｂ）を含有し、前記基材成分（Ａ）は、一般式（ａ０−１）で表される基を含む構成単位（ａ０）を有する樹脂成分（Ａ１）を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。一般式（ａ０−１）中、Ｒ^２はメチル基、エチル基又はフッ素原子を有する有機基であり；−Ｏ−Ｒ^２はアルカリ現像液の作用により解離する基であり、−Ｃ（＝Ｏ）−の炭素原子は前記樹脂成分（Ａ１）の主鎖に直接結合していないものとする。
［化１］
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【課題】解像度に優れるパターンを与える化学増幅型ポジ型レジスト組成物の提供。
【解決手段】酸に不安定な基を側鎖に有する繰り返し単位及び式（Ｉ）で表される繰り返し単位を有する樹脂と、アルキルオキシカルボニル基を有するフルオロメタンスルホニルアニオンを有する酸発生剤とを含む化学増幅型ポジ型レジスト組成物。
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