帯電防止用硬化性組成物、硬化膜及び積層体
【課題】硬化性に優れ、帯電防止性、ハードコート性、透明性及び耐光性を保ちながら、１．５〜１．９の屈折率をもつ帯電防止用硬化性組成物、及びそれを用いた硬化膜とその積層体を提供する。
【解決手段】平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの導電性無機微粒子と、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子と、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基、および、未反応のエチレン性不飽和二重結合を有するアミノ基含有光硬化性化合物とを含有することを特徴とする帯電防止用硬化性組成物、該硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜、およびその積層体。
【解決手段】平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの導電性無機微粒子と、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子と、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基、および、未反応のエチレン性不飽和二重結合を有するアミノ基含有光硬化性化合物とを含有することを特徴とする帯電防止用硬化性組成物、該硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜、およびその積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート性と透明性を持った帯電防止用硬化性組成物ならびにその硬化膜およびその積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、情報通信機器の性能確保と安全対策の面から、機器の表面に、光硬化性組成物を用いて、耐擦傷性、密着性などを有するハードコート性塗膜や、帯電防止性塗膜を形成することが行われている。
【０００３】
近年、情報通信機器の発達と汎用化は目覚しいものがあり、ハードコート性塗膜、帯電防止性塗膜等の更なる性能向上及び生産性の向上が求められており、光硬化性材料を用いた様々な提案がされている。
【０００４】
例えば、以下のような技術提案を挙げることができる（特許文献１〜３参照）。特許文献１では、酸化スズなどの導電性粉末と複数のモノマー成分とを有機溶剤中、ボールミルなどを用いて導電性塗料を作製する方法が開示されている。特許文献２では、アンチモンドープ酸化スズと紫外線硬化性のあるシランカップリング剤とを有機溶剤中、ボールミルを用い導電性塗料用の分散体を作製する方法が開示されている。さらに特許文献３では、導電性酸化物微粉末を易分散性低沸点溶剤と難分散性高沸点溶剤の混合溶剤中に分散し導電性塗料を作製する方法が開示されている。
【０００５】
一方で、さらなる生産性向上を求めて上記のようなハードコート性・帯電防止性に加えて、反射防止性などをすべて一層で補う試みも多数行われており、ハードコート性・帯電防止性を持ちながら所定の屈折率に制御するという技術も提案されてきた（特許文献４〜７）。特許文献４では、導電性微粒子内に空洞を内包するようなコア／シェル型の微粒子を用いて、導電性無機微粒子自体の屈折率を低く制御する方法が開示されている。また、特許文献５では、導電性微粒子内にシリカを内包するようなコア／シェル型の微粒子を用いて、導電性無機微粒子自体の屈折率を低く制御する方法が開示されている。また、特許文献６では、導電性微粒子内に酸化チタンを内包するようなコア／シェル型の微粒子を用いて、導電性無機微粒子自体の屈折率を高く制御する方法が開示されている。さらに、特許文献７では、フッ素系樹脂を併用することによりバインダー樹脂の屈折率を制御して塗膜全体の屈折率を制御する方法が開示されている。
【特許文献１】特開平０４−１７２６３４号公報
【特許文献２】特開平０６−２６４００９号公報
【特許文献３】特開２００１−１３１４８５号公報
【特許文献４】特開２００２−２７９９１７号公報
【特許文献５】特開２００５−１１９９０９号公報
【特許文献６】特開２００２−３６３４４２号公報
【特許文献７】特開２００４−１２２６１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記方法により、ハードコート性、帯電防止性、耐光性などにおいて良好な物性を併せ持つ光硬化性組成物を作製することが可能となっても、有機溶剤など疎水性の高い媒体に対して、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の導電性無機微粒子を安定に一次粒子レベルで分散および安定化させうる効果を持たないため、塗膜の透明性や光硬化性塗料の経時安定性等の観点で問題を生じやすい。
【０００７】
また、塗膜の屈折率の調製方法として、導電性無機微粒子の塗膜中含有量を増減させることが一般的であるが、屈折率を下げるために導電性無機微粒子の塗膜中含有量を減らすと、塗膜の表面抵抗値は低下して所定の帯電防止性が得られないことがあり、また、屈折率を上げるために導電性無機微粒子の塗膜中含有量を増やすと、塗膜中のバインダー樹脂量が低下するため、成膜性が悪化し、所定のハードコート性が得られないことがある。
【０００８】
導電性無機微粒子自体の屈折率を所定の屈折率に制御する方法は、屈折率と帯電防止性をうまく両立できる方法であるが、合成方法が複雑化して生産効率の低下やコストの大幅な上昇を免れない。さらに、バインダー樹脂の屈折率を制御して塗膜全体の屈折率を制御する方法では、一般に用いられているハードコート性バインダー樹脂の屈折率は選択の幅が狭く、無理に屈折率を変えようとするとハードコート性の著しい低下やコストの大幅な上昇、さらには他のバインダー成分との相溶性の悪化に直結することが懸念される。
【０００９】
そこで、本発明は、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の導電性無機微粒子を含有しながら、帯電防止性、ハードコート性、透明性及び耐光性の全てにおいて優れた物性を併せ持つ塗膜を形成可能な経時安定性のある帯電防止用硬化性組成物、また、その帯電防止用硬化性組成物の屈折率を１．５〜１．９の間で自由にかつ簡便に変化させることのできる帯電防止用硬化性組成物、及びそれらを用いた硬化膜とその積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの導電性無機微粒子と、
平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子と、
エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基、および、未反応のエチレン性不飽和二重結合を有する、アミノ基含有光硬化性化合物と、
を含有する帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１１】
また、本発明は、導電性無機微粒子が、アンチモン、インジウム、スズ及び亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする上記帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１２】
また、本発明は、導電性無機微粒子が、絶縁性金属酸化物および／または加水分解性の有機金属化合物で表面処理されていないものであることを特徴とする上記帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１３】
また、本発明は、高屈折率微粒子が、チタン、ジルコニウム、セリウム、バリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１４】
また、本発明は、高屈折率微粒子表面が、酸性処理および／または疎水化処理されていることを特徴とする帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１５】
また、本発明は、アミノ基含有光硬化性化合物が、光硬化後の鉛筆硬度がＨ以上になるアクリレート化合物またはメタクリレート化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させたものであることを特徴とする帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１６】
また、本発明は、アミノ基含有光硬化性化合物が、アクリレート化合物またはメタクリレート化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを、前記アクリレート化合物またはメタクリレート化合物中のエチレン性不飽和二重結合１００モルに対して、第一級アミンまたは第二級アミンが０．５〜５０モルとなる比率で反応させたものであることを特徴とする帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１７】
また、本発明は、アミノ基含有光硬化性化合物が、下記一般式（１）で表される化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させたものであることを特徴とする帯電防止用硬化性組成物に関する。
一般式（１）
【００１８】
【化１】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ5〜Ｒ8は、それぞれ独立に非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｒ9は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
【００１９】
また、本発明は、第一級アミンまたは第二級アミンが、脂肪族モノアミンであることを特徴とする上記帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００２０】
また、本発明は、さらに、溶剤を含み、かつ溶剤が、全溶剤に対して１０〜１００重量％の水酸基含有溶剤を含むことを特徴とする上記帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００２１】
また、本発明は、上記帯電防止用硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜に関する。
【００２２】
また、本発明は、表面抵抗値が、１×１０12Ω／□以下であることを特徴とする上記硬化膜に関する。
【００２３】
また、本発明は、硬化膜の厚さが、０．１〜３０μｍであることを特徴とする上記硬化膜に関する。
【００２４】
また、本発明は、硬化膜の屈折率が、１．５〜１．９の範囲であることを特徴とする上記記載の硬化膜に関する。
【００２５】
また、本発明は、基材上に上記硬化膜を形成させてなる積層体に関する。
【００２６】
また、本発明は、基材が、プラスチック基材であることを特徴とする上記積層体に関する。
【００２７】
また、本発明は、情報記録層を含む上記積層体に関する。
【００２８】
また、本発明は、反射防止膜である上記積層体に関する。
【００２９】
また、本発明は、上記帯電防止用硬化性組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させてなる硬化膜の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の帯電防止用硬化性組成物は、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させてなるアミノ基含有光硬化性化合物と、導電性無機微粒子と、さらに高屈折率微粒子とを含有するため、硬化性に優れ、帯電防止性、ハードコート性、透明性及び耐光性にすぐれ、さらに以上の物性を維持したまま自由に屈折率を調節できる硬化膜及びその積層体を形成することが可能であり、特にプラスチック光学部品、光ディスク、反射防止膜、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチック積層体等のハードコート剤に好適である。さらには調節可能な屈折率の上限が高く、基材に、より高屈折率の塗膜を塗布し、その上に、低屈折率層を塗布した積層体である反射防止膜は、視感反射率が低く、光学用途に好適に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
まず、本発明の帯電防止用硬化性組成物について説明する。
本発明の帯電防止用硬化性組成物は、少なくとも平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの導電性無機微粒子と、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子と、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基、および、未反応のエチレン性不飽和二重結合を有するアミノ基含有光硬化性化合物とを含有するものであり、二種類以上の導電性無機微粒子および／または高屈折率微粒子と、二種類以上のアミノ基含有光硬化性化合物をそれぞれ含んでも良い。またさらに光重合開始剤を含むことも好ましい。
【００３２】
本発明において、平均一次粒子径は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等によって直接粒子自身の粒子径を測定することによって得られる。
【００３３】
導電性無機微粒子の平均一次粒子径が５ｎｍ未満の場合、微粒子同士の凝集力が非常に大きいことから一次粒子を維持する分散は困難であり、透明性の高い塗液を得ることは難しい。また、平均一次粒子径が１００ｎｍを超える場合、一次粒子を維持する分散は容易になるが、粒子径が大きいことから可視光などの光に対して散乱が生じ易く硬化膜の透明性を悪化させる問題が生じる。
【００３４】
導電性無機微粒子としては、アンチモン、インジウム、スズ、亜鉛、アルミニウム、チタニウム、ガリウム、リン及びフッ素からなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものが好ましい。特に、アンチモン、インジウム、スズおよび亜鉛のいずれか一種の元素を含有するものは、導電性も良好であることからより好ましい。また、元素を含有する形態は、金属酸化物が好ましく、具体的には、五酸化アンチモン、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化スズ、ＡＴＯ被覆酸化チタン、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛等が挙げられる。これらの導電性無機微粒子は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００３５】
導電性無機微粒子の市販品としては、日産化学工業製：サンエポックＥＦＲ−６Ｎ、サンエポックＥＦＲ−６ＮＰ（五酸化アンチモン）、石原産業製：ＳＮ−１００Ｐ（ＡＴＯ）、ＦＳ−１０Ｐ（ＡＴＯ）、ＳＮ−１０２Ｐ（ＡＴＯ）、ＦＳ−１２Ｐ（ＡＴＯ）、ＥＴ−３００Ｗ（ＡＴＯ被覆酸化チタン）、三菱マテリアル製：Ｔ−１（ＩＴＯ）、Ｓ−１２００、Ｓ−２０００（酸化スズ）、ＥＰ Ｔ−１−５Ｌ（ＡＴＯ）、ＥＰ ＳＰ−２（ＰＴＯ）、三井金属製：パストラン（ＩＴＯ、ＡＴＯ）、シーアイ化成製：ナノテックＩＴＯ、ナノテックＳｎＯ2、触媒化成工業製：ＴＬ−２０（ＡＴＯ）、ＴＬ−３０（ＡＴＯ）、ＴＬ−３０Ｓ（ＰＴＯ）、ＴＬ−１２０（ＩＴＯ）、ＴＬ−１３０（ＩＴＯ）、ハクスイテック製：ＰａｚｅｔＣＫ（アルミニウムドープ酸化亜鉛）、ＰａｚｅｔＧＫ（ガリウムドープ酸化亜鉛）、堺化学工業製：ＳＣ−１８（アルミニウムドープ酸化亜鉛）等が挙げられる。
【００３６】
さらに、導電性無機微粒子が、溶剤または水に分散された市販の導電性無機微粒子分散体としては、石原産業製：ＳＮＳ−１０Ｍ（ＡＴＯ）、ＳＮＳ−１０Ｔ（ＡＴＯ）、ＦＳＳ−１０Ｍ（ＡＴＯ）、ＦＳＳ−１０Ｔ（ＡＴＯ）、日産化学工業製：セルナックスＣＸ−Ｚ６０３Ｍ−Ｆ２（ＡＺＯ）、セルナックスＣＸ−Ｚ６１０Ｍ−Ｆ２（ＡＺＯ）、セルナックスＣＸ−Ｚ２１０ＩＰ−Ｆ（ＡＺＯ）、セルナックスＣＸ−Ｚ２１０ＩＰ−Ｆ２（ＡＺＯ）、セルナックスＣＸ−Ｚ４１０Ｍ−Ｆ（ＡＺＯ）、セルナックスＣＸ−Ｚ４０１Ｍ−Ｆ（ＡＺＯ）、ＨＸ−３０５Ｍ５、ＨＩＴ−３０１Ｍ１、ＡＴＭ−３３０Ｓ、ＨＸ−３０５Ｍ５、触媒化成工業製：ＥＬＣＯＭ Ｐ−３０（ＡＴＯ）、ＥＬＣＯＭ Ｐ−３２（ＡＴＯ）、ＥＬＣＯＭ Ｐ−３５（ＰＴＯ）、ＥＬＣＯＭ Ｐ−４５（五酸化アンチモン）、ＥＬＣＯＭ Ｐ−１２０（ＩＴＯ）、ＥＬＣＯＭ Ｐ−１３０（ＩＴＯ）等が挙げられる。
【００３７】
本発明の帯電防止用硬化性組成物に含有される導電性無機微粒子は、絶縁性金属酸化物および／または加水分解性の有機金属化合物によって表面処理されていないものであることが好ましい。
絶縁性金属酸化物としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が挙げられる。
【００３８】
加水分解性の有機金属化合物としては、一般式R1nMm（OR2）m-n［式中、R1、R2：アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基、メタクリル基、アミノ基、グリシジル基、メルカプト基、などの官能基を含む炭化水素基、M：金属原子、ｍ＝元素の配位数、ｎ＝０、１、２、または３］で表されるケイ素、チタニウム、ジルコニウム、アルミニウムなどのアルコキシド、または金属ジケトネート類が挙げられる。
【００３９】
導電性無機微粒子表面が絶縁性金属酸化物および／または加水分解性の有機金属化合物で処理されていると、導電性無機微粒子自体の導電性は低下してしまい、高屈折率微粒子と混合した場合、さらに導電性が低下しやすくなる。特に、プロトン伝導性と言われる五酸化アンチモンの場合、微粒子表面を絶縁性金属酸化物で処理されると導電性に関与している五酸化アンチモン表面の酸性プロトンが減少することとなり、導電性を阻害しやすくなるため、できる限り絶縁性金属酸化物および／または加水分解性の有機金属化合物で表面処理をされていないことが好ましい。
【００４０】
本発明の、帯電防止用硬化性組成物中の高屈折率微粒子は、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの範囲であることが好ましい。高屈折率微粒子の平均一次粒子径が５ｎｍ未満の場合、微粒子同士の凝集力が非常に大きいことから一次粒子を維持する分散は困難であり、透明性の高い塗液を得ることは難しい。また、平均一次粒子径が１００ｎｍを超える場合、一次粒子を維持する分散は容易になるが、粒子径が大きいことから可視光などの光に対して散乱が生じ易く硬化膜の透明性を悪化させる問題が生じる
高屈折率微粒子としては、チタン、ジルコニウム、セリウム、バリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものが好ましい。特に、チタン、ジルコニウムのいずれか一種の元素を含有するものは、屈折率も高いことからより好ましい。また、元素を含有する形態は、金属酸化物が好ましく、具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、チタン酸バリウム等が挙げられる。これらの高屈折率微粒子は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００４１】
高屈折率微粒子の市販品としては、
石原産業製：ＥＴ−３００Ｗ（ＡＴＯ被覆酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ａ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｂ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｃ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｄ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｓ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｎ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５１（Ａ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５１（Ｃ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−１（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−２（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−３（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−４（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｖ−３（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｖ−４（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｄ−１（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｄ−２（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−１（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−２（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−３（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−１１（鉄含有酸化チタン）、ＳＴ−０１（酸化チタン）、ＳＴ−２１（酸化チタン）、ＳＴ−３０Ｌ（酸化チタン）、ＳＴ−３１（酸化チタン）、
テイカ製：ＭＴ−０１（酸化チタン）、ＭＴ−０５（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＴＶ（酸化チタン）、ＭＴ−１００Ｚ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＺＲ（酸化チタン）、ＭＴ−１５０Ｗ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＡＱ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＳＡ（酸化チタン）、ＭＴ−５００Ｈ（酸化チタン）、ＭＴ−５００Ｔ（酸化チタン）、ＭＴ−５００Ｂ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＳＡ（酸化チタン）、ＭＴ−０２（酸化チタン）、ＭＴ−０３（酸化チタン）、ＭＴ−０４（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＳＡＫ（酸化チタン）、ＳＭＴ−１００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＳＭＴ−１００ＳＡＭ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＳＡＫ（酸化チタン）、ＳＭＴ−５００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＳＭＴ−５００ＳＡＭ（酸化チタン）、ＭＴＹ−０２（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＨＤ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＨＤ（酸化チタン）、
堺化学製：ＳＴＲ−６０Ｃ（酸化チタン）、ＳＴＲ−６０Ｃ−ＬＰ（酸化チタン）、ＳＴＲ−１００Ｃ（酸化チタン）、ＳＴＲ−１００Ａ（酸化チタン）、ＳＴＲ−１００Ｃ−ＬＰ（酸化チタン）、住友大阪セメント製：ＯＺＣ−３ＹＣ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−３ＹＤ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−３ＹＦＡ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−８ＹＣ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−０Ｓ１００（酸化ジルコニウム）、日本電工製：ＰＣＳ（酸化ジルコニウム）、Ｔ−０１（酸化ジルコニウム）、シーアイ化成製：ＮａｎｏＴｅｋ Ｓｅｒｉｅｓ（酸化チタン、酸化セリウム）、堺化学製：ＢＴ Ｓｅｒｉｅｓ（チタン酸バリウム）、共立マテリアル製：ＢＴ Ｓｅｒｉｅｓ（チタン酸バリウム）などが挙げられる。
【００４２】
さらに、始めから平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子が、有機溶剤または水に分散された市販の高屈折率微粒子分散体を使用することができる。例えば、
シーアイ化成製：ＮａｎｏＴｅｋ Ｓｌｕｒｒｙ Ｓｅｒｉｅｓ（酸化チタン、酸化セリウム）、触媒化成製：ＱＵＥＥＮＴＩＴＡＮＩＣ Ｓｅｒｉｅｓ（酸化チタン）、日産化成製：ナノユースＺＲ−４０ＢＬ（酸化ジルコニウム）、ナノユースＺＲ−３０ＢＳ（酸化ジルコニウム）、ナノユースＺＲ−３０ＢＨ（酸化ジルコニウム）、ナノユースＺＲ−３０ＡＬ（酸化ジルコニウム）、ナノユースＺＲ−３０ＢＨ（酸化ジルコニウム）などが挙げられる。
【００４３】
高屈折率微粒子表面が、酸性処理および／または疎水化処理されていることが好ましい。導電性微粒子の表面は、酸性を示す場合が多く、また、高屈折率微粒子の表面は塩基性を示す場合が多いため、未処理のときは、両微粒子の相溶性が悪くなり沈殿が生ずる場合があり、保存安定性の悪化および／または塗膜の白化の原因となることがある。また、高屈折率微粒子が酸化チタンの場合は、表面が処理されていないと、酸化チタンの有する光触媒活性のため、塗膜中の有機分を分解する恐れがあるため、酸性処理および／または疎水化処理されていることが特に好ましい。また、高屈折率微粒子が酸化チタンの場合は、前記の処理が施されていると、光触媒活性を抑えつつ、紫外線吸収能を発揮することができるため、導電性微粒子のみの硬化性組成物よりも、耐光性に勝る場合がある。
【００４４】
酸性処理の処理剤としては、アンチモン酸、フェニルホスホン酸、ポリアクリル酸、ポリリン酸、ヘテロポリ酸などが挙げられる。
【００４５】
疎水化処理の方法としては、一般式R1nMm（OR2）m-n［式中、R1、R2：アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基、メタクリル基、アミノ基、グリシジル基、メルカプト基、などの官能基を含む炭化水素基、M：金属原子、ｍ＝元素の配位数、ｎ＝０、１、２、または３］で表されるケイ素、チタニウム、ジルコニウム、アルミニウムなどのアルコキシド、または金属ジケトネート類での処理が挙げられる。
【００４６】
具体的な処理剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどの有機ケイ素化合物、アルミニウム（III）ｎ−ブトキシド、アルミニウム（III）２，４−ペンタンジオネート、ジエチルアルミニウムエトキシドなどの有機アルミニウム化合物、チタニウムｎ−ブトキシド、チタニウムオキシドビス（ペンタンジオネート）、チタニウムジブトキシド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）などの有機チタニウム化合物、ジルコニウムｎ−ブトキシド、ジルコニウム２，４−ペンタンジオネート、ジルコニウムジブトキシド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）などの有機ジルコニウム化合物が挙げられる。
【００４７】
市販の有機ケイ素化合物としては、例えば、信越化学工業製：ＫＢＭ０４、ＫＢＥ０４、ＫＢＭ１３、ＫＢＥ１０３、ＫＡ１００３、ＫＢＭ１００３、ＫＢＥ１００３、ＫＢＭ３０３、ＫＢＭ４０３、ＫＢＥ４０２、ＫＢＥ４０３、ＫＢＭ５０２、ＫＢＭ５０３、ＫＢＥ５０２、ＫＢＥ５０３、ＫＢＭ５１０３、ＫＢＭ６０２、ＫＢＭ６０３、ＫＢＥ６０３、ＫＢＭ９０３、ＫＢＥ９０３、ＫＢＭ５７３、ＫＢＭ７０３、ＫＢＭ８０３、ＫＢＭ１４０３、ＬＳ５５８０などが挙げられる。また、市販の有機チタニウム化合物としては、味の素ファインテクノ製：ＫＲ ＴＴＳ、ＫＲ ４６Ｂ、ＫＲ ５５、ＫＲ ４１Ｂ、ＫＲ ３８Ｓ、ＫＲ １３８Ｓ、３３８Ｘ、ＫＲ ４４、ＫＲ ９ＳＡ、ＫＲ ＥＴなどが挙げられる。さらに、市販の有機アルミニウム化合物としては、味の素ファインテクノ製：ＡＬ−Ｍなどが挙げられる。
【００４８】
アミノ基含有光硬化性化合物は、上記導電性無機微粒子の分散剤として機能するものであり、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基（アミノ基）と、未反応のエチレン性不飽和二重結合とを含むものである。また、ここで、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとの反応は、マイケル付加反応を用いることができる。また、このアミノ基含有光硬化性化合物のエチレン性不飽和二重結合は、アクリレート基またはメタクリレート基由来のものであることが好ましい。
【００４９】
ここで、「第一級アミンまたは第二級アミン」は、第一級アミンおよび第二級アミンの双方を含む、または使用する場合を含む概念である。同様に、「アクリレート基またはメタクリレート基」は、アクリレート基およびメタクリレート基の双方を含む、または使用する場合を含む概念である。以下、アクリレートとメタクリレートをまとめて「（メタ）アクリレート」と記載する場合がある。
【００５０】
さらに、このアミノ基含有光硬化性化合物は、光硬化後の鉛筆硬度がＨ以上になるアクリレート化合物またはメタクリレート化合物と、第一級または第二級アミンとを反応させてなる化合物であることが好ましい。この（メタ）アクリレート化合物は、光硬化後の鉛筆硬度が２Ｈ以上になるものであることがより好ましく、３Ｈ以上になるものであることがさらに好ましい。
ここで、光硬化後とは、基材上に、帯電防止用硬化性組成物を塗布し、その塗膜上に、紫外線を照射させ光硬化反応を起こさせた後の状態をさす。
また、鉛筆硬度とは、ＪＩＳ−Ｋ５６００に準拠し(基材:厚み１００μｍの易接着処理ＰＥＴフィルム、荷重：５００ｇ)、鉛筆硬度試験機（ＨＥＩＤＯＮ社製ＳｃｒａｔｃｈｉｎｇＴｅｓｔｅｒ ＨＥＩＤＯＮ−１４）を用い、膜厚１０μｍの硬化膜に傷が発生しない鉛筆の濃度記号をいう。
【００５１】
光硬化後の鉛筆硬度がＨ未満になる（メタ）アクリレート化合物と、第一級または第二級アミンとを反応させてなるアミノ基含有光硬化性化合物を含有させた場合、導電性微粒子の分散性には大きな問題がないことから、光硬化後の硬化膜の透明性は良好であるが、ハードコート性が不足する可能性があり、ＬＣＤなどの表面層のようなハードコート性が必要な用途への使用が困難になる場合がある。
【００５２】
光硬化後の硬化膜の鉛筆硬度がＨ以上になる（メタ）アクリレート化合物としては、３個以上のアクリロイル基を含有する多官能アクリレート化合物、または３個以上のメタクリロイル基を含有する多官能メタクリレート化合物が、光硬化性も良好であり好ましい。
【００５３】
光硬化後の硬化膜の鉛筆硬度がＨ以上になる（メタ）アクリレート化合物のうち、モノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）などが挙げられる。オリゴマーまたはポリマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。特に、導電性微粒子の分散性がより良好になることから、分子量１０００〜２００００の化合物であることが好ましく、分子量１０００〜２００００のポリエステルアクリレート化合物、エポキシアクリレート化合物、またはウレタンアクリレート化合物がより好ましい。
【００５４】
光硬化後の硬化膜の鉛筆硬度がＨ以上になる（メタ）アクリレート化合物として、市販の化合物を使用することが可能である。具体的には、以下の製品が挙げられる。
【００５５】
東亜合成（株）製：アロニックスＭ−４００、アロニックスＭ−４０２、アロニックスＭ−４０８、アロニックスＭ−４５０、アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−８０３０、アロニックスＭ−８０６０、
大阪有機化学工業（株）製：ビスコート♯４００、
化薬サートマー（株）製：ＳＲ−２９５、
ダイセルＵＣＢ（株）製：ＤＰＨＡ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ １２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ５１２９、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ ６６０２、
新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡ-ＴＭＭＴ、ＮＫオリゴＥＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＭＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３１０、ＮＫオリゴＥＡ−６３２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３４０、ＮＫオリゴＭＡ−６、ＮＫオリゴＵ−４ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−６ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−３２４Ａ、
ＢＡＳＦ社製：ＬａｒｏｍｅｒＥＡ８１、
サンノプコ（株）製：フォトマー３０１６、
荒川化学工業（株）製：ビームセット３７１、ビームセット５７５、ビームセット５７７、ビームセット７００、ビームセット７１０、
根上工業（株）製：アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ−９０００Ｈ、アートレジンＵＮ−９０１Ｔ、
日本合成化学工業（株）製：紫光ＵＶ−７６００Ｂ、紫光ＵＶ−７６１０Ｂ、紫光ＵＶ−７６２０ＥＡ、紫光ＵＶ−７６３０Ｂ、紫光ＵＶ−１４００Ｂ、紫光ＵＶ−１７００Ｂ、紫光ＵＶ−６３００Ｂ、
共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＰＥ−４Ａ、ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、
日本化薬（株）製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０。
【００５６】
さらに、本発明で用いることのできるアミノ基含有光硬化性化合物としては、例えば、下記一般式（１）で表される化合物と、第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた化合物を挙げることができる。
一般式（１）
【００５７】
【化２】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ5〜Ｒ8は、それぞれ独立に非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｒ9は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
式中、Ｒ9の４価の脂肪族骨格としては、炭素鎖数４〜１０のアルキル骨格である４価の脂肪族基が挙げられ、具体的にはブタン骨格、シクロブタン骨格、ヘキサン骨格、シクロヘキサン骨格、デカリン骨格などが挙げられる。さらに、Ｒ9の４価の芳香族基としては、具体的にはフェニル骨格、ベンゾフェノン骨格、ビフェニル骨格、フェニルエーテル骨格、ジフェニルスルホン骨格、ジフェニルスルフィド骨格、ペリレン骨格、フルオレン骨格、テトラヒドロナフタレン骨格及びナフタレン骨格などが挙げられる。
【００５８】
一般式（１）で表される化合物は、例えば、脂肪族骨格または芳香族骨格、及び２つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物（ｘ１）と、カルボン酸無水物基と反応しうる官能基を有する化合物（ｘ２）とを反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｘ）と、カルボキシル基と反応しうる官能基を有する化合物（Ｙ）とを反応させて得られる。
【００５９】
ここで、化合物（ｘ２）における「カルボン酸無水物基と反応しうる官能基」としては、ヒドロキシ基、アミノ基、グリシジル基などが挙げられるが、反応の制御のし易さから、ヒドロキシ基が特に好ましい。また、化合物（Ｙ）における「カルボキシル基と反応しうる官能基」としては、エポキシ基、オキサゾリン基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボジイミド基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ビニルエーテル基などが挙げられる。
【００６０】
さらに、一例を挙げて説明する。脂肪族骨格または芳香族骨格、及び２つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物（ｘ１）である下記一般式（２）：
一般式（２）
【００６１】
【化３】
（ここで、Ｒ9は、一般式（１）で定義した通り）
で示される脂肪族または芳香族テトラカルボン酸二無水物を、カルボン酸無水物基と反応しうる官能基を有する化合物（ｘ２）である、下記一般式（３）：
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）ＣＯＯＲ5ＯＨ 一般式（３）
（ここで、Ｒ1およびＲ5は、式（１）で定義した通り）
で示される第１のヒドロキシル基含有アクリレート化合物またはメタクリレート化合物、および下記一般式（４）：
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ2）ＣＯＯＲ6ＯＨ 一般式（４）
（ここで、Ｒ2およびＲ6は、式（１）で定義した通り）
で示される第２のヒドロキシル基含有アクリレート化合物またはメタクリレート化合物と反応させて、下記一般式（５）：
一般式（５）
【００６２】
【化４】
（ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ6およびＲ9は、式（１）で定義した通り）
で示される化合物（Ｘ）を得ることができる。
【００６３】
上記一般式（２）で示される脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、ブタンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００６４】
一方、芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニル骨格を有するビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン骨格を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物等、フルオレン骨格を有する９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物、あるいは、９，９−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］フルオレン二無水物、テトロヒドロナフタレン骨格を有するテトラヒドロナフタレンカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート等が挙げられる。市販品としては新日本理化株式会社製「リカシッドＴＭＴＡ−Ｃ」、「リカシッドＭＴＡ−１０」、「リカシッドＭＴＡ−１５」、「リカシッドＴＭＥＧシリーズ」、「リカシッドＴＤＡ」、「リカシッドＤＳＤＡ」、などが挙げられる。
【００６５】
これら芳香族テトラカルボン酸二無水物のうち、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物は、ビフェニル骨格を有するものであり、ビフェニル骨格を式（１）で示される化合物の分子内に効率よく導入でき、さらに硬化膜のハードコート性と導電性微粒子の良好な分散性を併せ持つことができるため、特に好ましい。
【００６６】
第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート化合物、互いに同じであっても異なっていてもよい。そのようなヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート化合物の例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ジヒドロキシアクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。硬度を上げる用途の場合は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が好ましい。
【００６７】
具体的な市販品としては、ビスコート＃３００（大阪有機化学工業株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬株式会社製）、ＰＥＴＩＡ（ダイセルＵＣＢ（株）製）、アロニックスＭ３０５（東亞合成株式会社製）、ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭＮ（新中村化学工業株式会社製）、ライトアクリレートＰＥ−３Ａ（共栄社化学株式会社製）、ＳＲ−４４４（サートマー株式会社製）、ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ（共栄社化学株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）、アロニックスＭ４０２（東亞合成株式会社製）等が挙げられる。特に、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートを主成分とするＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬株式会社製）は、導電性微粒子の分散性が良好であることからより好ましい。多官能（メタ）アクリレート化合物の場合、副成分として水酸基を２個持つ多官能（メタ）アクリレートを５〜１５％程度含有することにより、得られるアミノ基含有光硬化性化合物の硬化後の重量平均分子量が高分子量化する傾向にあり、導電性微粒子の分散性もより良好になることから好ましい。
【００６８】
上記脂肪族または芳香族テトラカルボン酸二無水物と、第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート化合物との反応は、脂肪族または芳香族テトラカルボン酸二無水物の有する２つのカルボン酸無水物基と、第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート化合物がそれぞれ有するヒドロキシル基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物と第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート化合物とを、シクロヘキサノンのような有機溶媒中、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンのような触媒の存在下、５０〜１２０℃の温度で反応させることができる。この場合、反応系に、メトキノン（methoquinone）のような重合禁止剤を添加することができる。
【００６９】
上記反応後、反応生成物である式（５）の化合物（Ｘ）を含む反応混合物に、これを精製することなく、例えば、化合物（Ｙ）である下記一般式（６）：
一般式（６）
【００７０】
【化５】
（ここで、Ｒ0は、ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ3）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−基およびＣＨ2＝Ｃ（Ｒ4）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−基；Ｒ3およびＲ4は、上記定義の通り）
であるエポキシ基含有化合物を添加し、反応させて一般式（１）で示される化合物を得ることができる（この場合、Ｒ7およびＲ8は、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−基である。）。
【００７１】
式（６）で示される化合物の例には、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートのようなエポキシ基含有（メタ）アクリレート；ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル、ｐ−フェニルフェノールグリシジルエーテル、モノスチレン化フェノールグリシジルエーテル、４−シアノ−４−ヒドロキシビフェニルグリシジルエーテル、４，４'−ビフェノールモノグリシジルエーテル、４，４'−ビフェノールジグリシジルエーテルのような芳香族グリシジルエーテル化合物等が含まれる。
【００７２】
式（５）で示される化合物と式（６）で示される化合物との反応は、式（５）で示される化合物の有するカルボキシル基と式（６）で示される化合物の有するエポキシ基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、この反応は、ジメチルベンジルアミン等のようなアミン触媒の存在下、５０〜１２０℃の温度で行なうことができる。
【００７３】
これらの反応は、無溶媒で行なってもよく、あるいは反応に対して不活性な溶媒中で行なってもよい。かかる溶媒としては、例えば、ｎ−ヘキサン、ベンゼンまたはトルエン等の炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトンまたはメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；酢酸エチルまたは酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン等のエーテル系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンまたはパークレン等のハロゲン系溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン等の極性溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００７４】
アミノ基含有光硬化性化合物を構成する第一級または第二級アミンは、一分子中に第一級アミノ基または第二級アミノ基を少なくとも１個有するアミン化合物であり、剛直性の少ない脂肪族アミンがより好ましい。さらに、分子内に第一級または第二級アミノ基を２個以上有するアミン化合物を用いた場合、アミン化合物１分子に対して複数のアクリレート化合物またはメタクリレート化合物が複雑に反応するため、反応物は高分子量化し、ゲル化しやすい問題を有する。そのため、（メタ）アクリレート化合物に対するアミン化合物の添加量を低減させたり、反応条件などを制御したりすることにより、汎用性のあるアミノ基含有光硬化性化合物を得ることが好ましい。そのため本発明で用いる第一級または第二級アミンは、一分子中に第一級アミノ基または第二級アミノ基を１個有するアミン化合物（本発明では、脂肪族モノアミンと呼ぶ）であることがより好ましい。
【００７５】
アミン化合物は、（メタ）アクリレート化合物と反応しない、アミノ基以外の他の極性官能基を有しても良い。このような極性官能基としては、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、シアノ基、ニトロキシル基などが挙げられる。
【００７６】
アミノ基含有光硬化性化合物を構成する第一級アミンのうち、モノアミンとしては、アミノメタン、アミノエタン、１−アミノプロパン、２−アミノプロパン、１−アミノブタン、２−アミノブタン、１−アミノペンタン、２−アミノペンタン、３−アミノペンタン、イソアミルアミン、１−アミノヘキサン、１−アミノヘプタン、２−アミノヘプタン、２−オクチルアミン、１−アミノオクタン、１−アミノノナン、１−アミノデカン、１−アミノドデカン、１−アミノトリデカン、１−アミノヘキサデカン、ステアリルアミン、アミノシクロプロパン、アミノシクロブタン、アミノシクロペンタン、アミノシクロヘキサン、アミノシクロドデカン、１−アミノ−２−エチルヘキサン、１−アミノ−２−メチルプロパン、２−アミノ−２−メチルプロパン、３−アミノ−１−プロペン、３−アミノメチルヘプタン、３−イソプロポキシプロピルアミン、３−ブトキシプロピルアミン、３−イソブトキシプロピルアミン、２−エチルヘキシロキシプロピルアミン、３−デシロキシプロピルアミン、３−ラウリロキシプロピルアミン、３−ミリスチロキシプロピルアミン、２−アミノメチルテトラヒドロフラン、アニリン、ｏ−アミノトルエン、ｍ−アミノトルエン、ｐ−アミノトルエン、ｏ−ベンジルアニリン、ｐ−ベンジルアニリン、１−アニリノナフタレン、１−アミノアントラキノン、２−アミノアントラキノン、１−アミノアントラセン、２−アミノアントラセン、５−アミノイソキノリン、ｏ−アミノジフェニル、４−アミノジフェニルエーテル、２−アミノベンゾフェノン、４−アミノベンゾフェノン、ｏ−アミノアセトフェノン、ｍ−アミノアセトフェノン、ｐ−アミノアセトフェノン、ベンジルアミン、α−フェニルエチルアミン、フェネシルアミン、ｐ−メトキシフェネシルアミン、ｐ−アミノアゾベンゼン、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、アリルアミン等が挙げられる。
【００７７】
アミノ基含有光硬化性化合物を構成する第二級アミンのうち、モノアミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジヘキシルアミン、ジオクチルアミン、Ｎ−メチルエチルアミン、Ｎ−メチルイソプロピルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジsec−ブチルアミン、Ｎ−エチルイソアミルアミン、Ｎ−エチル−１,２−ジメチルプロピルアミン、ピペリジン、２−ピペコリン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、２,４−ルペチジン、２,６−ルペチジン、３,５−ルペチジン、３−ピペリジンメタノール、ピペコリニックアシッド、イソニペコチックアシッド、メチルイソニペコテート、エチルイソニペコテート、２−メチルアミノエタノール、３−メチルアミノ−１,２−プロパンジオール、１−ピペラジンエタノール、２−ピペリジンエタノール、４−ピペリジンエタノール、４−ピペリジンブチリックアシッド塩酸塩、４−ピペリジノール、ピロリジン、３−ピロリジノール、インドリン、Ｎ−ブチルアニリン、Ｎ−メチルベンジルアミン、３−ベンジルアミノプロピオニックアシッドエチルエーテル、４−ベンジルピペリジン、ジフェニルアミン等が挙げられる。
【００７８】
さらに、アミノ基含有光硬化性化合物を構成する第一級アミンおよび第二級アミンのうち、分子内にアミノ基を複数有するアミン化合物の例としては、３−アミノピロリジン、ジメチルアミノエチルアミン、エチルアミノエチルアミン、ジエチルアミノエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノエチルアミン、１,２−ジアミノプロパン、１,３−ジアミノプロパン、メチルアミノプロピルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノプロピルアミン、２−ヒドロキシエチルアミノプロピルアミン、ビス−（３−アミノプロピル）エーテル、ジメチルアミノエトキシプロピルアミン、１，２−ビス−（３−アミノプロポキシ）エタン、１，３−ビス−（３−アミノプロポキシ）−２，２−ジメチルプロパン、１，２−ジアミノブタン、１，４−ジアミノブタン、ラウリルアミノプロピルアミン、ジエタノールアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペリジン、Ｎ−アミノエチル４−ピペコリン、Ｎ−アミノプロピルピペリジン、Ｎ−アミノプロピル−２−ピペコリン、Ｎ−アミノプロピル−４−ピペコリン、Ｎ−アミノエチルモルフォリン、Ｎ−アミノプロピルモルフォリン、イミノビスプロピルアミン、メチルイミノビスプロピルアミン、４−ピペリジンカルボキシアミド、４−アミノメチル−１−ブチルピペリジン、４−アミノメチルピペリジン、１,３−ジ−（４−ピペリジル）−プロパン、４−ピペリジノピペリジン、Ｎ−アミノプロピルアニリン、３−アミノピロリジン、Ｎ−メチルピペラジン、Ｎ−エチルピペラジン、Ｎ−アリルピペラジン、Ｎ−イソブチルピペラジン、Ｎ−アミノプロピルピペラジン、１−シクロペンチルピペラジン、Ｎ−フェニルピペラジン、１−（２−ピリジル）ピペラジン、１−（４−ピリジル）ピペラジン、ホモピペラジン、Ｎ−メチルホモピペラジン等が挙げられる。
上記に示すアミン化合物は、単独で用いられるほか、二種類以上を併用して用いてもよい。
【００７９】
なかでも、第二級アミノ基のみを有する脂肪族モノアミンは、導電性微粒子の分散性も良好であり、かつ、マイケル付加反応が一段階で終了し、反応による着色が少ないため好ましい。
【００８０】
第二級アミノ基のみを有する脂肪族モノアミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジヘキシルアミン、ジオクチルアミン、Ｎ−メチルエチルアミン、Ｎ−メチルイソプロピルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジsec−ブチルアミン、Ｎ−エチル−１,２−ジメチルプロピルアミン、ピペリジン、２−ピペコリン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、２,４−ルペチジン、２,６−ルペチジン、３,５−ルペチジン、２−メチルアミノエタノール、３−メチルアミノ−１,２−プロパンジオール、１−ピペラジンエタノール、３−ピペリジンメタノール、２−ピペリジンエタノール、４−ピペリジンエタノール、４−ピペリジノール、ピロリジン、３−アミノピロリジン、３−ピロリジノール等が挙げられる。特に、ジメチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルエチルアミン、Ｎ−メチルイソプロピルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジｎ−ブチルアミンは、導電性微粒子の分散性と分散安定性がより良好となることから好ましい。
【００８１】
本発明で用いられるアミノ基含有光硬化性化合物を得るにあたって、（メタ）アクリレート化合物と第一級または第二級アミンとは、前記（メタ）アクリレート化合物中のエチレン性不飽和二重結合１００モルに対して、第一級または第二級アミンが０．５〜５０モルとなる比率で反応させることが好ましく、１．０〜３０モルとなる比率で反応させることがより好ましい。すなわち、アミノ基含有光硬化性化合物中には、０．５〜５０モル（より好ましくは１．０〜３０モル）のアミノ基（つまり、エチレン性不飽和二重結合と第一級または第二級アミンとを反応させた官能基）と、５０〜９５．５モル（より好ましくは７０〜９９モル）の未反応のエチレン性不飽和二重結合が含まれていることが好ましい。
【００８２】
第一級または第二級アミンの反応比率が０．５モル未満の場合、得られるアミノ基含有光硬化性化合物中のアミノ基の比率が小さいため、導電性微粒子の良好な分散性が得られにくくなり、その硬化膜の透明性が悪化しやすくなる。また、この反応比率が５０モルを超える場合、得られるアミノ基含有光硬化性化合物中のアミノ基の比率が非常に大きくなるため、良好な導電性微粒子の分散性は得られるが、一方でエチレン性不飽和二重結合の比率が低くなるため、塗膜作成時の光硬化性が乏しくなり、その硬化膜のハードコート性が低下しやすくなる。
【００８３】
アミノ基含有光硬化性化合物は、前記（メタ）アクリレート化合物と前記第一級または第二級アミンとを、二成分が溶解可能な溶剤中において反応させることにより得られる。これは、第一級または第二級アミン中のアミノ基が（メタ）アクリレート化合物中のエチレン性不飽和二重結合にマイケル付加することにより、分子の末端にアミノ基を導入する反応である。
【００８４】
反応温度に関しては、室温下でも速やかに反応が進むため、１０〜１１０℃が好ましく、２０〜８０℃がより好ましい。反応温度が１０℃未満の場合、原料となる（メタ）アクリレート化合物、または反応物であるアミノ基含有光硬化性化合物の溶解性が低下して析出しやすく、反応速度が低下し反応時間が長時間化するため生産性が落ちるなどの問題が生じ易い。一方、反応温度が１１０℃を超えた場合、反応物が着色するため、その着色したアミノ基含有光硬化性化合物を用いた硬化性組成物、およびその硬化膜の色目に影響を及ぼすことになる。
【００８５】
前記（メタ）アクリレート化合物と前記第一級または第二級アミンとを反応させる際に用いる溶剤は、原料となる（メタ）アクリレート化合物および第一級または第二級アミンとの反応性を有しないものであれば、特に限定するものではない。溶剤としては、例えば、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、トルエン、キシレン、ブタノール、イソプロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アジピン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチルなどが挙げられる。これらのうち、複数種の溶剤を組み合わせて用いてもよい。
【００８６】
本発明の帯電防止用硬化性組成物における導電性無機微粒子と高屈折率微粒子との重量比は、導電性無機微粒子の１００重量部に対して、高屈折率微粒子は０．５〜１００重量部用いることが好ましく、１〜５０重量部がより好ましい。高屈折率微粒子の重量比が０．５重量部未満では、硬化膜の屈折率増加や導電性向上といった効果が小さく、１００重量部を超えると導電性無機微粒子の比率の低下により硬化膜の導電性が大幅に低下する場合がある。
【００８７】
さらに、帯電防止用硬化性組成物中における導電性無機微粒子と高屈折率微粒子をあわせた無機微粒子全体の含有量は、特に制限されないが、不揮発分１００重量部のうち、好ましくは１〜８０重量部、より好ましくは１０〜７０重量部である。無機微粒子全体の含有量が１重量部未満では、導電性無機微粒子由来の帯電防止性が劇的に低下することとなり、８０重量部を超えるとバインダー成分量が少ないことにより成膜性が劣る場合がある。
【００８８】
通常、硬化膜の屈折率の上げるために、全微粒子のうちの、高屈折率微粒子の割合を増やすと、塗膜中の導電性微粒子の割合が低下するため、帯電防止性が著しく低下する。しかし、本発明では、帯電防止性を維持したまま、屈折率を上げることが可能になった。この効果は、発明者らも予期しておらず、また、他に例を見ない現象である。
【００８９】
本発明の帯電防止用硬化性組成物の製造方法としては、特に制限されないが、いくつかの方法が挙げられる。具体的には、初めに導電性無機微粒子、高屈折率微粒子及びアミノ基含有光硬化性化合物を有機溶剤中で混合分散し、安定な導電性無機微粒子／高屈折率微粒子分散体を得た後、他の様々な添加剤を添加及び調製し製造する方法、初めに導電性無機微粒子及びアミノ基含有光硬化性化合物を有機溶剤中で混合分散し、安定な導電性無機微粒子分散体を得て、一方で高屈折率微粒子及び光硬化性化合物を有機溶剤中で混合分散し、安定な高屈折率微粒子分散体を得た後、上記２種類の分散体及び他の様々な添加剤を添加及び調製し製造する方法、上記導電性無機微粒子分散体、市販の高屈折率微粒子分散体及び他の様々な添加剤を添加及び調製し製造する方法、及び導電性無機微粒子、高屈折率微粒子、アミノ基含有光硬化性化合物、有機溶剤及びその他の添加剤の全てが混合された状態で分散し製造する方法などが挙げられる
ここで、光硬化性化合物は、高屈折率微粒子の分散剤として機能するものである。高屈折率微粒子の表面は、塩基性から中性を示すことが多いため、この光硬化性化合物にアミノ基を導入する必要はない。また、この光硬化性化合物は、前記、アミノ基含有光硬化性化合物のアミノ基導入前の化合物を用いることが出来る。
【００９０】
本発明の帯電防止用硬化性組成物は、導電性無機微粒子粉末、高屈折率微粒子粉末及びアミノ基含有光硬化性化合物を単に混合して調製しても十分目的とする効果が得られる。ただし、ニーダー、ロール、アトライター、スーパーミル、乾式粉砕処理機などにより機械的に混合するか、導電性無機微粒子粉末及び／または高屈折率微粒子粉末と有機溶剤などによるサスペンジョン系にアミノ基含有光硬化性化合物を含む溶液を添加し、導電性無機微粒子表面にアミノ基含有光硬化性化合物を沈着させるなどの緊密な混合系で行なえばさらに良好な結果を得ることができる。
【００９１】
本発明の高屈折率微粒子分散体は、高屈折率微粒子粉末と市販の分散剤や界面活性剤を、有機溶剤および／または水中で上記方法により混合および／または分散しても得ることができる。市販分散剤としては、例えば、日本ルーブリゾール製：ソルスパース３０００、ソルスパース９０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース３６０００、ソルスパース４１０００、エフカアディティブズ製：ＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ７４６２、味の素ファインテクノ製：アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、アジスパーＰＡ１１１、コグニスジャパン製：ＴＥＸＡＰＨＯＲＵＶ２０、ＴＥＸＡＰＨＯＲＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲＰ６１、ビッグケミー・ジャパン製：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０３、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０６、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６２、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６３、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６６、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６７、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６８、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２等が挙げられる。特に、有機溶剤中での分散性、アミノ基含有光硬化性化合物との相性の観点から、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１が好ましい。
【００９２】
有機溶剤などの非水系ビヒクル中への導電性無機微粒子及び／または高屈折率微粒子、アミノ基含有光硬化性化合物または帯電防止用硬化性組成物の分散または溶解、及びこれらの混合などには、ペイントコンディショナー（レッドデビル社製）、ボールミル、サンドミル（シンマルエンタープライゼス社製「ダイノーミル」等）、アトライター、パールミル（アイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、コボールミル、ホモミキサー、ホモジナイザー（エム・テクニック社製「クレアミックス」等）、湿式ジェットミル（ジーナス社製「ジーナスＰＹ」、ナノマイザー社製「ナノマイザー」）、微小ビーズミル（寿工業社製「スーパーアペックミル」、「ウルトラアペックミル」）等の分散機が使用できる。分散機にメディアを使う場合には、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナビーズ、磁性ビーズ、スチレンビーズ等を用いることが好ましい。分散に関しては、２種類以上の分散機、または大きさの異なる２種類以上のメディアをそれぞれ用い、段階的に使用しても差し支えない。
【００９３】
本発明の帯電防止用硬化性組成物は、少なくとも導電性無機微粒子、高屈折率微粒子及びアミノ基含有光硬化性化合物を含有するものであり、それ以外の成分としては、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、溶剤、光重合開始剤、光硬化性化合物、重合禁止剤、光増感剤、レべリング剤、界面活性剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、導電性ポリマー、導電性界面活性剤、無機充填剤、顔料、染料などの添加剤を加えてもよい。
【００９４】
溶剤を加える場合は、溶剤を揮発させた後に硬化処理を行なえばよい。溶剤としては、特に制限されるものでなく、様々な公知の有機溶剤を用いることができる。なかでも、水酸基含有溶剤は、親水性の高い粒子表面物性を持つ導電性無機微粒子に対して濡れ性が良いことから、溶剤組成中に含有することで分散性及びその塗料の経時安定性の向上において非常に効果的であり、かつ塗工工程のレベリング性も向上することから好ましい。全溶剤組成中の水酸基含有溶剤含有量は、１０〜１００重量％含むことが好ましい。具体体には、水酸基含有溶剤としては、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。特に、３−メトキシ−１−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテルは、分散性と分散安定性がより良好であることから好ましい。その他の有機溶剤としては、例えば、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、アセチルアセトン、トルエン、キシレン、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、ブチルアセテート、イソアミルアセテート、アジピン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、テトラヒドロフラン、メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００９５】
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物などが使用できる。
【００９６】
具体的には、モノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、４−メチル−ベンゾフェノン、２,４,６−トリメチルベンゾフェノン、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、４−（４−メチルフェニルチオ）フェニル−エネタノン、３,３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４−（１，３−アクリロイル−１，３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４−（１,３−アクリロイル−１,４,７,１０，１３−ペンタオキソトリデシル）ベンゾフェノン、３，３’,４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシエチル）メタアンモニウムシュウ酸塩、２−／４−イソ−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−ヒドロキ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈチオキサントン−２−イロキシ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト（１，２−ｄ）チアゾリン等が挙げられる。
【００９７】
ジカルボニル化合物としては、１，２，２−トリメチル−ビシクロ［２．１．１］ヘプタン−２，３−ジオン、ベンザイル、２−エチルアントラキノン、９，１０−フェナントレンキノン、メチル−α−オキソベンゼンアセテート、４−フェニルベンザイル等が挙げられる。
【００９８】
アセトフェノン化合物としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−ジ-２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−スチリルプロパン−１−オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２，２−ジエトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノ−プロパノニル）−９−ブチルカルバゾール等が挙げられる。
【００９９】
ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイゾブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
【０１００】
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ｎ−プロピルフェニル−ジ（２，６−ジクロロベンゾイル）ホスフィンオキシド等が挙げられる。
【０１０１】
アミノカルボニル化合物としては、メチル−４−（ジメトキシアミノ）ベンゾエート、エチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、イソアミル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、４，４’−ビス−４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス−４−ジエチルアミノベンゾフェノン、２，５’−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン等が挙げられる。光重合開始剤の市販品としてはチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製イルガキュア１８４、６５１、５００、907、127、369、784、2959、ＢＡＳＦ社製ルシリンＴＰＯ、日本シーベルヘグナー製エサキュアワン等があげられる。
【０１０２】
光重合開始剤は、上記化合物に限定されず、紫外線や可視光により重合を開始させる能力があれば、どのようなものでも構わない。これらの光重合開始剤は、一種類または二種類以上を混合して用いてもよい。
光重合開始剤の使用量に関しては、特に制限はされないが、光硬化性化合物の全量１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲内で使用することが好ましい。
また、増感剤として公知の有機アミン等を加えることもできる。
さらに、上記ラジカル重合用開始剤のほかに、カチオン重合用の開始剤も併用することができる。
【０１０３】
本発明の帯電防止用硬化性組成物は、アミノ基含有光硬化性化合物の他に、その他のバインダー樹脂、光硬化性化合物を加えてもよい。
【０１０４】
バインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、一種類または二種類以上を混合して用いてもよい。
【０１０５】
光硬化性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル系化合物、脂肪酸ビニル化合物、アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物等の重合性不飽和二重結合基を有する化合物を用いることができる。これらの重合性不飽和二重結合基を有する化合物は、さらに水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基等の官能基を有していてもよい。
【０１０６】
（メタ）アクリル系化合物としては、ベンジル（メタ）アクリレート、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート、カルボキシル基と重合性不飽和二重結合とを有する化合物、水酸基を有する（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物等がある。また、単官能、多官能の化合物を適宜使用することができる。光硬化性、塗膜のハードコート性の点からは、多官能のものが好ましい。
【０１０７】
単官能の（メタ）アクリル系化合物として具体的には、アルキル系（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコシル（メタ）アクリレート、ヘンイコシル（メタ）アクリレート、ドコシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２２のアルキレン（メタ）アクリレートが挙げられる。極性の調製を目的とする場合には、炭素数２〜１０、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートを用いることが好ましい。また、レべリング性の調節等を目的とする場合には、炭素数６以上のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
【０１０８】
また、アルキレングリコール系（メタ）アクリレートとしては、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート等の末端に水酸基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレンエチレングリコール（メタ）アクリレート等の末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系アクリレートまたは対応するメタクリレートが挙げられる。
【０１０９】
さらに、カルボキシル基及び重合性不飽和二重結合を有する化合物としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等が挙げられる。
【０１１０】
水酸基含有（メタ）アクリル系化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシビニルベンゼン、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１１１】
窒素含有（メタ）アクリル系化合物としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ペントキシメチル−（メタ）アクリルアミド等のモノアルキロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−メチロール−Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アクリルアミンド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−プロポキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（プロポキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（メトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ペントキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−（ペントキシメチル）メタアクリルアミド等のジアルキロール（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物及び対イオンとしてＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-等のハロゲンイオンまたはＱＳＯ3-（Ｑ：炭素数１〜１２のアルキル基）を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の４級アンモニウム塩等がある。
【０１１２】
さらに、その他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチルメチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルアミル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル（メタ）アクリレート類を挙げることができる。
【０１１３】
また、パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルアクリレート等のグリシジル基含有アクリレートが挙げられる。
【０１１４】
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。
【０１１５】
α−オレフィン化合物としては、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン等が挙げられる。
【０１１６】
ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロロスチレン等が挙げられる。
【０１１７】
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。
これらは、一種類または二種類以上を混合して用いてもよい。
【０１１８】
光硬化性化合物は、塗膜強度、耐擦傷性の観点より、少なくとも３つの官能基を有するポリウレタンポリ（メタ）アクリレート、ポリエポキシポリ（メタ）アクリレート等のポリ（メタ）アクリレート類、分子内に３個以上のアクリロイル基を有する多官能のアクリレート類を好適に使用することができる。
【０１１９】
ポリエポキシポリ（メタ）アクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基を（メタ）アクリル酸でエステル化し官能基を（メタ）アクリロイル基としたものであり、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物、ノボラック型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物等がある。
【０１２０】
ポリウレタンポリ（メタ）アクリレートは、例えば、ジイソシアネートと水酸基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得られるもの、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得られるものがある。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることもできる。
【０１２１】
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
【０１２２】
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
【０１２３】
水酸基をもつ（メタ）アクリレート類としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート，２−ヒドロキシプロピルアクリテート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等が挙げられる。
【０１２４】
イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類としては、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
【０１２５】
光硬化性化合物の市販品としては、東亜合成製のアロニックスＭ−４００、アロニックスＭ−４０２、アロニックスＭ−４０８、アロニックスＭ−４５０、アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−８０３０、アロニックスＭ−８０６０、大阪有機化学製のビスコート♯４００、化薬サートマー製のＳＲ−２９５、ダイセルＵＣＢ製のＤＰＨＡ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ １２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ５１２９、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ ６６０２、新中村化学製のＮＫエステルＡ-ＴＭＭＴ、ＮＫオリゴＥＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＭＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３１０、ＮＫオリゴＥＡ−６３２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３４０、ＮＫオリゴＭＡ−６、ＮＫオリゴＵ−４ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−６ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−３２４Ａ、ＢＡＳＦ製のＬａｒｏｍｅｒＥＡ８１、サンノプコ製のフォトマー３０１６、荒川化学工業製のビームセット３７１、ビームセット５７５、ビームセット５７７、ビームセット７００、ビームセット７１０、根上工業製のアートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ−９０００Ｈ、アートレジンＵＮ−９０１Ｔ、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＨＤＰ−３、アートレジン Ｈ６１、日本合成化学製の紫光ＵＶ−７６００Ｂ、紫光ＵＶ−７６１０Ｂ、紫光ＵＶ−７６２０ＥＡ、紫光ＵＶ−７６３０Ｂ、紫光ＵＶ−１４００Ｂ、紫光ＵＶ−１７００Ｂ、紫光ＵＶ−６３００Ｂ、共栄社化学製のライトアクリレートＰＥ−４Ａ、ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、日本化薬製のＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ２Ｃ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０、等が挙げられる。
【０１２６】
次に、本発明の硬化膜とその積層体に関して説明する。
本発明の硬化膜は、本発明の硬化性組成物を基材上に膜厚が好ましくは、０．１〜３０μｍ、より好ましくは０．１〜２０μｍになるように塗工後、硬化処理することにより形成することができる。
本発明により、表面抵抗値が、１×１０12Ω／□以下であり、屈折率が１．５〜１．９である硬化膜を得ることできる。
形成時において、硬化膜は、基材に直接塗工されてもよいし、硬化膜と基材との間に１層以上の機能層が存在してもよい。
【０１２７】
本発明の硬化膜が使用される基材としては、金属、セラミックス、ガラス、プラスチック、木材、スレート等が挙げられ、特に制限されるものではない。具体的なプラスチックの種類としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ポリアミド、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。また基材の形状としてはフィルムシート、板状パネル、レンズ形状、ディスク形状、ファイバー状の物が挙げられるが、特に制限されるものではない。
【０１２８】
塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロッドまたはワイヤーバーなどを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロットまたはスピンなどの各種コーティング方法を用いることができる。
【０１２９】
また、硬化処理は、公知の技術を用いて、例えば、紫外線、電子線、波長４００〜５００ｎｍの可視光線等の活性エネルギー線を照射することにより行なうことができる。紫外線および波長４００〜５００ｎｍの可視光線の線源（光源）には、例えば高圧水銀ランプ。超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。電子線源には、熱電子放射銃、電解放射銃等を使用することができる。
【０１３０】
照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内であることが好ましく、さらには生産性の点から５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内であることが好ましい。また、これらの活性エネルギー線照射に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱処理を併用することができる。
【０１３１】
本発明の硬化膜は、基材に硬化性組成物を塗工し、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なって形成しても良いし、塗工し硬化処理を行なったあとに自然または強制乾燥させても良いが、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なう方がより好ましい。
【０１３２】
特に、電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害または有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なう方がより好ましい。また、硬化処理のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。
【０１３３】
本発明の硬化膜は、ハードコート性、透明性、耐光性、高屈折率性、帯電防止性に優れるため、光学材料として好適に利用することが出来る。したがって本発明の硬化性組成物による硬化膜は積層体として、陰極線管、フラットディスプレイパネル（液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ等）等の各種表示装置の前面板あるいはこれらの入力装置としても利用される。またその他、工学用レンズ、メガネ用レンズ、光記録ディスク（コンパクトディスク、ＤＶＤディスク、ブルーレィディスク等）、ライトケース等に広く利用できる。
【０１３４】
また本発明の積層体は、本発明の硬化膜および基材に加え、屈折率の異なる膜、粘着層または情報記録層などの機能層を１層以上含むことが好ましい。
【０１３５】
屈折率の異なる膜（ア）、粘着層（ア）または情報記録層（ア）は、下記（Ｉ）〜（ＩＸ）などの層構成・位置に積層されていてもよい。
（Ｉ） 基材／（ア）／硬化膜
（ＩＩ） 基材／硬化膜／（ア）
（ＩＩＩ） 基材／（ア）／硬化膜／（ア）
（ＩＶ） （ア）／基材／硬化膜
（Ｖ） （ア）／基材／（ア）／硬化膜
（ＶＩ） （ア）／基材／硬化膜／（ア）
（ＶＩＩ） （ア）／基材／（ア）／硬化膜／（ア）
（ＶＩＩＩ） （ア）／硬化膜／基材／硬化膜
（ＩＸ） 硬化膜／（ア）／基材／硬化膜
屈折率の異なる膜または情報記録層は、本発明の硬化物が有する機能以外の機能を持ち、その形成方法は特に限定されず、公知の方法で形成される。
【０１３６】
例えば蒸着、スパッタなどのドライコーティング法、ロッド、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット、スピン等のウェットコーティング方法を用いることができる。用いる材料も限定は無く必要に応じて、情報記録機能、防眩機能、ニュートンリング防止機能、粘着機能、特定波長の遮断、密着向上、色調補正などの機能を１種類以上付与することができる。
【０１３７】
情報記録層としては、レーザー光などにより何らかの化学的変化を生じさせ、その変化により情報を記録するものであればよく、材料は特に限定しないが、例えば有機系の材料としては、ポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウム系、アントラキノン系、キサンテン系、トリフェニルメタン系金属錯体化合物が挙げられ、上記の染料を１種又は２種以上の組合せで用いることができる。また無機系の記録層としては、Ｔｅ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｔ等の金属、半金属を１種又は２種以上の組合せで用いることができる。情報記録層は積層などでも良く、光化学変化の態様は相変化、バブル、穴あけタイプのいずれでも良い。さらにＦｅ、Ｔｂ、Ｃｏを主体とした光磁気記録層であっても良いし、スピロピラン、フルキド系のフォトクロミック材料であっても良い。
【０１３８】
また、高屈折率の硬化膜は反射防止の観点から、表層に低屈折率の被覆硬化膜を設け反射防止機能を付与した積層体として利用することも好ましい。
【０１３９】
また、反射干渉縞が問題となる積層体においては本発明の硬化性組成物中の金属酸化物の配合量を調製し、その硬化膜と基材との屈折率の差が、または、硬化膜と基材との間に層が有る場合は、本発明の硬化膜と硬化膜の接する下層との屈折率の差が±０．０２以内にすることが好ましい。
【実施例】
【０１４０】
以下、製造例、実施例に基づき本発明をさらに詳しく説明する。製造例、実施例中、部および％は、重量部および重量％をそれぞれ表す。
【０１４１】
（製造例１）
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈのアクリレート化合物（根上工業（株）製「ＵＮ−３３２０ＨＳ」）２０部をメチルイソブチルケトン３１．７４部に溶解させた溶液に、ジブチルアミン１．１６部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１）のメチルイソブチルケトン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４２】
（製造例２）
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈのアクリレート化合物（根上工業（株）製「ＵＮ−３３２０ＨＳ」）２０部をメチルイソブチルケトン３０.３６部に溶解させた溶液に、１−アミノへキサン０．２４部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１０）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（２）のメチルイソブチルケトン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４３】
（製造例３）
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈのアクリレート化合物（共栄社化学（株）製「ＵＡ−３０６Ｔ」）２０部をメチルイソブチルケトン３５．１９部に溶解させた溶液に、１，３−ジアミノプロパン３．４６部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／３０）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（３）のメチルイソブチルケトン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４４】
（製造例４）
光硬化後の鉛筆硬度が２Ｈのアクリレート化合物（荒川化学工業（株）製「ビームセット７００」）２０部をシクロヘキサノン３４.０４部に溶解させた溶液に、ピペリジン３．５９部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／２０）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（４）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４５】
（製造例５）
光硬化後の鉛筆硬度が２Ｈのアクリレート化合物（根上工業（株）製「ＵＮ−９０００Ｈ」）２０部をシクロヘキサノン３０．２４部に溶解させた溶液に、ジブチルアミン０．１６部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（５）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４６】
（製造例６）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業（株）製：ビスコート＃３００）２５０．０部、ヒドロキノン０．１６部、シクロヘキサノン１４１．２部を仕込み、８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）１．６５部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン３３．９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン２．６５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、多官能（メタ）アクリレート化合物（ａ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分７０％、数平均分子量（ＭＮ）８７０、重量平均分子量（ＭＷ）２，８３０であった。
【０１４７】
ここで、数平均分子量、重量平均分子量は、東ソー株式会社製ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣを用い、ポリスチレン換算により得られた値である。カラムはＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｎ、溶媒はテトラヒドロフランを使用した。
【０１４８】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ａ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分７０％）２８.６部をシクロヘキサノン２３．０７部で希釈した溶液（固形分４０％）に、ジブチルアミン１．１部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（６）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４９】
（製造例７）
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ａ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分７０％）２８.６部をメチルイソブチルケトン２２．４部で希釈した溶液不揮発分４０％）に、ジヘキシルアミン０．６５部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１０）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（７）のメチルイソブチルケトン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１５０】
（製造例８）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）４６３．２部、ヒドロキノン０．２８部、シクロヘキサノン５６３．２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）２．８２部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）１４３．４部、シクロヘキサノン１４６．５部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン４．５３部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却し、多官能（メタ）アクリレート化合物（ｂ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量（ＭＮ）９２０、重量平均分子量（ＭＷ）２，２００であった。
【０１５１】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｂ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分５０％）３０．０部をシクロヘキサノン９．１部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、ジブチルアミン１．０５部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（８）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１５２】
（製造例９）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、９、９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二酸無水物（JFEケミカル株式会社製、商品名 ＢＰＡＦ）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業株式会社、商品名：ビスコート＃３００）２００．２部、ヒドロキノン０．１５部（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン２００．１部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．５０部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）６２．０部、シクロヘキサノン４２．４部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬工業株式会社製）２．４１部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、多官能（メタ）アクリレート化合物（ｃ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分６０％、数平均分子量（ＭＮ）８３０、重量平均分子量（ＭＷ）２，３１０であった。
【０１５３】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｃ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分６０％）２０．０部をシクロヘキサノン１０．４部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、ジエチルアミン０．３部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１０）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（９）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１５４】
（製造例１０）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）１２４．８部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）２２２．８部、ヒドロキノン０．２１部、シクロヘキサノン４３０．０部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）２．１４部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン８０．７部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン３．４２部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、多官能（メタ）アクリレート化合物（ｄ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，０５０、重量平均分子量（ＭＷ）３，８３０であった。
【０１５５】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｄ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分５０％）３０．０部をシクロヘキサノン９．１部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、２−ピペリジンエタノール１．０５部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１０）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１５６】
（製造例１１）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学製）１００．０ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）５５６．８、ヒドロキノン０．３３ｇ、シクロヘキサノン４３７．８ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）３．２８ｇを加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本製）９６．６ｇ、シクロヘキサノン６６．８ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン５．２８ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して多官能（メタ）アクリレート化合物（ｅ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分６０％、数平均分子量ＭＮ８２０、重量平均分子量ＭＷ２，６６０であった。
【０１５７】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｅ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分５０％）３０．０部をシクロヘキサノン９．１部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、ジブチルアミン１．１部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１１）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１５８】
（製造例１２）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）５０．０部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）４１３．４部、ヒドロキノン０．２３部、シクロヘキサノン４６３．４部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）２．３２部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本製）７１．７部、シクロヘキサノン７４．３部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン３．７３ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して多官能（メタ）アクリレート化合物（ｆ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ９００、重量平均分子量ＭＷ２，０７０であった。
【０１５９】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｆ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分５０％）３０．０部をシクロヘキサノン９．１部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、ジブチルアミン１．１部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１２）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１６０】
（製造例１３）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにナフタレン二無水物（ＪＦＥケミカル株式会社製、商品名 ＮＴＣＤＡ）１００．０ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）３４２．２ｇ、ヒドロキノン０．２２ｇ（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン４４２．２ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）２．２１ｇを加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）１０５．９ｇ、シクロヘキサノン１０８．４ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）３．５６ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して多官能（メタ）アクリレート化合物（ｇ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８２０、重量平均分子量ＭＷ２，４４０であった。
【０１６１】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｇ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分５０％）３０．０部をシクロヘキサノン９．１部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、ジブチルアミン１．１部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１３）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１６２】
（製造例１４）
光硬化後の鉛筆硬度がＨＢのアクリレート化合物（荒川化学工業（株）製「ビームセット７５０」）２０部をメチルイソブチルケトン３２．２７部に溶解させた溶液に、ジブチルアミン１．５１部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１４）のメチルイソブチルケトン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１６３】
（製造例１５：光硬化性化合物（１））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業（株）製：ビスコート＃３００）２５０．０部、ヒドロキノン０．１６部、シクロヘキサノン１４１．２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）１．６５部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン２６９．９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン２．６５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８７０、重量平均分子量ＭＷ２，８３０であった。
【０１６４】
（製造例１６：光硬化性化合物（２））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）２５０．０部、ヒドロキノン０．１６部、シクロヘキサノン１４１．２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）１．６５部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン２６９．９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン２．６５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ９２０、重量平均分子量ＭＷ３，１３０であった。
【０１６５】
（製造例１７：光硬化性化合物（３））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）１２４．８部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）２２２．８部、ヒドロキノン０．２１部、シクロヘキサノン４３０．０部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）２．１４部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン８０．７部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン３．４２部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ１，０５０、重量平均分子量ＭＷ３，８３０であった。
【０１６６】
（製造例１８：光硬化性化合物（４））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに９、９−Ｂｉｓ（３，４−ｄｉｃａｒｂｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）ｆｌｕｏｒｅｎｅ Ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ（JFEケミカル株式会社製、商品名 ＢＰＡＦ）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業株式会社製、商品名：ビスコート＃３００）２００．２部、ヒドロキノン０．１５部（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン２００．１部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．５０部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）６２．０部、シクロヘキサノン１６３．７５部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）２．４１部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８３０、重量平均分子量ＭＷ２，３１０であった。
【０１６７】
（製造例１９：光硬化性化合物（５））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにテトラヒドロナフタレン二無水物（新日本理化株式会社製、商品名 リカシッドＴＤＡ−１００）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）３０５．７部、ヒドロキノン０．２０部（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン４０５．７部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）２．０３部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）９４．６部、シクロヘキサノン９６．９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）３．２６部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８７０、重量平均分子量ＭＷ３，１５０であった。
【０１６８】
（製造例２０：光硬化性化合物（６））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにナフタレン二無水物（ＪＦＥケミカル株式会社製、商品名 ＮＴＣＤＡ）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）３４２．２部、ヒドロキノン０．２２部（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン４４２．２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）２．２１部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）１０５．９部、シクロヘキサノン１０８．４部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）３．５６部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８２０、重量平均分子量ＭＷ２，４４０であった。
【０１６９】
（製造例２１：光硬化性化合物（７））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）１００．０部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）５５６．８、ヒドロキノン０．３３部、シクロヘキサノン４３７．８部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）３．２８部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）９６．６部、シクロヘキサノン３１９．２１部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン５．２８部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８２０、重量平均分子量ＭＷ２，６６０であった。
【０１７０】
（製造例２２：光硬化性化合物（８））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに９、９−Ｂｉｓ（３，４−ｄｉｃａｒｂｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）ｆｌｕｏｒｅｎｅ Ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ（ＪＦＥケミカル株式会社製、商品名 ＢＰＡＦ）１００．０部、アクリル酸２−ヒドロキシエチル（日本触媒株式会社製）５０．７部、ヒドロキノン０．０８部（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン１００．４部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．５１部を加え、８５℃で５時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）６２．０部、シクロヘキサノン１１３．８９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．２１部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８９０、重量平均分子量ＭＷ１，２００であった。
【０１７１】
[導電性無機微粒子分散ペーストの作製：製造例２３〜４０]
上記製造例１〜１４により調製したアミノ基含有光硬化性化合物（１）〜（１４）を用い、表１に示す配合により導電性無機微粒子の分散を行ない、導電性無機微粒子分散ペーストを調製した。分散方法は、仮分散（ジルコニアビーズ（１．２５ｍｍ）をメディアとして用いペイントシェイカーで１時間分散）と、本分散（ジルコニアビーズ（０．１ｍｍ）をメディアとして用い寿工業製分散機ＵＡＭ−０１５で分散）の２段階で行なった。
（配合）
【０１７２】
【表１】
【０１７３】
表１において、
Ｓｂ２Ｏ５：日産化学工業製「サンエポックＥＦＲ−６Ｎ」（平均一次粒子径：２０ ｎｍ）
ＡＴＯ：石原産業製「ＳＮ−１００Ｐ」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＩＴＯ：シーアイ化成製「ナノテックＩＴＯ」（平均一次粒子径：３０ｎｍ）
ＰＴＯ：触媒化成工業製「ＴＬ−３０Ｓ」（平均一次粒子径：３０ｎｍ）
市販多官能モノマー：荒川化学工業製「ビームセット７５０」（ビスフェノールＡエ チレンオキサイド変性アクリレート、分子量（Ｍｗ）５１２、光硬化後の鉛筆硬度Ｈ Ｂ）
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
メトブタ：３−メトキシ−１−ブタノール
【０１７４】
[高屈折率微粒子分散ペーストの作製：製造例４１〜５２]
上記製造例１５〜２２により調製した光硬化性化合物（１）〜（８）を用い、表２に示す配合により、高屈折率微粒子の分散を行ない、高屈折率微粒子分散ペーストを調製した。分散方法は、仮分散（ジルコニアビーズ（０．５ｍｍ）をメディアとして用いペイントシェイカーで１時間分散）と、本分散（ジルコニアビーズ（０．０３ｍｍ）をメディアとして用い寿工業製分散機ＵＡＭ−０１５で分散）の２段階で行なった。
（配合）
【０１７５】
【表２】
【０１７６】
表２において、
ＴＩＯ２：テイカ製「ＭＴＹ−０２」（平均一次粒子径：１０ｎｍ）
ＺｒＯ２：日本電工製「ＰＣＳ」（平均一次粒子径：３０ｎｍ）
市販分散剤：ビックケミー・ジャパン製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１」
市販多官能モノマー：荒川化学工業製「ビームセット７５０」（ビスフェノールＡエ チレンオキサイド変性アクリレート、分子量（Ｍｗ）５１２、光硬化後の鉛筆硬度Ｈ Ｂ）
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
【０１７７】
[塗料化及び硬化膜評価：実施例１〜１９、比較例１〜７]
上記で調製した導電性無機微粒子および／または高屈折率微粒子分散ペーストを用いて、表３に示す組成の硬化性組成物を調製し、１００μｍ厚の易接着処理ＰＥＴフィルム（東洋紡製「コスモシャインＡ−４１００」）に、バーコーターを用いて乾燥膜厚で５μｍになるように塗工した後、高圧水銀ランプで４００ｍＪ/ｃｍ2の紫外線を照射し、帯電防止用ハードコート層（硬化膜）を形成した。得られた帯電防止用ハードコート層について、下記の方法で表面抵抗、屈折率、耐擦傷性、鉛筆硬度、透明性（ヘイズ）および耐光性を評価した。その結果を表３に示す。
【０１７８】
【表３】
【０１７９】
表３において、
【０１８０】
光硬化性化合物（１）：日本合成化学製「紫光ＵＶ−１７００Ｂ」
光硬化性化合物（２）：共栄社化学製「ＵＡ−３０６Ｔ」
光硬化性化合物（３）：日本化薬製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」
市販Ｓｂ２Ｏ５分散体：触媒化成工業製「ＥＬＣＯＭ Ｐ−４５」（粒子表面に酸化 ケイ素処理）
市販ＴｉＯ２分散体：触媒化成工業製「ＱＵＥＥＮＴＩＴＡＮＩＣ」
光重合開始剤：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製「イルガキュア１８４」
溶剤：メトブタ（３−メトキシ−１−ブタノール）
基材：１００μｍＰＥＴ（東洋紡製「コスモシャインＡ−４１００」易接着処理面に 塗工）
＊１：導電性無機微粒子ペーストが分散不良だったので未測定
＊２：高屈折率微粒子ペーストが分散不良だったので未測定
＊３：調整した硬化性組成物がゲル化したので未測定
【０１８１】
[積層体の作製及び評価：実施例２０〜２５]
（低屈折率塗液の作製）
１,２,９,１０−テトラアクリロイルオキシー４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン５０重量部、シリカゾル不揮発分３０％分散液（日産化学工業株式会社製ＭＥＫ-ＳＴ）１２０重量部２’、２’―ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオン酸（２−ヒドロキシ）−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１―ノナデカフルオロウンデシル１０重量部、ブチルアルコール９００重量部光開始剤（日本化薬株式会社製ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ）５重量部を混合し低屈折率塗液を調製した。
【０１８２】
製造例２３の導電性無機微粒子および製造例４１の高屈折率微粒子分散体を用いて表４に示す配合による組成の硬化性組成物を調製し、１００μｍ厚の易接着処理ＰＥＴフィルムの易接着処理面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚で６μｍとなるよう塗布し、１００℃１分で乾燥し高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。ここで得られた試験片にさらに低屈折塗液をスピンコーターにて、乾燥膜厚でλ/４を示す光の波長が５５０ｎｍ程度になるように層の厚さを調整し、１００℃１分で乾燥し高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し積層体を得た。
【０１８３】
得られた積層体について、下記の方法で表面抵抗、耐擦傷性、鉛筆硬度、透明性（Ｈａｚｅ値）、屈折率、視感反射率を評価した。その結果を表４に示す。
【０１８４】
【表４】
【０１８５】
表４において
光硬化性化合物（１）：日本合成化学製「紫光ＵＶ−１７００Ｂ」
光重合開始剤：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製「イルガキュア１８４」
溶剤：メトブタ（３−メトキシ−１−ブタノール）
基材：１００μｍＰＥＴ（東洋紡製「コスモシャインＡ−４１００」易接着処理面に 塗工）
【０１８６】
[評価方法]
（１）表面抵抗
硬化膜の表面抵抗値（Ω／□）を、東亜ＤＫＫ社製ＳＭＥ−８２２０を用いて測定した。また、表面抵抗が１×１０12以下の場合であれば、良好、表面抵抗が１×１０12より高い場合であれば、不良と判定できる。
【０１８７】
（２）耐擦傷性
塗工物を学振試験機にセットし、スチールウールのＮｏ.００００を用いて、荷重２５０ｇで１０回学振させた。取り出した塗工物について、キズのつき具合を以下の５段階の目視で判断した。数値が大きいほど、耐擦傷性が良好であることを示す。
５：キズが全くない
４：僅かにキズが付いている
３：キズは付いているが、基材は見えていない
２：キズが付き、一部塗工物が剥がれている
１：塗工物が剥がれてしまい、基材が剥き出しの状態
【０１８８】
（３）鉛筆硬度
ＪＩＳＫ５６００に準拠し、鉛筆硬度試験機（ＨＥＩＤＯＮ社製Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ Ｔｅｓｔｅｒ ＨＥＩＤＯＮ−１４）を用い、鉛筆の芯の硬さを種々変えて、荷重５００ｇにて５回試験をした。５回中、１回も傷がつかない、もしくは１回のみ傷が付く時の芯の硬さを、その塗工物の鉛筆硬度とした。実用的な要求物性を考慮して、鉛筆硬度が
２Ｈ以上のものを○
２Ｈより低いものを×
と判定した。
【０１８９】
（４）透明性(Ｈａｚｅ値)
得られた塗工物における濁度（Ｈａｚｅ値）を、Ｈａｚｅメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ２０００）を用いて測定した。Ｈａｚｅ値が、１以下であれば、透明性良好であり、１以上であれば、透明性不良であると判定できる。
【０１９０】
（５）耐光性
硬化膜の光連続照射時の経時での黄変は、例えばディスプレイ用途を考慮した場合、非常に好ましくない。そこで、光連続照射時の黄変性を確認した。
まず、耐光性試験機（光源：キセノンランプ、照度：１００Ｗ／ｃｍ2、ブラックパネル温度：６０℃、６０％ＲＨ）にて塗工物を２４時間暴露した。その後、白色紙上に塗工物を置き、測色機（ミノルタＣＲ−３００）を用いて着色を測定した。測色値はＬ*ａ*ｂ*にて表示し、黄変性の目安をｂ*値にて判断した。ｂ*値の値が小さいほど、黄変の程度が小さく、耐光性が良好であることを表す。実用的な要求物性を考慮して、ｂ*値が
３．５未満のものを○
３．５以上のものを×
と判定した。
【０１９１】
（６）屈折率
得られた硬化膜の屈折率を、株式会社アタゴ製アッベ屈折率計を用いて測定した。
【０１９２】
（７）視感反射率
当該硬化膜の上部に、低屈折率塗液を塗布した積層体の５°反射スペクトル測定を、日立社製分光光度計Ｕ−４１００を用い行った。得られた反射率から、下記式により視感反射率を算出した。
式：視感反射率（％）＝ΣＲ（λ）Ｖ（λ）／ΣＶ（λ）
Ｒ：反射率（％）、Ｖ：比視感度
なお、従来の低屈折率層／高屈折率層の２層タイプの反射防止膜では、視感反射率０．５％以下の達成は困難である。
【０１９３】
表３の結果より、実施例の通り本発明の帯電防止用硬化性組成物は、導電性無機微粒子の分散にアミノ基含有硬化性化合物を使用すると、高屈折率微粒子分散体との相溶性がよく、かつ得られた硬化膜の硬度も飛躍的に良化した。また、高屈折率微粒子は導電性を有していないにも関わらず、これを添加することで、表面抵抗値の大幅な低下が見られた。先述のとおり、これは他に例をみない効果である。また高屈折率微粒子も光硬化性化合物で分散を行うことで、硬度に優れた硬化膜が得られ、また、比較例にある従来のＴｉＯ２分散体と比較し、導電性無機微粒子との相溶性も大幅に向上した。
【０１９４】
表４の結果より、本発明の帯電防止用硬化性組成物は高屈折率微粒子分散体の添加量を増やすにつれ、得られた硬化膜の屈折率も上昇し、視感反射率も低下した。帯電防止性を有し、Ｈａｚｅ値１以下、かつ、視感反射率０．４％であり、従来に無い効果を実現している。
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ハードコート性と透明性を持った帯電防止用硬化性組成物ならびにその硬化膜およびその積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、情報通信機器の性能確保と安全対策の面から、機器の表面に、光硬化性組成物を用いて、耐擦傷性、密着性などを有するハードコート性塗膜や、帯電防止性塗膜を形成することが行われている。
【０００３】
近年、情報通信機器の発達と汎用化は目覚しいものがあり、ハードコート性塗膜、帯電防止性塗膜等の更なる性能向上及び生産性の向上が求められており、光硬化性材料を用いた様々な提案がされている。
【０００４】
例えば、以下のような技術提案を挙げることができる（特許文献１〜３参照）。特許文献１では、酸化スズなどの導電性粉末と複数のモノマー成分とを有機溶剤中、ボールミルなどを用いて導電性塗料を作製する方法が開示されている。特許文献２では、アンチモンドープ酸化スズと紫外線硬化性のあるシランカップリング剤とを有機溶剤中、ボールミルを用い導電性塗料用の分散体を作製する方法が開示されている。さらに特許文献３では、導電性酸化物微粉末を易分散性低沸点溶剤と難分散性高沸点溶剤の混合溶剤中に分散し導電性塗料を作製する方法が開示されている。
【０００５】
一方で、さらなる生産性向上を求めて上記のようなハードコート性・帯電防止性に加えて、反射防止性などをすべて一層で補う試みも多数行われており、ハードコート性・帯電防止性を持ちながら所定の屈折率に制御するという技術も提案されてきた（特許文献４〜７）。特許文献４では、導電性微粒子内に空洞を内包するようなコア／シェル型の微粒子を用いて、導電性無機微粒子自体の屈折率を低く制御する方法が開示されている。また、特許文献５では、導電性微粒子内にシリカを内包するようなコア／シェル型の微粒子を用いて、導電性無機微粒子自体の屈折率を低く制御する方法が開示されている。また、特許文献６では、導電性微粒子内に酸化チタンを内包するようなコア／シェル型の微粒子を用いて、導電性無機微粒子自体の屈折率を高く制御する方法が開示されている。さらに、特許文献７では、フッ素系樹脂を併用することによりバインダー樹脂の屈折率を制御して塗膜全体の屈折率を制御する方法が開示されている。
【特許文献１】特開平０４−１７２６３４号公報
【特許文献２】特開平０６−２６４００９号公報
【特許文献３】特開２００１−１３１４８５号公報
【特許文献４】特開２００２−２７９９１７号公報
【特許文献５】特開２００５−１１９９０９号公報
【特許文献６】特開２００２−３６３４４２号公報
【特許文献７】特開２００４−１２２６１１号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、上記方法により、ハードコート性、帯電防止性、耐光性などにおいて良好な物性を併せ持つ光硬化性組成物を作製することが可能となっても、有機溶剤など疎水性の高い媒体に対して、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の導電性無機微粒子を安定に一次粒子レベルで分散および安定化させうる効果を持たないため、塗膜の透明性や光硬化性塗料の経時安定性等の観点で問題を生じやすい。
【０００７】
また、塗膜の屈折率の調製方法として、導電性無機微粒子の塗膜中含有量を増減させることが一般的であるが、屈折率を下げるために導電性無機微粒子の塗膜中含有量を減らすと、塗膜の表面抵抗値は低下して所定の帯電防止性が得られないことがあり、また、屈折率を上げるために導電性無機微粒子の塗膜中含有量を増やすと、塗膜中のバインダー樹脂量が低下するため、成膜性が悪化し、所定のハードコート性が得られないことがある。
【０００８】
導電性無機微粒子自体の屈折率を所定の屈折率に制御する方法は、屈折率と帯電防止性をうまく両立できる方法であるが、合成方法が複雑化して生産効率の低下やコストの大幅な上昇を免れない。さらに、バインダー樹脂の屈折率を制御して塗膜全体の屈折率を制御する方法では、一般に用いられているハードコート性バインダー樹脂の屈折率は選択の幅が狭く、無理に屈折率を変えようとするとハードコート性の著しい低下やコストの大幅な上昇、さらには他のバインダー成分との相溶性の悪化に直結することが懸念される。
【０００９】
そこで、本発明は、平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の導電性無機微粒子を含有しながら、帯電防止性、ハードコート性、透明性及び耐光性の全てにおいて優れた物性を併せ持つ塗膜を形成可能な経時安定性のある帯電防止用硬化性組成物、また、その帯電防止用硬化性組成物の屈折率を１．５〜１．９の間で自由にかつ簡便に変化させることのできる帯電防止用硬化性組成物、及びそれらを用いた硬化膜とその積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの導電性無機微粒子と、
平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子と、
エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基、および、未反応のエチレン性不飽和二重結合を有する、アミノ基含有光硬化性化合物と、
を含有する帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１１】
また、本発明は、導電性無機微粒子が、アンチモン、インジウム、スズ及び亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする上記帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１２】
また、本発明は、導電性無機微粒子が、絶縁性金属酸化物および／または加水分解性の有機金属化合物で表面処理されていないものであることを特徴とする上記帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１３】
また、本発明は、高屈折率微粒子が、チタン、ジルコニウム、セリウム、バリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１４】
また、本発明は、高屈折率微粒子表面が、酸性処理および／または疎水化処理されていることを特徴とする帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１５】
また、本発明は、アミノ基含有光硬化性化合物が、光硬化後の鉛筆硬度がＨ以上になるアクリレート化合物またはメタクリレート化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させたものであることを特徴とする帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１６】
また、本発明は、アミノ基含有光硬化性化合物が、アクリレート化合物またはメタクリレート化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを、前記アクリレート化合物またはメタクリレート化合物中のエチレン性不飽和二重結合１００モルに対して、第一級アミンまたは第二級アミンが０．５〜５０モルとなる比率で反応させたものであることを特徴とする帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００１７】
また、本発明は、アミノ基含有光硬化性化合物が、下記一般式（１）で表される化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させたものであることを特徴とする帯電防止用硬化性組成物に関する。
一般式（１）
【００１８】
【化１】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ5〜Ｒ8は、それぞれ独立に非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｒ9は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
【００１９】
また、本発明は、第一級アミンまたは第二級アミンが、脂肪族モノアミンであることを特徴とする上記帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００２０】
また、本発明は、さらに、溶剤を含み、かつ溶剤が、全溶剤に対して１０〜１００重量％の水酸基含有溶剤を含むことを特徴とする上記帯電防止用硬化性組成物に関する。
【００２１】
また、本発明は、上記帯電防止用硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜に関する。
【００２２】
また、本発明は、表面抵抗値が、１×１０12Ω／□以下であることを特徴とする上記硬化膜に関する。
【００２３】
また、本発明は、硬化膜の厚さが、０．１〜３０μｍであることを特徴とする上記硬化膜に関する。
【００２４】
また、本発明は、硬化膜の屈折率が、１．５〜１．９の範囲であることを特徴とする上記記載の硬化膜に関する。
【００２５】
また、本発明は、基材上に上記硬化膜を形成させてなる積層体に関する。
【００２６】
また、本発明は、基材が、プラスチック基材であることを特徴とする上記積層体に関する。
【００２７】
また、本発明は、情報記録層を含む上記積層体に関する。
【００２８】
また、本発明は、反射防止膜である上記積層体に関する。
【００２９】
また、本発明は、上記帯電防止用硬化性組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させてなる硬化膜の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の帯電防止用硬化性組成物は、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させてなるアミノ基含有光硬化性化合物と、導電性無機微粒子と、さらに高屈折率微粒子とを含有するため、硬化性に優れ、帯電防止性、ハードコート性、透明性及び耐光性にすぐれ、さらに以上の物性を維持したまま自由に屈折率を調節できる硬化膜及びその積層体を形成することが可能であり、特にプラスチック光学部品、光ディスク、反射防止膜、タッチパネル、フィルム型液晶素子、プラスチック積層体等のハードコート剤に好適である。さらには調節可能な屈折率の上限が高く、基材に、より高屈折率の塗膜を塗布し、その上に、低屈折率層を塗布した積層体である反射防止膜は、視感反射率が低く、光学用途に好適に用いられる。
【発明を実施するための最良の形態】
【００３１】
まず、本発明の帯電防止用硬化性組成物について説明する。
本発明の帯電防止用硬化性組成物は、少なくとも平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの導電性無機微粒子と、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子と、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基、および、未反応のエチレン性不飽和二重結合を有するアミノ基含有光硬化性化合物とを含有するものであり、二種類以上の導電性無機微粒子および／または高屈折率微粒子と、二種類以上のアミノ基含有光硬化性化合物をそれぞれ含んでも良い。またさらに光重合開始剤を含むことも好ましい。
【００３２】
本発明において、平均一次粒子径は、例えば、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等によって直接粒子自身の粒子径を測定することによって得られる。
【００３３】
導電性無機微粒子の平均一次粒子径が５ｎｍ未満の場合、微粒子同士の凝集力が非常に大きいことから一次粒子を維持する分散は困難であり、透明性の高い塗液を得ることは難しい。また、平均一次粒子径が１００ｎｍを超える場合、一次粒子を維持する分散は容易になるが、粒子径が大きいことから可視光などの光に対して散乱が生じ易く硬化膜の透明性を悪化させる問題が生じる。
【００３４】
導電性無機微粒子としては、アンチモン、インジウム、スズ、亜鉛、アルミニウム、チタニウム、ガリウム、リン及びフッ素からなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものが好ましい。特に、アンチモン、インジウム、スズおよび亜鉛のいずれか一種の元素を含有するものは、導電性も良好であることからより好ましい。また、元素を含有する形態は、金属酸化物が好ましく、具体的には、五酸化アンチモン、アンチモンドープ酸化スズ（ＡＴＯ）、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化スズ（ＦＴＯ）、リンドープ酸化スズ（ＰＴＯ）、アンチモン酸亜鉛（ＡＺＯ）、インジウムドープ酸化亜鉛（ＩＺＯ）、酸化スズ、ＡＴＯ被覆酸化チタン、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛等が挙げられる。これらの導電性無機微粒子は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００３５】
導電性無機微粒子の市販品としては、日産化学工業製：サンエポックＥＦＲ−６Ｎ、サンエポックＥＦＲ−６ＮＰ（五酸化アンチモン）、石原産業製：ＳＮ−１００Ｐ（ＡＴＯ）、ＦＳ−１０Ｐ（ＡＴＯ）、ＳＮ−１０２Ｐ（ＡＴＯ）、ＦＳ−１２Ｐ（ＡＴＯ）、ＥＴ−３００Ｗ（ＡＴＯ被覆酸化チタン）、三菱マテリアル製：Ｔ−１（ＩＴＯ）、Ｓ−１２００、Ｓ−２０００（酸化スズ）、ＥＰ Ｔ−１−５Ｌ（ＡＴＯ）、ＥＰ ＳＰ−２（ＰＴＯ）、三井金属製：パストラン（ＩＴＯ、ＡＴＯ）、シーアイ化成製：ナノテックＩＴＯ、ナノテックＳｎＯ2、触媒化成工業製：ＴＬ−２０（ＡＴＯ）、ＴＬ−３０（ＡＴＯ）、ＴＬ−３０Ｓ（ＰＴＯ）、ＴＬ−１２０（ＩＴＯ）、ＴＬ−１３０（ＩＴＯ）、ハクスイテック製：ＰａｚｅｔＣＫ（アルミニウムドープ酸化亜鉛）、ＰａｚｅｔＧＫ（ガリウムドープ酸化亜鉛）、堺化学工業製：ＳＣ−１８（アルミニウムドープ酸化亜鉛）等が挙げられる。
【００３６】
さらに、導電性無機微粒子が、溶剤または水に分散された市販の導電性無機微粒子分散体としては、石原産業製：ＳＮＳ−１０Ｍ（ＡＴＯ）、ＳＮＳ−１０Ｔ（ＡＴＯ）、ＦＳＳ−１０Ｍ（ＡＴＯ）、ＦＳＳ−１０Ｔ（ＡＴＯ）、日産化学工業製：セルナックスＣＸ−Ｚ６０３Ｍ−Ｆ２（ＡＺＯ）、セルナックスＣＸ−Ｚ６１０Ｍ−Ｆ２（ＡＺＯ）、セルナックスＣＸ−Ｚ２１０ＩＰ−Ｆ（ＡＺＯ）、セルナックスＣＸ−Ｚ２１０ＩＰ−Ｆ２（ＡＺＯ）、セルナックスＣＸ−Ｚ４１０Ｍ−Ｆ（ＡＺＯ）、セルナックスＣＸ−Ｚ４０１Ｍ−Ｆ（ＡＺＯ）、ＨＸ−３０５Ｍ５、ＨＩＴ−３０１Ｍ１、ＡＴＭ−３３０Ｓ、ＨＸ−３０５Ｍ５、触媒化成工業製：ＥＬＣＯＭ Ｐ−３０（ＡＴＯ）、ＥＬＣＯＭ Ｐ−３２（ＡＴＯ）、ＥＬＣＯＭ Ｐ−３５（ＰＴＯ）、ＥＬＣＯＭ Ｐ−４５（五酸化アンチモン）、ＥＬＣＯＭ Ｐ−１２０（ＩＴＯ）、ＥＬＣＯＭ Ｐ−１３０（ＩＴＯ）等が挙げられる。
【００３７】
本発明の帯電防止用硬化性組成物に含有される導電性無機微粒子は、絶縁性金属酸化物および／または加水分解性の有機金属化合物によって表面処理されていないものであることが好ましい。
絶縁性金属酸化物としては、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等が挙げられる。
【００３８】
加水分解性の有機金属化合物としては、一般式R1nMm（OR2）m-n［式中、R1、R2：アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基、メタクリル基、アミノ基、グリシジル基、メルカプト基、などの官能基を含む炭化水素基、M：金属原子、ｍ＝元素の配位数、ｎ＝０、１、２、または３］で表されるケイ素、チタニウム、ジルコニウム、アルミニウムなどのアルコキシド、または金属ジケトネート類が挙げられる。
【００３９】
導電性無機微粒子表面が絶縁性金属酸化物および／または加水分解性の有機金属化合物で処理されていると、導電性無機微粒子自体の導電性は低下してしまい、高屈折率微粒子と混合した場合、さらに導電性が低下しやすくなる。特に、プロトン伝導性と言われる五酸化アンチモンの場合、微粒子表面を絶縁性金属酸化物で処理されると導電性に関与している五酸化アンチモン表面の酸性プロトンが減少することとなり、導電性を阻害しやすくなるため、できる限り絶縁性金属酸化物および／または加水分解性の有機金属化合物で表面処理をされていないことが好ましい。
【００４０】
本発明の、帯電防止用硬化性組成物中の高屈折率微粒子は、平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの範囲であることが好ましい。高屈折率微粒子の平均一次粒子径が５ｎｍ未満の場合、微粒子同士の凝集力が非常に大きいことから一次粒子を維持する分散は困難であり、透明性の高い塗液を得ることは難しい。また、平均一次粒子径が１００ｎｍを超える場合、一次粒子を維持する分散は容易になるが、粒子径が大きいことから可視光などの光に対して散乱が生じ易く硬化膜の透明性を悪化させる問題が生じる
高屈折率微粒子としては、チタン、ジルコニウム、セリウム、バリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものが好ましい。特に、チタン、ジルコニウムのいずれか一種の元素を含有するものは、屈折率も高いことからより好ましい。また、元素を含有する形態は、金属酸化物が好ましく、具体的には、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、チタン酸バリウム等が挙げられる。これらの高屈折率微粒子は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００４１】
高屈折率微粒子の市販品としては、
石原産業製：ＥＴ−３００Ｗ（ＡＴＯ被覆酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ａ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｂ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｃ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｄ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｓ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５５（Ｎ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５１（Ａ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−５１（Ｃ）（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−１（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−２（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−３（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｓ−４（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｖ−３（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｖ−４（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｄ−１（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｄ−２（酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−１（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−２（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−３（鉄含有酸化チタン）、ＴＴＯ−Ｆ−１１（鉄含有酸化チタン）、ＳＴ−０１（酸化チタン）、ＳＴ−２１（酸化チタン）、ＳＴ−３０Ｌ（酸化チタン）、ＳＴ−３１（酸化チタン）、
テイカ製：ＭＴ−０１（酸化チタン）、ＭＴ−０５（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＴＶ（酸化チタン）、ＭＴ−１００Ｚ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＺＲ（酸化チタン）、ＭＴ−１５０Ｗ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＡＱ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＳＡ（酸化チタン）、ＭＴ−５００Ｈ（酸化チタン）、ＭＴ−５００Ｔ（酸化チタン）、ＭＴ−５００Ｂ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＳＡ（酸化チタン）、ＭＴ−０２（酸化チタン）、ＭＴ−０３（酸化チタン）、ＭＴ−０４（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＳＡＫ（酸化チタン）、ＳＭＴ−１００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＳＭＴ−１００ＳＡＭ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＳＡＫ（酸化チタン）、ＳＭＴ−５００ＳＡＳ（酸化チタン）、ＳＭＴ−５００ＳＡＭ（酸化チタン）、ＭＴＹ−０２（酸化チタン）、ＭＴ−１００ＨＤ（酸化チタン）、ＭＴ−５００ＨＤ（酸化チタン）、
堺化学製：ＳＴＲ−６０Ｃ（酸化チタン）、ＳＴＲ−６０Ｃ−ＬＰ（酸化チタン）、ＳＴＲ−１００Ｃ（酸化チタン）、ＳＴＲ−１００Ａ（酸化チタン）、ＳＴＲ−１００Ｃ−ＬＰ（酸化チタン）、住友大阪セメント製：ＯＺＣ−３ＹＣ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−３ＹＤ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−３ＹＦＡ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−８ＹＣ（酸化ジルコニウム）、ＯＺＣ−０Ｓ１００（酸化ジルコニウム）、日本電工製：ＰＣＳ（酸化ジルコニウム）、Ｔ−０１（酸化ジルコニウム）、シーアイ化成製：ＮａｎｏＴｅｋ Ｓｅｒｉｅｓ（酸化チタン、酸化セリウム）、堺化学製：ＢＴ Ｓｅｒｉｅｓ（チタン酸バリウム）、共立マテリアル製：ＢＴ Ｓｅｒｉｅｓ（チタン酸バリウム）などが挙げられる。
【００４２】
さらに、始めから平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子が、有機溶剤または水に分散された市販の高屈折率微粒子分散体を使用することができる。例えば、
シーアイ化成製：ＮａｎｏＴｅｋ Ｓｌｕｒｒｙ Ｓｅｒｉｅｓ（酸化チタン、酸化セリウム）、触媒化成製：ＱＵＥＥＮＴＩＴＡＮＩＣ Ｓｅｒｉｅｓ（酸化チタン）、日産化成製：ナノユースＺＲ−４０ＢＬ（酸化ジルコニウム）、ナノユースＺＲ−３０ＢＳ（酸化ジルコニウム）、ナノユースＺＲ−３０ＢＨ（酸化ジルコニウム）、ナノユースＺＲ−３０ＡＬ（酸化ジルコニウム）、ナノユースＺＲ−３０ＢＨ（酸化ジルコニウム）などが挙げられる。
【００４３】
高屈折率微粒子表面が、酸性処理および／または疎水化処理されていることが好ましい。導電性微粒子の表面は、酸性を示す場合が多く、また、高屈折率微粒子の表面は塩基性を示す場合が多いため、未処理のときは、両微粒子の相溶性が悪くなり沈殿が生ずる場合があり、保存安定性の悪化および／または塗膜の白化の原因となることがある。また、高屈折率微粒子が酸化チタンの場合は、表面が処理されていないと、酸化チタンの有する光触媒活性のため、塗膜中の有機分を分解する恐れがあるため、酸性処理および／または疎水化処理されていることが特に好ましい。また、高屈折率微粒子が酸化チタンの場合は、前記の処理が施されていると、光触媒活性を抑えつつ、紫外線吸収能を発揮することができるため、導電性微粒子のみの硬化性組成物よりも、耐光性に勝る場合がある。
【００４４】
酸性処理の処理剤としては、アンチモン酸、フェニルホスホン酸、ポリアクリル酸、ポリリン酸、ヘテロポリ酸などが挙げられる。
【００４５】
疎水化処理の方法としては、一般式R1nMm（OR2）m-n［式中、R1、R2：アルキル基、アリール基、ビニル基、アクリル基、メタクリル基、アミノ基、グリシジル基、メルカプト基、などの官能基を含む炭化水素基、M：金属原子、ｍ＝元素の配位数、ｎ＝０、１、２、または３］で表されるケイ素、チタニウム、ジルコニウム、アルミニウムなどのアルコキシド、または金属ジケトネート類での処理が挙げられる。
【００４６】
具体的な処理剤としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、スチリルトリメトキシシラン、メルカプトプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシランなどの有機ケイ素化合物、アルミニウム（III）ｎ−ブトキシド、アルミニウム（III）２，４−ペンタンジオネート、ジエチルアルミニウムエトキシドなどの有機アルミニウム化合物、チタニウムｎ−ブトキシド、チタニウムオキシドビス（ペンタンジオネート）、チタニウムジブトキシド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）などの有機チタニウム化合物、ジルコニウムｎ−ブトキシド、ジルコニウム２，４−ペンタンジオネート、ジルコニウムジブトキシド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）などの有機ジルコニウム化合物が挙げられる。
【００４７】
市販の有機ケイ素化合物としては、例えば、信越化学工業製：ＫＢＭ０４、ＫＢＥ０４、ＫＢＭ１３、ＫＢＥ１０３、ＫＡ１００３、ＫＢＭ１００３、ＫＢＥ１００３、ＫＢＭ３０３、ＫＢＭ４０３、ＫＢＥ４０２、ＫＢＥ４０３、ＫＢＭ５０２、ＫＢＭ５０３、ＫＢＥ５０２、ＫＢＥ５０３、ＫＢＭ５１０３、ＫＢＭ６０２、ＫＢＭ６０３、ＫＢＥ６０３、ＫＢＭ９０３、ＫＢＥ９０３、ＫＢＭ５７３、ＫＢＭ７０３、ＫＢＭ８０３、ＫＢＭ１４０３、ＬＳ５５８０などが挙げられる。また、市販の有機チタニウム化合物としては、味の素ファインテクノ製：ＫＲ ＴＴＳ、ＫＲ ４６Ｂ、ＫＲ ５５、ＫＲ ４１Ｂ、ＫＲ ３８Ｓ、ＫＲ １３８Ｓ、３３８Ｘ、ＫＲ ４４、ＫＲ ９ＳＡ、ＫＲ ＥＴなどが挙げられる。さらに、市販の有機アルミニウム化合物としては、味の素ファインテクノ製：ＡＬ−Ｍなどが挙げられる。
【００４８】
アミノ基含有光硬化性化合物は、上記導電性無機微粒子の分散剤として機能するものであり、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基（アミノ基）と、未反応のエチレン性不飽和二重結合とを含むものである。また、ここで、エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとの反応は、マイケル付加反応を用いることができる。また、このアミノ基含有光硬化性化合物のエチレン性不飽和二重結合は、アクリレート基またはメタクリレート基由来のものであることが好ましい。
【００４９】
ここで、「第一級アミンまたは第二級アミン」は、第一級アミンおよび第二級アミンの双方を含む、または使用する場合を含む概念である。同様に、「アクリレート基またはメタクリレート基」は、アクリレート基およびメタクリレート基の双方を含む、または使用する場合を含む概念である。以下、アクリレートとメタクリレートをまとめて「（メタ）アクリレート」と記載する場合がある。
【００５０】
さらに、このアミノ基含有光硬化性化合物は、光硬化後の鉛筆硬度がＨ以上になるアクリレート化合物またはメタクリレート化合物と、第一級または第二級アミンとを反応させてなる化合物であることが好ましい。この（メタ）アクリレート化合物は、光硬化後の鉛筆硬度が２Ｈ以上になるものであることがより好ましく、３Ｈ以上になるものであることがさらに好ましい。
ここで、光硬化後とは、基材上に、帯電防止用硬化性組成物を塗布し、その塗膜上に、紫外線を照射させ光硬化反応を起こさせた後の状態をさす。
また、鉛筆硬度とは、ＪＩＳ−Ｋ５６００に準拠し(基材:厚み１００μｍの易接着処理ＰＥＴフィルム、荷重：５００ｇ)、鉛筆硬度試験機（ＨＥＩＤＯＮ社製ＳｃｒａｔｃｈｉｎｇＴｅｓｔｅｒ ＨＥＩＤＯＮ−１４）を用い、膜厚１０μｍの硬化膜に傷が発生しない鉛筆の濃度記号をいう。
【００５１】
光硬化後の鉛筆硬度がＨ未満になる（メタ）アクリレート化合物と、第一級または第二級アミンとを反応させてなるアミノ基含有光硬化性化合物を含有させた場合、導電性微粒子の分散性には大きな問題がないことから、光硬化後の硬化膜の透明性は良好であるが、ハードコート性が不足する可能性があり、ＬＣＤなどの表面層のようなハードコート性が必要な用途への使用が困難になる場合がある。
【００５２】
光硬化後の硬化膜の鉛筆硬度がＨ以上になる（メタ）アクリレート化合物としては、３個以上のアクリロイル基を含有する多官能アクリレート化合物、または３個以上のメタクリロイル基を含有する多官能メタクリレート化合物が、光硬化性も良好であり好ましい。
【００５３】
光硬化後の硬化膜の鉛筆硬度がＨ以上になる（メタ）アクリレート化合物のうち、モノマーとしては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールテトラアクリレート（ＰＥＴＴＡ）などが挙げられる。オリゴマーまたはポリマーとしては、ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物、ウレタン（メタ）アクリレート化合物等が挙げられる。特に、導電性微粒子の分散性がより良好になることから、分子量１０００〜２００００の化合物であることが好ましく、分子量１０００〜２００００のポリエステルアクリレート化合物、エポキシアクリレート化合物、またはウレタンアクリレート化合物がより好ましい。
【００５４】
光硬化後の硬化膜の鉛筆硬度がＨ以上になる（メタ）アクリレート化合物として、市販の化合物を使用することが可能である。具体的には、以下の製品が挙げられる。
【００５５】
東亜合成（株）製：アロニックスＭ−４００、アロニックスＭ−４０２、アロニックスＭ−４０８、アロニックスＭ−４５０、アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−８０３０、アロニックスＭ−８０６０、
大阪有機化学工業（株）製：ビスコート♯４００、
化薬サートマー（株）製：ＳＲ−２９５、
ダイセルＵＣＢ（株）製：ＤＰＨＡ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ １２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ５１２９、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ ６６０２、
新中村化学工業（株）製：ＮＫエステルＡ-ＴＭＭＴ、ＮＫオリゴＥＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＭＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３１０、ＮＫオリゴＥＡ−６３２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３４０、ＮＫオリゴＭＡ−６、ＮＫオリゴＵ−４ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−６ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−３２４Ａ、
ＢＡＳＦ社製：ＬａｒｏｍｅｒＥＡ８１、
サンノプコ（株）製：フォトマー３０１６、
荒川化学工業（株）製：ビームセット３７１、ビームセット５７５、ビームセット５７７、ビームセット７００、ビームセット７１０、
根上工業（株）製：アートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ−９０００Ｈ、アートレジンＵＮ−９０１Ｔ、
日本合成化学工業（株）製：紫光ＵＶ−７６００Ｂ、紫光ＵＶ−７６１０Ｂ、紫光ＵＶ−７６２０ＥＡ、紫光ＵＶ−７６３０Ｂ、紫光ＵＶ−１４００Ｂ、紫光ＵＶ−１７００Ｂ、紫光ＵＶ−６３００Ｂ、
共栄社化学（株）製：ライトアクリレートＰＥ−４Ａ、ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、
日本化薬（株）製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０。
【００５６】
さらに、本発明で用いることのできるアミノ基含有光硬化性化合物としては、例えば、下記一般式（１）で表される化合物と、第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた化合物を挙げることができる。
一般式（１）
【００５７】
【化２】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ5〜Ｒ8は、それぞれ独立に非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｒ9は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
式中、Ｒ9の４価の脂肪族骨格としては、炭素鎖数４〜１０のアルキル骨格である４価の脂肪族基が挙げられ、具体的にはブタン骨格、シクロブタン骨格、ヘキサン骨格、シクロヘキサン骨格、デカリン骨格などが挙げられる。さらに、Ｒ9の４価の芳香族基としては、具体的にはフェニル骨格、ベンゾフェノン骨格、ビフェニル骨格、フェニルエーテル骨格、ジフェニルスルホン骨格、ジフェニルスルフィド骨格、ペリレン骨格、フルオレン骨格、テトラヒドロナフタレン骨格及びナフタレン骨格などが挙げられる。
【００５８】
一般式（１）で表される化合物は、例えば、脂肪族骨格または芳香族骨格、及び２つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物（ｘ１）と、カルボン酸無水物基と反応しうる官能基を有する化合物（ｘ２）とを反応させてなるカルボキシル基を有する化合物（Ｘ）と、カルボキシル基と反応しうる官能基を有する化合物（Ｙ）とを反応させて得られる。
【００５９】
ここで、化合物（ｘ２）における「カルボン酸無水物基と反応しうる官能基」としては、ヒドロキシ基、アミノ基、グリシジル基などが挙げられるが、反応の制御のし易さから、ヒドロキシ基が特に好ましい。また、化合物（Ｙ）における「カルボキシル基と反応しうる官能基」としては、エポキシ基、オキサゾリン基、ヒドロキシ基、アミノ基、カルボジイミド基、イソシアネート基、イソチオシアネート基、ビニルエーテル基などが挙げられる。
【００６０】
さらに、一例を挙げて説明する。脂肪族骨格または芳香族骨格、及び２つ以上のカルボン酸無水物基を有する化合物（ｘ１）である下記一般式（２）：
一般式（２）
【００６１】
【化３】
（ここで、Ｒ9は、一般式（１）で定義した通り）
で示される脂肪族または芳香族テトラカルボン酸二無水物を、カルボン酸無水物基と反応しうる官能基を有する化合物（ｘ２）である、下記一般式（３）：
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ1）ＣＯＯＲ5ＯＨ 一般式（３）
（ここで、Ｒ1およびＲ5は、式（１）で定義した通り）
で示される第１のヒドロキシル基含有アクリレート化合物またはメタクリレート化合物、および下記一般式（４）：
ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ2）ＣＯＯＲ6ＯＨ 一般式（４）
（ここで、Ｒ2およびＲ6は、式（１）で定義した通り）
で示される第２のヒドロキシル基含有アクリレート化合物またはメタクリレート化合物と反応させて、下記一般式（５）：
一般式（５）
【００６２】
【化４】
（ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ5、Ｒ6およびＲ9は、式（１）で定義した通り）
で示される化合物（Ｘ）を得ることができる。
【００６３】
上記一般式（２）で示される脂肪族テトラカルボン酸二無水物としては、ブタンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００６４】
一方、芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ビフェニル骨格を有するビフェニルテトラカルボン酸二無水物、オキシジフタル酸二無水物、ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、ジフェニルスルフィドテトラカルボン酸二無水物、ペリレンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレン骨格を有するナフタレンテトラカルボン酸二無水物等、フルオレン骨格を有する９，９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二無水物、あるいは、９，９−ビス［４−（３，４−ジカルボキシフェノキシ）フェニル］フルオレン二無水物、テトロヒドロナフタレン骨格を有するテトラヒドロナフタレンカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス（アンヒドロトリメリテート）、グリセリンビス（アンヒドロトリメリテート）モノアセテート等が挙げられる。市販品としては新日本理化株式会社製「リカシッドＴＭＴＡ−Ｃ」、「リカシッドＭＴＡ−１０」、「リカシッドＭＴＡ−１５」、「リカシッドＴＭＥＧシリーズ」、「リカシッドＴＤＡ」、「リカシッドＤＳＤＡ」、などが挙げられる。
【００６５】
これら芳香族テトラカルボン酸二無水物のうち、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物は、ビフェニル骨格を有するものであり、ビフェニル骨格を式（１）で示される化合物の分子内に効率よく導入でき、さらに硬化膜のハードコート性と導電性微粒子の良好な分散性を併せ持つことができるため、特に好ましい。
【００６６】
第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート化合物、互いに同じであっても異なっていてもよい。そのようなヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート化合物の例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、ジヒドロキシアクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸ＥＯ変性ジアクリレート、ペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。硬度を上げる用途の場合は、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が好ましい。
【００６７】
具体的な市販品としては、ビスコート＃３００（大阪有機化学工業株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬株式会社製）、ＰＥＴＩＡ（ダイセルＵＣＢ（株）製）、アロニックスＭ３０５（東亞合成株式会社製）、ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３ＬＭＮ（新中村化学工業株式会社製）、ライトアクリレートＰＥ−３Ａ（共栄社化学株式会社製）、ＳＲ−４４４（サートマー株式会社製）、ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ（共栄社化学株式会社製）、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ（日本化薬株式会社製）、アロニックスＭ４０２（東亞合成株式会社製）等が挙げられる。特に、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートを主成分とするＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ３０（日本化薬株式会社製）は、導電性微粒子の分散性が良好であることからより好ましい。多官能（メタ）アクリレート化合物の場合、副成分として水酸基を２個持つ多官能（メタ）アクリレートを５〜１５％程度含有することにより、得られるアミノ基含有光硬化性化合物の硬化後の重量平均分子量が高分子量化する傾向にあり、導電性微粒子の分散性もより良好になることから好ましい。
【００６８】
上記脂肪族または芳香族テトラカルボン酸二無水物と、第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート化合物との反応は、脂肪族または芳香族テトラカルボン酸二無水物の有する２つのカルボン酸無水物基と、第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート化合物がそれぞれ有するヒドロキシル基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物と第１および第２のヒドロキシル基含有（メタ）アクリレート化合物とを、シクロヘキサノンのような有機溶媒中、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンのような触媒の存在下、５０〜１２０℃の温度で反応させることができる。この場合、反応系に、メトキノン（methoquinone）のような重合禁止剤を添加することができる。
【００６９】
上記反応後、反応生成物である式（５）の化合物（Ｘ）を含む反応混合物に、これを精製することなく、例えば、化合物（Ｙ）である下記一般式（６）：
一般式（６）
【００７０】
【化５】
（ここで、Ｒ0は、ＣＨ2＝Ｃ（Ｒ3）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−基およびＣＨ2＝Ｃ（Ｒ4）−Ｃ（Ｏ）Ｏ−基；Ｒ3およびＲ4は、上記定義の通り）
であるエポキシ基含有化合物を添加し、反応させて一般式（１）で示される化合物を得ることができる（この場合、Ｒ7およびＲ8は、−ＣＨ2ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ2−基である。）。
【００７１】
式（６）で示される化合物の例には、グリシジルメタクリレート、グリシジルアクリレートのようなエポキシ基含有（メタ）アクリレート；ｏ−フェニルフェノールグリシジルエーテル、ｐ−フェニルフェノールグリシジルエーテル、モノスチレン化フェノールグリシジルエーテル、４−シアノ−４−ヒドロキシビフェニルグリシジルエーテル、４，４'−ビフェノールモノグリシジルエーテル、４，４'−ビフェノールジグリシジルエーテルのような芳香族グリシジルエーテル化合物等が含まれる。
【００７２】
式（５）で示される化合物と式（６）で示される化合物との反応は、式（５）で示される化合物の有するカルボキシル基と式（６）で示される化合物の有するエポキシ基との反応であり、それ自体当該分野においてよく知られている。例えば、この反応は、ジメチルベンジルアミン等のようなアミン触媒の存在下、５０〜１２０℃の温度で行なうことができる。
【００７３】
これらの反応は、無溶媒で行なってもよく、あるいは反応に対して不活性な溶媒中で行なってもよい。かかる溶媒としては、例えば、ｎ−ヘキサン、ベンゼンまたはトルエン等の炭化水素系溶媒；アセトン、メチルエチルケトンまたはメチルイソブチルケトン等のケトン系溶媒；酢酸エチルまたは酢酸ブチル等のエステル系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフランまたはジオキサン等のエーテル系溶媒；ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタンまたはパークレン等のハロゲン系溶媒；アセトニトリル、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジノン等の極性溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００７４】
アミノ基含有光硬化性化合物を構成する第一級または第二級アミンは、一分子中に第一級アミノ基または第二級アミノ基を少なくとも１個有するアミン化合物であり、剛直性の少ない脂肪族アミンがより好ましい。さらに、分子内に第一級または第二級アミノ基を２個以上有するアミン化合物を用いた場合、アミン化合物１分子に対して複数のアクリレート化合物またはメタクリレート化合物が複雑に反応するため、反応物は高分子量化し、ゲル化しやすい問題を有する。そのため、（メタ）アクリレート化合物に対するアミン化合物の添加量を低減させたり、反応条件などを制御したりすることにより、汎用性のあるアミノ基含有光硬化性化合物を得ることが好ましい。そのため本発明で用いる第一級または第二級アミンは、一分子中に第一級アミノ基または第二級アミノ基を１個有するアミン化合物（本発明では、脂肪族モノアミンと呼ぶ）であることがより好ましい。
【００７５】
アミン化合物は、（メタ）アクリレート化合物と反応しない、アミノ基以外の他の極性官能基を有しても良い。このような極性官能基としては、水酸基、カルボキシル基、スルホン酸基、リン酸基、シアノ基、ニトロキシル基などが挙げられる。
【００７６】
アミノ基含有光硬化性化合物を構成する第一級アミンのうち、モノアミンとしては、アミノメタン、アミノエタン、１−アミノプロパン、２−アミノプロパン、１−アミノブタン、２−アミノブタン、１−アミノペンタン、２−アミノペンタン、３−アミノペンタン、イソアミルアミン、１−アミノヘキサン、１−アミノヘプタン、２−アミノヘプタン、２−オクチルアミン、１−アミノオクタン、１−アミノノナン、１−アミノデカン、１−アミノドデカン、１−アミノトリデカン、１−アミノヘキサデカン、ステアリルアミン、アミノシクロプロパン、アミノシクロブタン、アミノシクロペンタン、アミノシクロヘキサン、アミノシクロドデカン、１−アミノ−２−エチルヘキサン、１−アミノ−２−メチルプロパン、２−アミノ−２−メチルプロパン、３−アミノ−１−プロペン、３−アミノメチルヘプタン、３−イソプロポキシプロピルアミン、３−ブトキシプロピルアミン、３−イソブトキシプロピルアミン、２−エチルヘキシロキシプロピルアミン、３−デシロキシプロピルアミン、３−ラウリロキシプロピルアミン、３−ミリスチロキシプロピルアミン、２−アミノメチルテトラヒドロフラン、アニリン、ｏ−アミノトルエン、ｍ−アミノトルエン、ｐ−アミノトルエン、ｏ−ベンジルアニリン、ｐ−ベンジルアニリン、１−アニリノナフタレン、１−アミノアントラキノン、２−アミノアントラキノン、１−アミノアントラセン、２−アミノアントラセン、５−アミノイソキノリン、ｏ−アミノジフェニル、４−アミノジフェニルエーテル、２−アミノベンゾフェノン、４−アミノベンゾフェノン、ｏ−アミノアセトフェノン、ｍ−アミノアセトフェノン、ｐ−アミノアセトフェノン、ベンジルアミン、α−フェニルエチルアミン、フェネシルアミン、ｐ−メトキシフェネシルアミン、ｐ−アミノアゾベンゼン、ｍ−アミノフェノール、ｐ−アミノフェノール、アリルアミン等が挙げられる。
【００７７】
アミノ基含有光硬化性化合物を構成する第二級アミンのうち、モノアミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジヘキシルアミン、ジオクチルアミン、Ｎ−メチルエチルアミン、Ｎ−メチルイソプロピルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジsec−ブチルアミン、Ｎ−エチルイソアミルアミン、Ｎ−エチル−１,２−ジメチルプロピルアミン、ピペリジン、２−ピペコリン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、２,４−ルペチジン、２,６−ルペチジン、３,５−ルペチジン、３−ピペリジンメタノール、ピペコリニックアシッド、イソニペコチックアシッド、メチルイソニペコテート、エチルイソニペコテート、２−メチルアミノエタノール、３−メチルアミノ−１,２−プロパンジオール、１−ピペラジンエタノール、２−ピペリジンエタノール、４−ピペリジンエタノール、４−ピペリジンブチリックアシッド塩酸塩、４−ピペリジノール、ピロリジン、３−ピロリジノール、インドリン、Ｎ−ブチルアニリン、Ｎ−メチルベンジルアミン、３−ベンジルアミノプロピオニックアシッドエチルエーテル、４−ベンジルピペリジン、ジフェニルアミン等が挙げられる。
【００７８】
さらに、アミノ基含有光硬化性化合物を構成する第一級アミンおよび第二級アミンのうち、分子内にアミノ基を複数有するアミン化合物の例としては、３−アミノピロリジン、ジメチルアミノエチルアミン、エチルアミノエチルアミン、ジエチルアミノエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルアミノエチルアミン、１,２−ジアミノプロパン、１,３−ジアミノプロパン、メチルアミノプロピルアミン、ジメチルアミノプロピルアミン、ジエチルアミノプロピルアミン、ジブチルアミノプロピルアミン、２−ヒドロキシエチルアミノプロピルアミン、ビス−（３−アミノプロピル）エーテル、ジメチルアミノエトキシプロピルアミン、１，２−ビス−（３−アミノプロポキシ）エタン、１，３−ビス−（３−アミノプロポキシ）−２，２−ジメチルプロパン、１，２−ジアミノブタン、１，４−ジアミノブタン、ラウリルアミノプロピルアミン、ジエタノールアミノプロピルアミン、Ｎ−アミノエチルピペリジン、Ｎ−アミノエチル４−ピペコリン、Ｎ−アミノプロピルピペリジン、Ｎ−アミノプロピル−２−ピペコリン、Ｎ−アミノプロピル−４−ピペコリン、Ｎ−アミノエチルモルフォリン、Ｎ−アミノプロピルモルフォリン、イミノビスプロピルアミン、メチルイミノビスプロピルアミン、４−ピペリジンカルボキシアミド、４−アミノメチル−１−ブチルピペリジン、４−アミノメチルピペリジン、１,３−ジ−（４−ピペリジル）−プロパン、４−ピペリジノピペリジン、Ｎ−アミノプロピルアニリン、３−アミノピロリジン、Ｎ−メチルピペラジン、Ｎ−エチルピペラジン、Ｎ−アリルピペラジン、Ｎ−イソブチルピペラジン、Ｎ−アミノプロピルピペラジン、１−シクロペンチルピペラジン、Ｎ−フェニルピペラジン、１−（２−ピリジル）ピペラジン、１−（４−ピリジル）ピペラジン、ホモピペラジン、Ｎ−メチルホモピペラジン等が挙げられる。
上記に示すアミン化合物は、単独で用いられるほか、二種類以上を併用して用いてもよい。
【００７９】
なかでも、第二級アミノ基のみを有する脂肪族モノアミンは、導電性微粒子の分散性も良好であり、かつ、マイケル付加反応が一段階で終了し、反応による着色が少ないため好ましい。
【００８０】
第二級アミノ基のみを有する脂肪族モノアミンとしては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジヘキシルアミン、ジオクチルアミン、Ｎ−メチルエチルアミン、Ｎ−メチルイソプロピルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジsec−ブチルアミン、Ｎ−エチル−１,２−ジメチルプロピルアミン、ピペリジン、２−ピペコリン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、２,４−ルペチジン、２,６−ルペチジン、３,５−ルペチジン、２−メチルアミノエタノール、３−メチルアミノ−１,２−プロパンジオール、１−ピペラジンエタノール、３−ピペリジンメタノール、２−ピペリジンエタノール、４−ピペリジンエタノール、４−ピペリジノール、ピロリジン、３−アミノピロリジン、３−ピロリジノール等が挙げられる。特に、ジメチルアミン、ジエチルアミン、Ｎ−メチルエチルアミン、Ｎ−メチルイソプロピルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジｎ−ブチルアミンは、導電性微粒子の分散性と分散安定性がより良好となることから好ましい。
【００８１】
本発明で用いられるアミノ基含有光硬化性化合物を得るにあたって、（メタ）アクリレート化合物と第一級または第二級アミンとは、前記（メタ）アクリレート化合物中のエチレン性不飽和二重結合１００モルに対して、第一級または第二級アミンが０．５〜５０モルとなる比率で反応させることが好ましく、１．０〜３０モルとなる比率で反応させることがより好ましい。すなわち、アミノ基含有光硬化性化合物中には、０．５〜５０モル（より好ましくは１．０〜３０モル）のアミノ基（つまり、エチレン性不飽和二重結合と第一級または第二級アミンとを反応させた官能基）と、５０〜９５．５モル（より好ましくは７０〜９９モル）の未反応のエチレン性不飽和二重結合が含まれていることが好ましい。
【００８２】
第一級または第二級アミンの反応比率が０．５モル未満の場合、得られるアミノ基含有光硬化性化合物中のアミノ基の比率が小さいため、導電性微粒子の良好な分散性が得られにくくなり、その硬化膜の透明性が悪化しやすくなる。また、この反応比率が５０モルを超える場合、得られるアミノ基含有光硬化性化合物中のアミノ基の比率が非常に大きくなるため、良好な導電性微粒子の分散性は得られるが、一方でエチレン性不飽和二重結合の比率が低くなるため、塗膜作成時の光硬化性が乏しくなり、その硬化膜のハードコート性が低下しやすくなる。
【００８３】
アミノ基含有光硬化性化合物は、前記（メタ）アクリレート化合物と前記第一級または第二級アミンとを、二成分が溶解可能な溶剤中において反応させることにより得られる。これは、第一級または第二級アミン中のアミノ基が（メタ）アクリレート化合物中のエチレン性不飽和二重結合にマイケル付加することにより、分子の末端にアミノ基を導入する反応である。
【００８４】
反応温度に関しては、室温下でも速やかに反応が進むため、１０〜１１０℃が好ましく、２０〜８０℃がより好ましい。反応温度が１０℃未満の場合、原料となる（メタ）アクリレート化合物、または反応物であるアミノ基含有光硬化性化合物の溶解性が低下して析出しやすく、反応速度が低下し反応時間が長時間化するため生産性が落ちるなどの問題が生じ易い。一方、反応温度が１１０℃を超えた場合、反応物が着色するため、その着色したアミノ基含有光硬化性化合物を用いた硬化性組成物、およびその硬化膜の色目に影響を及ぼすことになる。
【００８５】
前記（メタ）アクリレート化合物と前記第一級または第二級アミンとを反応させる際に用いる溶剤は、原料となる（メタ）アクリレート化合物および第一級または第二級アミンとの反応性を有しないものであれば、特に限定するものではない。溶剤としては、例えば、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、トルエン、キシレン、ブタノール、イソプロパノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、アジピン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチルなどが挙げられる。これらのうち、複数種の溶剤を組み合わせて用いてもよい。
【００８６】
本発明の帯電防止用硬化性組成物における導電性無機微粒子と高屈折率微粒子との重量比は、導電性無機微粒子の１００重量部に対して、高屈折率微粒子は０．５〜１００重量部用いることが好ましく、１〜５０重量部がより好ましい。高屈折率微粒子の重量比が０．５重量部未満では、硬化膜の屈折率増加や導電性向上といった効果が小さく、１００重量部を超えると導電性無機微粒子の比率の低下により硬化膜の導電性が大幅に低下する場合がある。
【００８７】
さらに、帯電防止用硬化性組成物中における導電性無機微粒子と高屈折率微粒子をあわせた無機微粒子全体の含有量は、特に制限されないが、不揮発分１００重量部のうち、好ましくは１〜８０重量部、より好ましくは１０〜７０重量部である。無機微粒子全体の含有量が１重量部未満では、導電性無機微粒子由来の帯電防止性が劇的に低下することとなり、８０重量部を超えるとバインダー成分量が少ないことにより成膜性が劣る場合がある。
【００８８】
通常、硬化膜の屈折率の上げるために、全微粒子のうちの、高屈折率微粒子の割合を増やすと、塗膜中の導電性微粒子の割合が低下するため、帯電防止性が著しく低下する。しかし、本発明では、帯電防止性を維持したまま、屈折率を上げることが可能になった。この効果は、発明者らも予期しておらず、また、他に例を見ない現象である。
【００８９】
本発明の帯電防止用硬化性組成物の製造方法としては、特に制限されないが、いくつかの方法が挙げられる。具体的には、初めに導電性無機微粒子、高屈折率微粒子及びアミノ基含有光硬化性化合物を有機溶剤中で混合分散し、安定な導電性無機微粒子／高屈折率微粒子分散体を得た後、他の様々な添加剤を添加及び調製し製造する方法、初めに導電性無機微粒子及びアミノ基含有光硬化性化合物を有機溶剤中で混合分散し、安定な導電性無機微粒子分散体を得て、一方で高屈折率微粒子及び光硬化性化合物を有機溶剤中で混合分散し、安定な高屈折率微粒子分散体を得た後、上記２種類の分散体及び他の様々な添加剤を添加及び調製し製造する方法、上記導電性無機微粒子分散体、市販の高屈折率微粒子分散体及び他の様々な添加剤を添加及び調製し製造する方法、及び導電性無機微粒子、高屈折率微粒子、アミノ基含有光硬化性化合物、有機溶剤及びその他の添加剤の全てが混合された状態で分散し製造する方法などが挙げられる
ここで、光硬化性化合物は、高屈折率微粒子の分散剤として機能するものである。高屈折率微粒子の表面は、塩基性から中性を示すことが多いため、この光硬化性化合物にアミノ基を導入する必要はない。また、この光硬化性化合物は、前記、アミノ基含有光硬化性化合物のアミノ基導入前の化合物を用いることが出来る。
【００９０】
本発明の帯電防止用硬化性組成物は、導電性無機微粒子粉末、高屈折率微粒子粉末及びアミノ基含有光硬化性化合物を単に混合して調製しても十分目的とする効果が得られる。ただし、ニーダー、ロール、アトライター、スーパーミル、乾式粉砕処理機などにより機械的に混合するか、導電性無機微粒子粉末及び／または高屈折率微粒子粉末と有機溶剤などによるサスペンジョン系にアミノ基含有光硬化性化合物を含む溶液を添加し、導電性無機微粒子表面にアミノ基含有光硬化性化合物を沈着させるなどの緊密な混合系で行なえばさらに良好な結果を得ることができる。
【００９１】
本発明の高屈折率微粒子分散体は、高屈折率微粒子粉末と市販の分散剤や界面活性剤を、有機溶剤および／または水中で上記方法により混合および／または分散しても得ることができる。市販分散剤としては、例えば、日本ルーブリゾール製：ソルスパース３０００、ソルスパース９０００、ソルスパース１７０００、ソルスパース２４０００、ソルスパース２８０００、ソルスパース３２０００、ソルスパース３５１００、ソルスパース３６０００、ソルスパース４１０００、エフカアディティブズ製：ＥＦＫＡ４００９、ＥＦＫＡ４０４６、ＥＦＫＡ４０４７、ＥＦＫＡ４０８０、ＥＦＫＡ４０１０、ＥＦＫＡ４０１５、ＥＦＫＡ４０５０、ＥＦＫＡ４０５５、ＥＦＫＡ４０６０、ＥＦＫＡ４３３０、ＥＦＫＡ４３００、ＥＦＫＡ７４６２、味の素ファインテクノ製：アジスパーＰＢ８２１、アジスパーＰＢ７１１、アジスパーＰＢ８２２、アジスパーＰＮ４１１、アジスパーＰＡ１１１、コグニスジャパン製：ＴＥＸＡＰＨＯＲＵＶ２０、ＴＥＸＡＰＨＯＲＵＶ２１、ＴＥＸＡＰＨＯＲＰ６１、ビッグケミー・ジャパン製：Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０３、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１０６、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６２、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６３、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６６、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６７、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１６８、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７１、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１７４、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１８２等が挙げられる。特に、有機溶剤中での分散性、アミノ基含有光硬化性化合物との相性の観点から、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１０、Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１が好ましい。
【００９２】
有機溶剤などの非水系ビヒクル中への導電性無機微粒子及び／または高屈折率微粒子、アミノ基含有光硬化性化合物または帯電防止用硬化性組成物の分散または溶解、及びこれらの混合などには、ペイントコンディショナー（レッドデビル社製）、ボールミル、サンドミル（シンマルエンタープライゼス社製「ダイノーミル」等）、アトライター、パールミル（アイリッヒ社製「ＤＣＰミル」等）、コボールミル、ホモミキサー、ホモジナイザー（エム・テクニック社製「クレアミックス」等）、湿式ジェットミル（ジーナス社製「ジーナスＰＹ」、ナノマイザー社製「ナノマイザー」）、微小ビーズミル（寿工業社製「スーパーアペックミル」、「ウルトラアペックミル」）等の分散機が使用できる。分散機にメディアを使う場合には、ガラスビーズ、ジルコニアビーズ、アルミナビーズ、磁性ビーズ、スチレンビーズ等を用いることが好ましい。分散に関しては、２種類以上の分散機、または大きさの異なる２種類以上のメディアをそれぞれ用い、段階的に使用しても差し支えない。
【００９３】
本発明の帯電防止用硬化性組成物は、少なくとも導電性無機微粒子、高屈折率微粒子及びアミノ基含有光硬化性化合物を含有するものであり、それ以外の成分としては、本発明の目的や効果を損なわない範囲において、溶剤、光重合開始剤、光硬化性化合物、重合禁止剤、光増感剤、レべリング剤、界面活性剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、可塑剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、酸化防止剤、シランカップリング剤、導電性ポリマー、導電性界面活性剤、無機充填剤、顔料、染料などの添加剤を加えてもよい。
【００９４】
溶剤を加える場合は、溶剤を揮発させた後に硬化処理を行なえばよい。溶剤としては、特に制限されるものでなく、様々な公知の有機溶剤を用いることができる。なかでも、水酸基含有溶剤は、親水性の高い粒子表面物性を持つ導電性無機微粒子に対して濡れ性が良いことから、溶剤組成中に含有することで分散性及びその塗料の経時安定性の向上において非常に効果的であり、かつ塗工工程のレベリング性も向上することから好ましい。全溶剤組成中の水酸基含有溶剤含有量は、１０〜１００重量％含むことが好ましい。具体体には、水酸基含有溶剤としては、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が挙げられる。特に、３−メトキシ−１−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテルは、分散性と分散安定性がより良好であることから好ましい。その他の有機溶剤としては、例えば、シクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、アセトン、アセチルアセトン、トルエン、キシレン、ｎ−ブタノール、イソブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、エタノール、メタノール、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−２−ブタノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、２−エトキシエタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ジアセトンアルコール、乳酸エチル、乳酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、２−エトキシエチルアセテート、ブチルアセテート、イソアミルアセテート、アジピン酸ジメチル、コハク酸ジメチル、グルタル酸ジメチル、テトラヒドロフラン、メチルピロリドンなどが挙げられる。これらの有機溶剤は、２種類以上を併用しても差し支えない。
【００９５】
光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物などが使用できる。
【００９６】
具体的には、モノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、４−メチル−ベンゾフェノン、２,４,６−トリメチルベンゾフェノン、メチル−ｏ−ベンゾイルベンゾエート、４−フェニルベンゾフェノン、４−（４−メチルフェニルチオ）フェニル−エネタノン、３,３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４−（１，３−アクリロイル−１，３，３’−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン、４−（１,３−アクリロイル−１,４,７,１０，１３−ペンタオキソトリデシル）ベンゾフェノン、３，３’,４，４’−テトラ（ｔ−ブチルペルオキシカルボニル）ベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシエチル）メタアンモニウムシュウ酸塩、２−／４−イソ−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−ヒドロキ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈチオキサントン−２−イロキシ−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト（１，２−ｄ）チアゾリン等が挙げられる。
【００９７】
ジカルボニル化合物としては、１，２，２−トリメチル−ビシクロ［２．１．１］ヘプタン−２，３−ジオン、ベンザイル、２−エチルアントラキノン、９，１０−フェナントレンキノン、メチル−α−オキソベンゼンアセテート、４−フェニルベンザイル等が挙げられる。
【００９８】
アセトフェノン化合物としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−ジ-２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−スチリルプロパン−１−オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２，２−ジエトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノ−プロパノニル）−９−ブチルカルバゾール等が挙げられる。
【００９９】
ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイゾブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
【０１００】
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ｎ−プロピルフェニル−ジ（２，６−ジクロロベンゾイル）ホスフィンオキシド等が挙げられる。
【０１０１】
アミノカルボニル化合物としては、メチル−４−（ジメトキシアミノ）ベンゾエート、エチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−ｎ−ブトキシエチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、イソアミル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、４，４’−ビス−４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ビス−４−ジエチルアミノベンゾフェノン、２，５’−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン等が挙げられる。光重合開始剤の市販品としてはチバ・スペシャリティ・ケミカルズ社製イルガキュア１８４、６５１、５００、907、127、369、784、2959、ＢＡＳＦ社製ルシリンＴＰＯ、日本シーベルヘグナー製エサキュアワン等があげられる。
【０１０２】
光重合開始剤は、上記化合物に限定されず、紫外線や可視光により重合を開始させる能力があれば、どのようなものでも構わない。これらの光重合開始剤は、一種類または二種類以上を混合して用いてもよい。
光重合開始剤の使用量に関しては、特に制限はされないが、光硬化性化合物の全量１００重量部に対して１〜２０重量部の範囲内で使用することが好ましい。
また、増感剤として公知の有機アミン等を加えることもできる。
さらに、上記ラジカル重合用開始剤のほかに、カチオン重合用の開始剤も併用することができる。
【０１０３】
本発明の帯電防止用硬化性組成物は、アミノ基含有光硬化性化合物の他に、その他のバインダー樹脂、光硬化性化合物を加えてもよい。
【０１０４】
バインダー樹脂としては、例えば、ポリウレタン樹脂、ポリウレア樹脂、ポリウレタンウレア樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、アミノ樹脂、スチレン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリアミド樹脂、フェノール樹脂、ビニル樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、一種類または二種類以上を混合して用いてもよい。
【０１０５】
光硬化性化合物としては、例えば、（メタ）アクリル系化合物、脂肪酸ビニル化合物、アルキルビニルエーテル化合物、α−オレフィン化合物、ビニル化合物、エチニル化合物等の重合性不飽和二重結合基を有する化合物を用いることができる。これらの重合性不飽和二重結合基を有する化合物は、さらに水酸基、アルコキシ基、カルボキシル基、アミド基、シラノール基等の官能基を有していてもよい。
【０１０６】
（メタ）アクリル系化合物としては、ベンジル（メタ）アクリレート、アルキル系（メタ）アクリレート、アルキレングリコール系（メタ）アクリレート、カルボキシル基と重合性不飽和二重結合とを有する化合物、水酸基を有する（メタ）アクリル系化合物、窒素含有（メタ）アクリル系化合物等がある。また、単官能、多官能の化合物を適宜使用することができる。光硬化性、塗膜のハードコート性の点からは、多官能のものが好ましい。
【０１０７】
単官能の（メタ）アクリル系化合物として具体的には、アルキル系（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ヘプタデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ノナデシル（メタ）アクリレート、イコシル（メタ）アクリレート、ヘンイコシル（メタ）アクリレート、ドコシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２２のアルキレン（メタ）アクリレートが挙げられる。極性の調製を目的とする場合には、炭素数２〜１０、さらに好ましくは炭素数２〜８のアルキル基を有するアルキル基含有アクリレートまたは対応するメタクリレートを用いることが好ましい。また、レべリング性の調節等を目的とする場合には、炭素数６以上のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートを用いることが好ましい。
【０１０８】
また、アルキレングリコール系（メタ）アクリレートとしては、ジエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート等の末端に水酸基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、プロポキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ブトキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ｎ−ペンタキシテトラプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリテトラメチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート等の末端にアルコキシ基を有し、ポリオキシアルキレン鎖を有するモノアクリレートまたは対応するモノメタクリレート、フェノキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシヘキサエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシテトラプロピレンエチレングリコール（メタ）アクリレート等の末端にフェノキシまたはアリールオキシ基を有するポリオキシアルキレン系アクリレートまたは対応するメタクリレートが挙げられる。
【０１０９】
さらに、カルボキシル基及び重合性不飽和二重結合を有する化合物としては、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、または、これらのアルキルもしくはアルケニルモノエステル、フタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、イソフタル酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、コハク酸β−（メタ）アクリロキシエチルモノエステル、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、けい皮酸等が挙げられる。
【０１１０】
水酸基含有（メタ）アクリル系化合物としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、グリセロールモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシビニルベンゼン、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１１１】
窒素含有（メタ）アクリル系化合物としては、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−プロポキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ペントキシメチル−（メタ）アクリルアミド等のモノアルキロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−メチロール−Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（メチロール）アクリルアミド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−メトキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（エトキシメチル）アクリルアミンド、Ｎ−エトキシメチル−Ｎ−プロポキシメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（プロポキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（プロポキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ブトキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル−Ｎ−（メトキシメチル）メタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジ（ペントキシメチル）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル−Ｎ−（ペントキシメチル）メタアクリルアミド等のジアルキロール（メタ）アクリルアミド等のアクリルアミド系不飽和化合物、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、メチルエチルアミノエチル（メタ）アクリレート、ジメチルアミノスチレン、ジエチルアミノスチレン等のジアルキルアミノ基を有する不飽和化合物及び対イオンとしてＣｌ-、Ｂｒ-、Ｉ-等のハロゲンイオンまたはＱＳＯ3-（Ｑ：炭素数１〜１２のアルキル基）を有するジアルキルアミノ基含有不飽和化合物の４級アンモニウム塩等がある。
【０１１２】
さらに、その他の不飽和化合物としては、パーフルオロメチルメチル（メタ）アクリレート、パーフルオロエチルメチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロブチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロオクチルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロイソノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロノニルエチル（メタ）アクリレート、２−パーフルオロデシルエチル（メタ）アクリレート、パーフルオロプロピルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルプロピル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルアミル（メタ）アクリレート、パーフルオロオクチルウンデシル（メタ）アクリレート等の炭素数１〜２０のパーフルオロアルキル基を有するパーフルオロアルキルアルキル（メタ）アクリレート類を挙げることができる。
【０１１３】
また、パーフルオロブチルエチレン、パーフルオロヘキシルエチレン、パーフルオロオクチルエチレン、パーフルオロデシルエチレン等のパーフルオロアルキル、アルキレン類等のパーフルオロアルキル基含有ビニルモノマー、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等のアルコキシシリル基含有ビニル化合物及びその誘導体、グリシジルアクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルアクリレート等のグリシジル基含有アクリレートが挙げられる。
【０１１４】
アルキルビニルエーテル化合物としては、ブチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル等が挙げられる。
【０１１５】
α−オレフィン化合物としては、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン等が挙げられる。
【０１１６】
ビニル化合物としては、酢酸アリル、アリルアルコール、アリルベンゼン、シアン化アリル等のアリル化合物、シアン化ビニル、ビニルシクロヘキサン、ビニルメチルケトン、スチレン、α−メチルスチレン、２−メチルスチレン、クロロスチレン等が挙げられる。
【０１１７】
エチニル化合物としては、アセチレン、エチニルベンゼン、エチニルトルエン、１−エチニル−１−シクロヘキサノール等が挙げられる。
これらは、一種類または二種類以上を混合して用いてもよい。
【０１１８】
光硬化性化合物は、塗膜強度、耐擦傷性の観点より、少なくとも３つの官能基を有するポリウレタンポリ（メタ）アクリレート、ポリエポキシポリ（メタ）アクリレート等のポリ（メタ）アクリレート類、分子内に３個以上のアクリロイル基を有する多官能のアクリレート類を好適に使用することができる。
【０１１９】
ポリエポキシポリ（メタ）アクリレートは、エポキシ樹脂のエポキシ基を（メタ）アクリル酸でエステル化し官能基を（メタ）アクリロイル基としたものであり、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物、ノボラック型エポキシ樹脂への（メタ）アクリル酸付加物等がある。
【０１２０】
ポリウレタンポリ（メタ）アクリレートは、例えば、ジイソシアネートと水酸基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得られるもの、ポリオールとポリイソシアネートとをイソシアネート基過剰の条件下に反応させてなるイソシアネート基含有ウレタンプレポリマーを、水酸基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得られるものがある。あるいは、ポリオールとポリイソシアネートとを水酸基過剰の条件下に反応させてなる水酸基含有ウレタンプレポリマーを、イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類と反応させて得ることもできる。
【０１２１】
ポリオールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、ブチレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、３−メチル−１，５−ペンタングリコール、ネオペンチルグリコール、ヘキサントリオール、トリメリロールプロパン、ポリテトラメチレングリコール、アジピン酸とエチレングリコールとの縮重合物等が挙げられる。
【０１２２】
ポリイソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート等が挙げられる。
【０１２３】
水酸基をもつ（メタ）アクリレート類としては、２−ヒドロキシエチルアクリレート，２−ヒドロキシプロピルアクリテート、４−ヒドロキシブチルアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート等が挙げられる。
【０１２４】
イソシアネート基を有する（メタ）アクリレート類としては、２−メタクリロイルオキシエチルイソシアネート、メタクリロイルイソシアネート等が挙げられる。
【０１２５】
光硬化性化合物の市販品としては、東亜合成製のアロニックスＭ−４００、アロニックスＭ−４０２、アロニックスＭ−４０８、アロニックスＭ−４５０、アロニックスＭ−７１００、アロニックスＭ−８０３０、アロニックスＭ−８０６０、大阪有機化学製のビスコート♯４００、化薬サートマー製のＳＲ−２９５、ダイセルＵＣＢ製のＤＰＨＡ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ １２９０Ｋ、Ｅｂｅｃｒｙｌ ５１２９、Ｅｂｅｃｒｙｌ ２２２０、Ｅｂｅｃｒｙｌ ６６０２、新中村化学製のＮＫエステルＡ-ＴＭＭＴ、ＮＫオリゴＥＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＭＡ−１０２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３１０、ＮＫオリゴＥＡ−６３２０、ＮＫオリゴＥＡ−６３４０、ＮＫオリゴＭＡ−６、ＮＫオリゴＵ−４ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−６ＨＡ、ＮＫオリゴＵ−３２４Ａ、ＢＡＳＦ製のＬａｒｏｍｅｒＥＡ８１、サンノプコ製のフォトマー３０１６、荒川化学工業製のビームセット３７１、ビームセット５７５、ビームセット５７７、ビームセット７００、ビームセット７１０、根上工業製のアートレジンＵＮ−３３２０ＨＡ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＢ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＣ、アートレジンＵＮ−３３２０ＨＳ、アートレジンＵＮ−９０００Ｈ、アートレジンＵＮ−９０１Ｔ、アートレジンＨＤＰ、アートレジンＨＤＰ−３、アートレジン Ｈ６１、日本合成化学製の紫光ＵＶ−７６００Ｂ、紫光ＵＶ−７６１０Ｂ、紫光ＵＶ−７６２０ＥＡ、紫光ＵＶ−７６３０Ｂ、紫光ＵＶ−１４００Ｂ、紫光ＵＶ−１７００Ｂ、紫光ＵＶ−６３００Ｂ、共栄社化学製のライトアクリレートＰＥ−４Ａ、ライトアクリレートＤＰＥ−６Ａ、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｔ、ＵＡ−３０６Ｉ、日本化薬製のＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ２Ｃ、ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ−４０Ｈ、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３１０、ＫＡＹＡＲＡＤ Ｄ−３３０、等が挙げられる。
【０１２６】
次に、本発明の硬化膜とその積層体に関して説明する。
本発明の硬化膜は、本発明の硬化性組成物を基材上に膜厚が好ましくは、０．１〜３０μｍ、より好ましくは０．１〜２０μｍになるように塗工後、硬化処理することにより形成することができる。
本発明により、表面抵抗値が、１×１０12Ω／□以下であり、屈折率が１．５〜１．９である硬化膜を得ることできる。
形成時において、硬化膜は、基材に直接塗工されてもよいし、硬化膜と基材との間に１層以上の機能層が存在してもよい。
【０１２７】
本発明の硬化膜が使用される基材としては、金属、セラミックス、ガラス、プラスチック、木材、スレート等が挙げられ、特に制限されるものではない。具体的なプラスチックの種類としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ポリアミド、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。また基材の形状としてはフィルムシート、板状パネル、レンズ形状、ディスク形状、ファイバー状の物が挙げられるが、特に制限されるものではない。
【０１２８】
塗工方法としては、公知の方法を用いることができ、例えばロッドまたはワイヤーバーなどを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロットまたはスピンなどの各種コーティング方法を用いることができる。
【０１２９】
また、硬化処理は、公知の技術を用いて、例えば、紫外線、電子線、波長４００〜５００ｎｍの可視光線等の活性エネルギー線を照射することにより行なうことができる。紫外線および波長４００〜５００ｎｍの可視光線の線源（光源）には、例えば高圧水銀ランプ。超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。電子線源には、熱電子放射銃、電解放射銃等を使用することができる。
【０１３０】
照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内であることが好ましく、さらには生産性の点から５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲内であることが好ましい。また、これらの活性エネルギー線照射に、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱処理を併用することができる。
【０１３１】
本発明の硬化膜は、基材に硬化性組成物を塗工し、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なって形成しても良いし、塗工し硬化処理を行なったあとに自然または強制乾燥させても良いが、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なう方がより好ましい。
【０１３２】
特に、電子線で硬化させる場合は、水による硬化阻害または有機溶剤の残留による塗膜の強度低下を防ぐため、自然または強制乾燥させたあとに硬化処理を行なう方がより好ましい。また、硬化処理のタイミングは塗工と同時でも構わないし、塗工後でも構わない。
【０１３３】
本発明の硬化膜は、ハードコート性、透明性、耐光性、高屈折率性、帯電防止性に優れるため、光学材料として好適に利用することが出来る。したがって本発明の硬化性組成物による硬化膜は積層体として、陰極線管、フラットディスプレイパネル（液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイ、発光ダイオードディスプレイ等）等の各種表示装置の前面板あるいはこれらの入力装置としても利用される。またその他、工学用レンズ、メガネ用レンズ、光記録ディスク（コンパクトディスク、ＤＶＤディスク、ブルーレィディスク等）、ライトケース等に広く利用できる。
【０１３４】
また本発明の積層体は、本発明の硬化膜および基材に加え、屈折率の異なる膜、粘着層または情報記録層などの機能層を１層以上含むことが好ましい。
【０１３５】
屈折率の異なる膜（ア）、粘着層（ア）または情報記録層（ア）は、下記（Ｉ）〜（ＩＸ）などの層構成・位置に積層されていてもよい。
（Ｉ） 基材／（ア）／硬化膜
（ＩＩ） 基材／硬化膜／（ア）
（ＩＩＩ） 基材／（ア）／硬化膜／（ア）
（ＩＶ） （ア）／基材／硬化膜
（Ｖ） （ア）／基材／（ア）／硬化膜
（ＶＩ） （ア）／基材／硬化膜／（ア）
（ＶＩＩ） （ア）／基材／（ア）／硬化膜／（ア）
（ＶＩＩＩ） （ア）／硬化膜／基材／硬化膜
（ＩＸ） 硬化膜／（ア）／基材／硬化膜
屈折率の異なる膜または情報記録層は、本発明の硬化物が有する機能以外の機能を持ち、その形成方法は特に限定されず、公知の方法で形成される。
【０１３６】
例えば蒸着、スパッタなどのドライコーティング法、ロッド、ワイヤーバーを用いた方法や、マイクログラビア、グラビア、ダイ、カーテン、リップ、スロット、スピン等のウェットコーティング方法を用いることができる。用いる材料も限定は無く必要に応じて、情報記録機能、防眩機能、ニュートンリング防止機能、粘着機能、特定波長の遮断、密着向上、色調補正などの機能を１種類以上付与することができる。
【０１３７】
情報記録層としては、レーザー光などにより何らかの化学的変化を生じさせ、その変化により情報を記録するものであればよく、材料は特に限定しないが、例えば有機系の材料としては、ポリメチン色素、ナフタロシアニン系、フタロシアニン系、スクアリリウム系、アントラキノン系、キサンテン系、トリフェニルメタン系金属錯体化合物が挙げられ、上記の染料を１種又は２種以上の組合せで用いることができる。また無機系の記録層としては、Ｔｅ、Ｇｅ、Ｓｅ、Ｉｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｕ、Ｐｔ等の金属、半金属を１種又は２種以上の組合せで用いることができる。情報記録層は積層などでも良く、光化学変化の態様は相変化、バブル、穴あけタイプのいずれでも良い。さらにＦｅ、Ｔｂ、Ｃｏを主体とした光磁気記録層であっても良いし、スピロピラン、フルキド系のフォトクロミック材料であっても良い。
【０１３８】
また、高屈折率の硬化膜は反射防止の観点から、表層に低屈折率の被覆硬化膜を設け反射防止機能を付与した積層体として利用することも好ましい。
【０１３９】
また、反射干渉縞が問題となる積層体においては本発明の硬化性組成物中の金属酸化物の配合量を調製し、その硬化膜と基材との屈折率の差が、または、硬化膜と基材との間に層が有る場合は、本発明の硬化膜と硬化膜の接する下層との屈折率の差が±０．０２以内にすることが好ましい。
【実施例】
【０１４０】
以下、製造例、実施例に基づき本発明をさらに詳しく説明する。製造例、実施例中、部および％は、重量部および重量％をそれぞれ表す。
【０１４１】
（製造例１）
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈのアクリレート化合物（根上工業（株）製「ＵＮ−３３２０ＨＳ」）２０部をメチルイソブチルケトン３１．７４部に溶解させた溶液に、ジブチルアミン１．１６部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１）のメチルイソブチルケトン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４２】
（製造例２）
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈのアクリレート化合物（根上工業（株）製「ＵＮ−３３２０ＨＳ」）２０部をメチルイソブチルケトン３０.３６部に溶解させた溶液に、１−アミノへキサン０．２４部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１０）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（２）のメチルイソブチルケトン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４３】
（製造例３）
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈのアクリレート化合物（共栄社化学（株）製「ＵＡ−３０６Ｔ」）２０部をメチルイソブチルケトン３５．１９部に溶解させた溶液に、１，３−ジアミノプロパン３．４６部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／３０）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（３）のメチルイソブチルケトン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４４】
（製造例４）
光硬化後の鉛筆硬度が２Ｈのアクリレート化合物（荒川化学工業（株）製「ビームセット７００」）２０部をシクロヘキサノン３４.０４部に溶解させた溶液に、ピペリジン３．５９部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／２０）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（４）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４５】
（製造例５）
光硬化後の鉛筆硬度が２Ｈのアクリレート化合物（根上工業（株）製「ＵＮ−９０００Ｈ」）２０部をシクロヘキサノン３０．２４部に溶解させた溶液に、ジブチルアミン０．１６部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（５）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４６】
（製造例６）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業（株）製：ビスコート＃３００）２５０．０部、ヒドロキノン０．１６部、シクロヘキサノン１４１．２部を仕込み、８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）１．６５部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン３３．９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン２．６５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、多官能（メタ）アクリレート化合物（ａ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分７０％、数平均分子量（ＭＮ）８７０、重量平均分子量（ＭＷ）２，８３０であった。
【０１４７】
ここで、数平均分子量、重量平均分子量は、東ソー株式会社製ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣを用い、ポリスチレン換算により得られた値である。カラムはＴＳＫｇｅｌＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｎ、溶媒はテトラヒドロフランを使用した。
【０１４８】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ａ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分７０％）２８.６部をシクロヘキサノン２３．０７部で希釈した溶液（固形分４０％）に、ジブチルアミン１．１部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（６）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１４９】
（製造例７）
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ａ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分７０％）２８.６部をメチルイソブチルケトン２２．４部で希釈した溶液不揮発分４０％）に、ジヘキシルアミン０．６５部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１０）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（７）のメチルイソブチルケトン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１５０】
（製造例８）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）４６３．２部、ヒドロキノン０．２８部、シクロヘキサノン５６３．２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）２．８２部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）１４３．４部、シクロヘキサノン１４６．５部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン４．５３部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却し、多官能（メタ）アクリレート化合物（ｂ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量（ＭＮ）９２０、重量平均分子量（ＭＷ）２，２００であった。
【０１５１】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｂ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分５０％）３０．０部をシクロヘキサノン９．１部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、ジブチルアミン１．０５部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（８）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１５２】
（製造例９）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、９、９−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）フルオレン二酸無水物（JFEケミカル株式会社製、商品名 ＢＰＡＦ）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業株式会社、商品名：ビスコート＃３００）２００．２部、ヒドロキノン０．１５部（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン２００．１部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．５０部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）６２．０部、シクロヘキサノン４２．４部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬工業株式会社製）２．４１部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、多官能（メタ）アクリレート化合物（ｃ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分６０％、数平均分子量（ＭＮ）８３０、重量平均分子量（ＭＷ）２，３１０であった。
【０１５３】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｃ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分６０％）２０．０部をシクロヘキサノン１０．４部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、ジエチルアミン０．３部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１０）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（９）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１５４】
（製造例１０）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）１２４．８部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）２２２．８部、ヒドロキノン０．２１部、シクロヘキサノン４３０．０部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）２．１４部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン８０．７部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン３．４２部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して、多官能（メタ）アクリレート化合物（ｄ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量（ＭＮ）１，０５０、重量平均分子量（ＭＷ）３，８３０であった。
【０１５５】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｄ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分５０％）３０．０部をシクロヘキサノン９．１部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、２−ピペリジンエタノール１．０５部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１０）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１５６】
（製造例１１）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学製）１００．０ｇ、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）５５６．８、ヒドロキノン０．３３ｇ、シクロヘキサノン４３７．８ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）３．２８ｇを加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本製）９６．６ｇ、シクロヘキサノン６６．８ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン５．２８ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して多官能（メタ）アクリレート化合物（ｅ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分６０％、数平均分子量ＭＮ８２０、重量平均分子量ＭＷ２，６６０であった。
【０１５７】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｅ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分５０％）３０．０部をシクロヘキサノン９．１部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、ジブチルアミン１．１部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１１）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１５８】
（製造例１２）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにブタンテトラカルボン酸二無水物（新日本理化株式会社製：リカシッド ＢＴ−１００）５０．０部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）４１３．４部、ヒドロキノン０．２３部、シクロヘキサノン４６３．４部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業製）２．３２部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本製）７１．７部、シクロヘキサノン７４．３部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン３．７３ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して多官能（メタ）アクリレート化合物（ｆ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ９００、重量平均分子量ＭＷ２，０７０であった。
【０１５９】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｆ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分５０％）３０．０部をシクロヘキサノン９．１部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、ジブチルアミン１．１部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１２）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１６０】
（製造例１３）
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにナフタレン二無水物（ＪＦＥケミカル株式会社製、商品名 ＮＴＣＤＡ）１００．０ｇ、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）３４２．２ｇ、ヒドロキノン０．２２ｇ（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン４４２．２ｇを仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）２．２１ｇを加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）１０５．９ｇ、シクロヘキサノン１０８．４ｇを加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）３．５６ｇを加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して多官能（メタ）アクリレート化合物（ｇ）のシクロヘキサノン溶液を得た。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８２０、重量平均分子量ＭＷ２，４４０であった。
【０１６１】
光硬化後の鉛筆硬度が３Ｈの上記多官能（メタ）アクリレート化合物（ｇ）を含有するシクロヘキサノン溶液（不揮発分５０％）３０．０部をシクロヘキサノン９．１部で希釈した溶液（不揮発分４０％）に、ジブチルアミン１．１部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１３）のシクロヘキサノン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１６２】
（製造例１４）
光硬化後の鉛筆硬度がＨＢのアクリレート化合物（荒川化学工業（株）製「ビームセット７５０」）２０部をメチルイソブチルケトン３２．２７部に溶解させた溶液に、ジブチルアミン１．５１部（エチレン性不飽和二重結合モル数／アミン化合物のモル数＝１００／１５）を添加し、４０℃で５時間攪拌したあと、室温まで冷却し、アミノ基含有光硬化性化合物（１４）のメチルイソブチルケトン溶液（不揮発分４０％）を得た。
【０１６３】
（製造例１５：光硬化性化合物（１））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業（株）製：ビスコート＃３００）２５０．０部、ヒドロキノン０．１６部、シクロヘキサノン１４１．２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）１．６５部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン２６９．９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン２．６５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８７０、重量平均分子量ＭＷ２，８３０であった。
【０１６４】
（製造例１６：光硬化性化合物（２））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）２５０．０部、ヒドロキノン０．１６部、シクロヘキサノン１４１．２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）１．６５部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン２６９．９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン２．６５部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ９２０、重量平均分子量ＭＷ３，１３０であった。
【０１６５】
（製造例１７：光硬化性化合物（３））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）８０．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）１２４．８部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）２２２．８部、ヒドロキノン０．２１部、シクロヘキサノン４３０．０部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）２．１４部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）７７．３部、シクロヘキサノン８０．７部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン３．４２部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ１，０５０、重量平均分子量ＭＷ３，８３０であった。
【０１６６】
（製造例１８：光硬化性化合物（４））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに９、９−Ｂｉｓ（３，４−ｄｉｃａｒｂｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）ｆｌｕｏｒｅｎｅ Ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ（JFEケミカル株式会社製、商品名 ＢＰＡＦ）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（大阪有機化学工業株式会社製、商品名：ビスコート＃３００）２００．２部、ヒドロキノン０．１５部（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン２００．１部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．５０部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）６２．０部、シクロヘキサノン１６３．７５部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）２．４１部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８３０、重量平均分子量ＭＷ２，３１０であった。
【０１６７】
（製造例１９：光硬化性化合物（５））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにテトラヒドロナフタレン二無水物（新日本理化株式会社製、商品名 リカシッドＴＤＡ−１００）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）３０５．７部、ヒドロキノン０．２０部（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン４０５．７部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）２．０３部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本株式会社製）９４．６部、シクロヘキサノン９６．９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）３．２６部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８７０、重量平均分子量ＭＷ３，１５０であった。
【０１６８】
（製造例２０：光硬化性化合物（６））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにナフタレン二無水物（ＪＦＥケミカル株式会社製、商品名 ＮＴＣＤＡ）１００．０部、ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＰＥＴ−３０）３４２．２部、ヒドロキノン０．２２部（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン４４２．２部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）２．２１部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）１０５．９部、シクロヘキサノン１０８．４部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）３．５６部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８２０、重量平均分子量ＭＷ２，４４０であった。
【０１６９】
（製造例２１：光硬化性化合物（７））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコにビフェニルテトラカルボン酸二無水物（三菱化学（株）製）１００．０部、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（日本化薬株式会社製：ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ）５５６．８、ヒドロキノン０．３３部、シクロヘキサノン４３７．８部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業（株）製）３．２８部を加え、８５℃で８時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）９６．６部、シクロヘキサノン３１９．２１部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン５．２８部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８２０、重量平均分子量ＭＷ２，６６０であった。
【０１７０】
（製造例２２：光硬化性化合物（８））
撹拌機、還流冷却管、ドライエアー導入管、温度計を備えた４口フラスコに９、９−Ｂｉｓ（３，４−ｄｉｃａｒｂｏｘｙｐｈｅｎｙｌ）ｆｌｕｏｒｅｎｅ Ｄｉａｎｈｙｄｒｉｄｅ（ＪＦＥケミカル株式会社製、商品名 ＢＰＡＦ）１００．０部、アクリル酸２−ヒドロキシエチル（日本触媒株式会社製）５０．７部、ヒドロキノン０．０８部（和光純薬工業株式会社製）、シクロヘキサノン１００．４部を仕込み８５℃まで昇温した。次いで触媒として１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン（東京化成工業株式会社製）１．５１部を加え、８５℃で５時間撹拌し、グリシジルメタクリレート（ダウ・ケミカル日本（株）製）６２．０部、シクロヘキサノン１１３．８９部を加え、次いで触媒として、ジメチルベンジルアミン（和光純薬株式会社製）１．２１部を加え、８５℃で６時間撹拌し、室温まで冷却して反応を終了した。この反応溶液は淡黄色透明で不揮発分５０％、数平均分子量ＭＮ８９０、重量平均分子量ＭＷ１，２００であった。
【０１７１】
[導電性無機微粒子分散ペーストの作製：製造例２３〜４０]
上記製造例１〜１４により調製したアミノ基含有光硬化性化合物（１）〜（１４）を用い、表１に示す配合により導電性無機微粒子の分散を行ない、導電性無機微粒子分散ペーストを調製した。分散方法は、仮分散（ジルコニアビーズ（１．２５ｍｍ）をメディアとして用いペイントシェイカーで１時間分散）と、本分散（ジルコニアビーズ（０．１ｍｍ）をメディアとして用い寿工業製分散機ＵＡＭ−０１５で分散）の２段階で行なった。
（配合）
【０１７２】
【表１】
【０１７３】
表１において、
Ｓｂ２Ｏ５：日産化学工業製「サンエポックＥＦＲ−６Ｎ」（平均一次粒子径：２０ ｎｍ）
ＡＴＯ：石原産業製「ＳＮ−１００Ｐ」（平均一次粒子径：２０ｎｍ）
ＩＴＯ：シーアイ化成製「ナノテックＩＴＯ」（平均一次粒子径：３０ｎｍ）
ＰＴＯ：触媒化成工業製「ＴＬ−３０Ｓ」（平均一次粒子径：３０ｎｍ）
市販多官能モノマー：荒川化学工業製「ビームセット７５０」（ビスフェノールＡエ チレンオキサイド変性アクリレート、分子量（Ｍｗ）５１２、光硬化後の鉛筆硬度Ｈ Ｂ）
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
メトブタ：３−メトキシ−１−ブタノール
【０１７４】
[高屈折率微粒子分散ペーストの作製：製造例４１〜５２]
上記製造例１５〜２２により調製した光硬化性化合物（１）〜（８）を用い、表２に示す配合により、高屈折率微粒子の分散を行ない、高屈折率微粒子分散ペーストを調製した。分散方法は、仮分散（ジルコニアビーズ（０．５ｍｍ）をメディアとして用いペイントシェイカーで１時間分散）と、本分散（ジルコニアビーズ（０．０３ｍｍ）をメディアとして用い寿工業製分散機ＵＡＭ−０１５で分散）の２段階で行なった。
（配合）
【０１７５】
【表２】
【０１７６】
表２において、
ＴＩＯ２：テイカ製「ＭＴＹ−０２」（平均一次粒子径：１０ｎｍ）
ＺｒＯ２：日本電工製「ＰＣＳ」（平均一次粒子径：３０ｎｍ）
市販分散剤：ビックケミー・ジャパン製「Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ−１１１」
市販多官能モノマー：荒川化学工業製「ビームセット７５０」（ビスフェノールＡエ チレンオキサイド変性アクリレート、分子量（Ｍｗ）５１２、光硬化後の鉛筆硬度Ｈ Ｂ）
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
【０１７７】
[塗料化及び硬化膜評価：実施例１〜１９、比較例１〜７]
上記で調製した導電性無機微粒子および／または高屈折率微粒子分散ペーストを用いて、表３に示す組成の硬化性組成物を調製し、１００μｍ厚の易接着処理ＰＥＴフィルム（東洋紡製「コスモシャインＡ−４１００」）に、バーコーターを用いて乾燥膜厚で５μｍになるように塗工した後、高圧水銀ランプで４００ｍＪ/ｃｍ2の紫外線を照射し、帯電防止用ハードコート層（硬化膜）を形成した。得られた帯電防止用ハードコート層について、下記の方法で表面抵抗、屈折率、耐擦傷性、鉛筆硬度、透明性（ヘイズ）および耐光性を評価した。その結果を表３に示す。
【０１７８】
【表３】
【０１７９】
表３において、
【０１８０】
光硬化性化合物（１）：日本合成化学製「紫光ＵＶ−１７００Ｂ」
光硬化性化合物（２）：共栄社化学製「ＵＡ−３０６Ｔ」
光硬化性化合物（３）：日本化薬製「ＫＡＹＡＲＡＤ ＤＰＨＡ」
市販Ｓｂ２Ｏ５分散体：触媒化成工業製「ＥＬＣＯＭ Ｐ−４５」（粒子表面に酸化 ケイ素処理）
市販ＴｉＯ２分散体：触媒化成工業製「ＱＵＥＥＮＴＩＴＡＮＩＣ」
光重合開始剤：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製「イルガキュア１８４」
溶剤：メトブタ（３−メトキシ−１−ブタノール）
基材：１００μｍＰＥＴ（東洋紡製「コスモシャインＡ−４１００」易接着処理面に 塗工）
＊１：導電性無機微粒子ペーストが分散不良だったので未測定
＊２：高屈折率微粒子ペーストが分散不良だったので未測定
＊３：調整した硬化性組成物がゲル化したので未測定
【０１８１】
[積層体の作製及び評価：実施例２０〜２５]
（低屈折率塗液の作製）
１,２,９,１０−テトラアクリロイルオキシー４，４，５，５，６，６，７，７−オクタフルオロデカン５０重量部、シリカゾル不揮発分３０％分散液（日産化学工業株式会社製ＭＥＫ-ＳＴ）１２０重量部２’、２’―ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）プロピオン酸（２−ヒドロキシ）−４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１１，１１，１１―ノナデカフルオロウンデシル１０重量部、ブチルアルコール９００重量部光開始剤（日本化薬株式会社製ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ）５重量部を混合し低屈折率塗液を調製した。
【０１８２】
製造例２３の導電性無機微粒子および製造例４１の高屈折率微粒子分散体を用いて表４に示す配合による組成の硬化性組成物を調製し、１００μｍ厚の易接着処理ＰＥＴフィルムの易接着処理面に、バーコーターを用いて乾燥膜厚で６μｍとなるよう塗布し、１００℃１分で乾燥し高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。ここで得られた試験片にさらに低屈折塗液をスピンコーターにて、乾燥膜厚でλ/４を示す光の波長が５５０ｎｍ程度になるように層の厚さを調整し、１００℃１分で乾燥し高圧水銀ランプで４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し積層体を得た。
【０１８３】
得られた積層体について、下記の方法で表面抵抗、耐擦傷性、鉛筆硬度、透明性（Ｈａｚｅ値）、屈折率、視感反射率を評価した。その結果を表４に示す。
【０１８４】
【表４】
【０１８５】
表４において
光硬化性化合物（１）：日本合成化学製「紫光ＵＶ−１７００Ｂ」
光重合開始剤：チバ・スペシャリティ・ケミカルズ製「イルガキュア１８４」
溶剤：メトブタ（３−メトキシ−１−ブタノール）
基材：１００μｍＰＥＴ（東洋紡製「コスモシャインＡ−４１００」易接着処理面に 塗工）
【０１８６】
[評価方法]
（１）表面抵抗
硬化膜の表面抵抗値（Ω／□）を、東亜ＤＫＫ社製ＳＭＥ−８２２０を用いて測定した。また、表面抵抗が１×１０12以下の場合であれば、良好、表面抵抗が１×１０12より高い場合であれば、不良と判定できる。
【０１８７】
（２）耐擦傷性
塗工物を学振試験機にセットし、スチールウールのＮｏ.００００を用いて、荷重２５０ｇで１０回学振させた。取り出した塗工物について、キズのつき具合を以下の５段階の目視で判断した。数値が大きいほど、耐擦傷性が良好であることを示す。
５：キズが全くない
４：僅かにキズが付いている
３：キズは付いているが、基材は見えていない
２：キズが付き、一部塗工物が剥がれている
１：塗工物が剥がれてしまい、基材が剥き出しの状態
【０１８８】
（３）鉛筆硬度
ＪＩＳＫ５６００に準拠し、鉛筆硬度試験機（ＨＥＩＤＯＮ社製Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ Ｔｅｓｔｅｒ ＨＥＩＤＯＮ−１４）を用い、鉛筆の芯の硬さを種々変えて、荷重５００ｇにて５回試験をした。５回中、１回も傷がつかない、もしくは１回のみ傷が付く時の芯の硬さを、その塗工物の鉛筆硬度とした。実用的な要求物性を考慮して、鉛筆硬度が
２Ｈ以上のものを○
２Ｈより低いものを×
と判定した。
【０１８９】
（４）透明性(Ｈａｚｅ値)
得られた塗工物における濁度（Ｈａｚｅ値）を、Ｈａｚｅメーター（日本電色工業社製ＮＤＨ２０００）を用いて測定した。Ｈａｚｅ値が、１以下であれば、透明性良好であり、１以上であれば、透明性不良であると判定できる。
【０１９０】
（５）耐光性
硬化膜の光連続照射時の経時での黄変は、例えばディスプレイ用途を考慮した場合、非常に好ましくない。そこで、光連続照射時の黄変性を確認した。
まず、耐光性試験機（光源：キセノンランプ、照度：１００Ｗ／ｃｍ2、ブラックパネル温度：６０℃、６０％ＲＨ）にて塗工物を２４時間暴露した。その後、白色紙上に塗工物を置き、測色機（ミノルタＣＲ−３００）を用いて着色を測定した。測色値はＬ*ａ*ｂ*にて表示し、黄変性の目安をｂ*値にて判断した。ｂ*値の値が小さいほど、黄変の程度が小さく、耐光性が良好であることを表す。実用的な要求物性を考慮して、ｂ*値が
３．５未満のものを○
３．５以上のものを×
と判定した。
【０１９１】
（６）屈折率
得られた硬化膜の屈折率を、株式会社アタゴ製アッベ屈折率計を用いて測定した。
【０１９２】
（７）視感反射率
当該硬化膜の上部に、低屈折率塗液を塗布した積層体の５°反射スペクトル測定を、日立社製分光光度計Ｕ−４１００を用い行った。得られた反射率から、下記式により視感反射率を算出した。
式：視感反射率（％）＝ΣＲ（λ）Ｖ（λ）／ΣＶ（λ）
Ｒ：反射率（％）、Ｖ：比視感度
なお、従来の低屈折率層／高屈折率層の２層タイプの反射防止膜では、視感反射率０．５％以下の達成は困難である。
【０１９３】
表３の結果より、実施例の通り本発明の帯電防止用硬化性組成物は、導電性無機微粒子の分散にアミノ基含有硬化性化合物を使用すると、高屈折率微粒子分散体との相溶性がよく、かつ得られた硬化膜の硬度も飛躍的に良化した。また、高屈折率微粒子は導電性を有していないにも関わらず、これを添加することで、表面抵抗値の大幅な低下が見られた。先述のとおり、これは他に例をみない効果である。また高屈折率微粒子も光硬化性化合物で分散を行うことで、硬度に優れた硬化膜が得られ、また、比較例にある従来のＴｉＯ２分散体と比較し、導電性無機微粒子との相溶性も大幅に向上した。
【０１９４】
表４の結果より、本発明の帯電防止用硬化性組成物は高屈折率微粒子分散体の添加量を増やすにつれ、得られた硬化膜の屈折率も上昇し、視感反射率も低下した。帯電防止性を有し、Ｈａｚｅ値１以下、かつ、視感反射率０．４％であり、従来に無い効果を実現している。
【特許請求の範囲】
【請求項１】
平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの導電性無機微粒子と、
平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子と、
エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基、および、未反応のエチレン性不飽和二重結合を有する、アミノ基含有光硬化性化合物と、
を含有する帯電防止用硬化性組成物。
【請求項２】
導電性無機微粒子が、アンチモン、インジウム、スズ及び亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする請求項１記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項３】
導電性無機微粒子が、絶縁性金属酸化物および／または加水分解性の有機金属化合物で表面処理されていないものであることを特徴とする請求項１または２に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項４】
高屈折率微粒子が、チタン、ジルコニウム、セリウム、バリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする請求項１ないし４いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項５】
高屈折率微粒子表面が、酸性処理および／または疎水化処理されていることを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項６】
アミノ基含有光硬化性化合物が、光硬化後の鉛筆硬度がＨ以上になるアクリレート化合物またはメタクリレート化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させたものであることを特徴とする請求項１ないし６いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項７】
アミノ基含有光硬化性化合物が、アクリレート化合物またはメタクリレート化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを、前記アクリレート化合物またはメタクリレート化合物中のエチレン性不飽和二重結合１００モルに対して、第一級アミンまたは第二級アミンが０．５〜５０モルとなる比率で反応させたものであることを特徴とする請求項１ないし７いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項８】
アミノ基含有光硬化性化合物が、下記一般式（１）で表される化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させたものであることを特徴とする請求項１ないし８いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
一般式（１）
【化１】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ5〜Ｒ8は、それぞれ独立に非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｒ9は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
【請求項９】
第一級アミンまたは第二級アミンが、脂肪族モノアミンであることを特徴とする請求項１ないし９いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項１０】
さらに溶剤を含み、かつ溶剤が、全溶剤に対して１０〜１００重量％の水酸基含有溶剤を含むことを特徴とする請求項１ないし１０いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項１１】
請求項１ないし１１いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜。
【請求項１２】
表面抵抗値が、１×１０12Ω／□以下であることを特徴とする請求項１２記載の硬化膜。
【請求項１３】
硬化膜の厚さが、０．１〜３０μｍであることを特徴とする請求項１２または１３記載の硬化膜。
【請求項１４】
硬化膜の屈折率が、１．５〜１．９の範囲であることを特徴とする請求項１２ないし１４いずれか１項に記載の硬化膜。
【請求項１５】
基材上に請求項１２ないし１５のいずれか１項に記載の硬化膜を形成させてなる積層体。
【請求項１６】
基材が、プラスチック基材であることを特徴とする請求項１６記載の積層体。
【請求項１７】
情報記録層を含む請求項１６ないし２０いずれか１項に記載の積層体。
【請求項１８】
反射防止膜である請求項１６ないし２０いずれか１項に記載の積層体。
【請求項１９】
請求項１ないし１１いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させてなる硬化膜の製造方法。
【請求項１】
平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの導電性無機微粒子と、
平均一次粒子径が５〜１００ｎｍの高屈折率微粒子と、
エチレン性不飽和二重結合と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させた官能基、および、未反応のエチレン性不飽和二重結合を有する、アミノ基含有光硬化性化合物と、
を含有する帯電防止用硬化性組成物。
【請求項２】
導電性無機微粒子が、アンチモン、インジウム、スズ及び亜鉛からなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする請求項１記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項３】
導電性無機微粒子が、絶縁性金属酸化物および／または加水分解性の有機金属化合物で表面処理されていないものであることを特徴とする請求項１または２に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項４】
高屈折率微粒子が、チタン、ジルコニウム、セリウム、バリウムからなる群から選ばれる少なくとも一種の元素を含有するものであることを特徴とする請求項１ないし４いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項５】
高屈折率微粒子表面が、酸性処理および／または疎水化処理されていることを特徴とする請求項１ないし５いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項６】
アミノ基含有光硬化性化合物が、光硬化後の鉛筆硬度がＨ以上になるアクリレート化合物またはメタクリレート化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させたものであることを特徴とする請求項１ないし６いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項７】
アミノ基含有光硬化性化合物が、アクリレート化合物またはメタクリレート化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを、前記アクリレート化合物またはメタクリレート化合物中のエチレン性不飽和二重結合１００モルに対して、第一級アミンまたは第二級アミンが０．５〜５０モルとなる比率で反応させたものであることを特徴とする請求項１ないし７いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項８】
アミノ基含有光硬化性化合物が、下記一般式（１）で表される化合物と第一級アミンまたは第二級アミンとを反応させたものであることを特徴とする請求項１ないし８いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
一般式（１）
【化１】
（式中、Ｒ1〜Ｒ4は、それぞれ独立に水素原子またはメチル基を示し、Ｒ5〜Ｒ8は、それぞれ独立に非置換もしくは置換の、直鎖もしくは分岐鎖のアルキレン基を示し、Ｒ9は、４価の脂肪族基もしくは芳香族基を示す。）
【請求項９】
第一級アミンまたは第二級アミンが、脂肪族モノアミンであることを特徴とする請求項１ないし９いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項１０】
さらに溶剤を含み、かつ溶剤が、全溶剤に対して１０〜１００重量％の水酸基含有溶剤を含むことを特徴とする請求項１ないし１０いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物。
【請求項１１】
請求項１ないし１１いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物を硬化してなることを特徴とする硬化膜。
【請求項１２】
表面抵抗値が、１×１０12Ω／□以下であることを特徴とする請求項１２記載の硬化膜。
【請求項１３】
硬化膜の厚さが、０．１〜３０μｍであることを特徴とする請求項１２または１３記載の硬化膜。
【請求項１４】
硬化膜の屈折率が、１．５〜１．９の範囲であることを特徴とする請求項１２ないし１４いずれか１項に記載の硬化膜。
【請求項１５】
基材上に請求項１２ないし１５のいずれか１項に記載の硬化膜を形成させてなる積層体。
【請求項１６】
基材が、プラスチック基材であることを特徴とする請求項１６記載の積層体。
【請求項１７】
情報記録層を含む請求項１６ないし２０いずれか１項に記載の積層体。
【請求項１８】
反射防止膜である請求項１６ないし２０いずれか１項に記載の積層体。
【請求項１９】
請求項１ないし１１いずれか１項に記載の帯電防止用硬化性組成物を基材に塗布し、活性エネルギー線を照射して硬化させてなる硬化膜の製造方法。
【公開番号】特開２０１０−５９３３９（Ｐ２０１０−５９３３９Ａ）
【公開日】平成２２年３月１８日（２０１０．３．１８）
【国際特許分類】
【出願番号】特願２００８−２２７７９８（Ｐ２００８−２２７７９８）
【出願日】平成２０年９月５日（２００８．９．５）
【出願人】（０００２２２１１８）東洋インキ製造株式会社 (2,229)
【Ｆターム（参考）】
【公開日】平成２２年３月１８日（２０１０．３．１８）
【国際特許分類】
【出願日】平成２０年９月５日（２００８．９．５）
【出願人】（０００２２２１１８）東洋インキ製造株式会社 (2,229)
【Ｆターム（参考）】
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