本発明は、−少なくとも１種のフルオロイオノマー（１）［フルオロイオノマー（Ｉ−１）］（前記フルオロイオノマー（Ｉ−１）は、４から２０Ｊ／ｇの融解熱を有する）；
−少なくとも１種のフルオロイオノマー（１）［フルオロイオノマー（Ｉ−２）］（前記フルオロイオノマー（Ｉ−２）は、実質的に非晶質であり、すなわち、４Ｊ／ｇ未満の融解熱を有し、ここで、フルオロイオノマー（Ｉ−２）の水抽出可能な割合は４０重量％未満である）
を含む液体組成物であって、
前記液体組成物が、フルオロイオノマー（Ｉ−１）およびフルオロイオノマー（Ｉ−２）を少なくとも２：１の重量比（Ｉ−１）／（Ｉ−２）で含む液体組成物に関する。 （もっと読む）

フッ化ビニリデンまたはテトラフルオロエチレンの共重合単位４０〜９０モルパーセントと、パーフルオロ（メチルビニルエーテル）の共重合単位１０〜６０モルパーセントとを含有する、フッ化ビニリデンまたはテトラフルオロエチレンを含むパーフルオロ（メチルビニルエーテル）オリゴマーを開示し、前記オリゴマーは、２つの官能性末端基を有し、１０００から２５０００の間の数平均分子量を有する。 （もっと読む）

本発明は、モノマー（Ａ）、（Ｂ）及び（Ｃ）を重合して得られるコポリマーに関し、ここで、
（Ａ）は下記式（Ｉ）のモノマーであり、
【化１】


［式中、
Ａは、Ｃ_２−〜Ｃ_４−アルキレンを表し、そして、
Ｂは、Ａとは異なるＣ_２−〜Ｃ_４−アルキレンを表し、
ｋは、０又は１の数値であり、
ｍは、０〜５００の数値であり；
ｎは、０〜５００の数値であり、
ここでｍ＋ｎの合計は、１〜１０００である。］；
（Ｂ）は芳香族基を有するエチレン性不飽和モノマーであり；そして
（Ｃ）はアルキル基を有するエチレン性不飽和モノマーである。
本発明のコポリマーは、顔料用の分散剤として使用される。
（もっと読む）

ａ）コポリマー分散成分と、ｂ）抑泡剤成分と、ｃ）表面活性剤成分と、ｄ）水との水性組成物を含む混和材。前記の成分は配合物であるか、または物理的または化学的に結合していてもよく、且つ、硫酸カルシウム化合物含有建設用化学組成物のための分散剤として使用される安定な液体系をもたらす。 （もっと読む）

本発明は、
（Ａ） 少なくとも一種の有機及び／または無機顔料、
（Ｂ） 式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の分散剤、あるいは式（Ｉ）、（ＩＩ）、（ＩＩＩ）または（ＩＶ）の分散剤の混合物、
【化１】


【化２】


【化３】


【化４】


（Ｃ） 場合により、湿潤剤、
（Ｄ） 場合により、更なる界面活性剤及び／または分散剤、
（Ｅ） 場合により、一種またはそれ以上の有機溶剤あるいは一種またはそれ以上のハイドロトロープ物質、
（Ｆ） 場合により、水性顔料分散体の製造に慣用の更に別の添加剤、及び
（Ｅ） 水、
を含む水性顔料調合物に関する。
（もっと読む）

【解決手段】酸によってアルカリ溶解性が変化するベース樹脂となる高分子化合物と、高分子添加剤としてアミノ基を有する繰り返し単位と少なくとも１個のフッ素原子を有する繰り返し単位とを共重合した高分子化合物とを含むことを特徴とするレジスト材料。
【効果】本発明は、パターンの矩形性とマスク忠実性の優れるレジスト材料を提供することができる。また、本発明のレジスト材料を用いて形成したフォトレジスト膜は、レジスト膜表面を親水性化することによって、現像後レジスト膜上のブロッブ欠陥の発生を防止できる。また、液浸露光用のレジスト保護膜とのミキシングを防止することによってパターン形状の劣化を防ぐことができる。 （もっと読む）

【課題】水又は水に対する液浸媒体に対して高い撥水性を有し、現像液によって容易に剥離し、かつフォトレジスト層とのミキシングを起こさない保護膜を形成するための液浸リソグラフィー用レジスト保護膜形成用材料の提供。
【解決手段】少なくとも下記一般式（１）


で表されるビニルエーテル系構成単位と、 下記一般式（２）：


で表されるマレイミド系構成単位を有するビニルエーテル共重合体。 （もっと読む）

【課題】テトラフルオロエチレン-パーフルオロ(メチルビニルエーテル)を主成分とする共重合体であって、特に有機アミン類、熱水、高温水蒸気等の極性媒体に対する抵抗性が改善され、テトラフルオロエチレン-パーフルオロ(メチルビニルエーテル)主鎖骨格本来の耐化学薬品性を発現し得る含フッ素エラストマーおよびその組成物を提供する。
【解決手段】(A)テトラフルオロエチレン 55〜75モル％、(B)パーフルオロ(メチルビニルエーテル) 23〜44.9モル％および(C)一般式


(X：I,Br、m：0,1、n：2〜4)で表わされる含フッ素ビニルエーテル化合物 0.1〜2モル％からなる共重合体組成を有する含フッ素エラストマー。この含フッ素エラストマーに、芳香族ボロン酸エステル、有機パラジウム化合物、塩基性無機または有機化合物(および有機リン化合物)を配合して、含フッ素エラストマー組成物を形成させる。 （もっと読む）

【課題】本発明により、通常露光及び液浸露光によるラインエッジラフネスが改善され、液浸露光時に於ける水追随性に優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法の提供。
【解決手段】（Ａ）式（Ｉ）で表される酸分解性繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解速度が増大する樹脂、（Ｂ）活性光線又は放射線の照射により、酸を発生する化合物、（Ｃ）フッ素および珪素を含有せず、所定の構造を有する繰り返し単位を有する樹脂、および（Ｄ）溶剤、を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。式（Ｉ）中、各記号は所定の基等を表す。
【化１】
（もっと読む）

【課題】塗膜としたときに低屈折率性、透明性、防汚性、撥水撥油性、表面滑り性及び耐擦傷性等の特性を有し、かつ汎用有機溶剤への可溶性や貯蔵安定性に優れる含フッ素ランダム共重合体あるいは二重結合含有含フッ素ランダム共重合体、あるいはこれらを含む組成物を提供すること。
【解決手段】特定のフルオロオレフィン（A）１０〜７５モル％、特定のフルオロアルキルパーフルオロビニルエーテル（B）４〜７０モル％、特定の水酸基含有不飽和単量体（C）１０〜７０モル％、特定のポリシロキサン化合物（D）０．００１〜１０モル％を含んでなり、かつ、ゲルパーミエーションクロマトグラフィで測定したポリスチレン換算の重量平均分子量が5,000〜300,000であり、重量平均分子量／数平均分子量で表される分子量分布が1.0〜5.0の範囲であることを特徴とする含フッ素ランダム共重合体。 （もっと読む）