【課題】良好な外観を有する透明なコーティング膜又は成形体を形成することが可能であるとともに、得られる成形体の屈折率を容易に制御できる、成膜性の有機−無機複合体を提供すること。
【解決手段】（Ａ）空隙率が５〜８０％である無機酸化物粒子と、（Ｂ）ラジカル重合性モノマーの重合により形成され、分子量の分散度が２．３以下であり、前記無機酸化物粒子に結合しているポリマーと、を備え、成膜性を有する有機−無機複合体。 （もっと読む）

【課題】腐食、摩耗に耐えるに十分な厚さ及び／又は構造を有するポリマー層で被覆される導体又は半導体領域を含む材料を提供する。
【解決手段】開始剤官能基を有する少なくとも１種のジアゾニウム塩を使用して、前記ジアゾニウム塩由来のグラフトのグラフト化により得られるアンダーコートを形成して、前記アンダーコートにおいて導体材料又は半導体材料の表面に開始剤官能基をもたらす、及び、前記開始剤官能基により開始される、少なくとも１種のモノマーのインサイチュー重合、特にフリーラジカル重合、によって得られるポリマー層を、前記アンダーコート上に形成する。 （もっと読む）

【課題】高強度であるとともに伸びが良好であり、かつ、優れた耐燃料透過性、耐寒性、及び耐候性を示す成形体を製造可能なラテックスを提供する。
【解決手段】水分散下の板状粘土鉱物を、一般式（１）：Ａ⁻Ｏ^＋（Ａ⁻はアニオンを示し、Ｏ^＋は、ラジカル開始能を持った置換基を少なくとも一つ有する、窒素、硫黄、又はリンのオニウムを示す）で表される有機化合物によりイオン交換させて、前記板状粘土鉱物の表面に前記有機化合物が結合している板状粘土鉱物成分と、少なくとも一種のラジカル重合性単量体を含む単量体成分と、が含有される重合成分系を乳化重合して得られるラテックスである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属イオンを捕集、除去、濃縮、回収することが可能であり、製造が容易であり、製造における環境上の問題が小さく、高い金属イオン捕集能力を備えた磁性キレート材料を作製するための前駆体である磁性ビーズ及び磁性キレート材料を提供することにある。
【解決手段】磁性キレート材料の前駆体である磁性ビーズにおいて、ＨＬＢ値が６．７以下である親油性界面活性剤を使用した懸濁重合法で作製されたことを特徴とする磁性ビーズ及びこの磁性ビーズを使用して作製された磁性キレート材料。 （もっと読む）

【課題】ポリマー被覆の改質された炭素生成物およびその製造方法の提供。
【解決手段】ポリマーが少なくとも部分的に改質された炭素生成物を被覆しているような、ポリマー被覆の改質された炭素生成物が説明されている。改質された生成物は、炭素生成物に結合した少なくとも１個の有機基を有することが好ましく、かつこの有機基は、極性又は水性ベースの媒体において調製するために、イオン基、イオン化可能基、又は極性基で置換されることが好ましい。ポリマー被覆の改質された炭素生成物の製造法も説明されていて、これは水性ベース又は溶媒非含有重合法、有機溶剤ベースの重合法、又は溶液コーティング法などである。ポリマー被覆の改質された炭素生成物を含有するポリマー生成物及びマスターバッチも、衝撃強さ及び引張り強さなどの特性を改善する方法と共に説明されている。 （もっと読む）

【課題】有機溶媒を含まなくても低粘度で分散性、安定性に優れ、分散媒として有機溶媒を含まず、塗布液として用いる場合に有機溶媒を必要とせず、透明被膜を形成する場合においても乾燥工程が不要で、塗布後、直ちに硬化すればよく、しかも、樹脂被覆金属酸化物粒子とマトリックス形成成分である樹脂分散媒のみからなるため高濃度であるので厚膜形成に好適に用いることができる樹脂被覆金属酸化物粒子樹脂分散組成物を提供する。
【解決手段】平均粒子径が５〜３００ｎｍの範囲にあり、被覆用樹脂として芳香族環を有する（メタ）アクリレート系モノマーまたはオリゴマー(A)で被覆された金属酸化物粒子が樹脂分散媒(B)に分散してなることを特徴とする樹脂分散組成物。樹脂分散組成物中に含まれる有機溶媒の濃度が１０００ｐｐｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】（１）リビングラジカル重合によるポリマー伸長が可能であること；（２）固体基板表面の官能基との結合が可能であること；（３）光照射によるパターニングが可能であること；を具備する新規な架橋剤を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明の光分解性ヘテロ二価性架橋剤は、リビングラジカル重合の開始基と、反応性基（但し、前記開始基を除く）とが光分解性基を介して連結されてなり、下記化学式１で表される点に特徴を有する。


式中、Ｉは開始基を表し、Ｒは反応性基を表し、Ｄは光分解性基を表し、Ｓ^１_ｂ−Ｓ^１_ａ及びＳ^２_ａ−Ｓ^２_ｂはスペーサーを表し、ｎ及びｍはそれぞれ独立して０又は１である。 （もっと読む）

【課題】耐薬品性に優れたレリーフ印刷版を得ることができ、彫刻カスの除去性に優れるレーザー彫刻用樹脂組成物、前記レーザー彫刻用樹脂組成物を用いたレリーフ印刷版原版、それを用いたレリーフ印刷版の製版方法、及び、それにより得られたレリーフ印刷版を提供すること。
【解決手段】（成分Ａ）エチレン性不飽和基を有するフィラー、（成分Ｂ）エチレン性不飽和基を有する重合性化合物、及び、（成分Ｃ）重合開始剤、を含むことを特徴とするレーザー彫刻用樹脂組成物。 （もっと読む）

【課題】水性酸に対して加水分解に安定なラジカル重合可能な基を有する充填材を提供すること。
【解決手段】充填材であって、該充填材は、式（Ｉ）：［（ＰＧ）−Ｒ^１−Ｚ］_ｎ−ＳＰ−［Ｙ−Ｒ^２−（ＡＧ）］_ｍ（Ｉ）の化合物で表面修飾されていることを特徴とし、ここで、ＡＧは、−ＣＯＯＨ、−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）_２、−Ｏ−Ｐ（＝Ｏ）（ＯＨ）_２、−ＳＯ_２ＯＨ、−ＳｉＲ^３Ｒ^４Ｘ、またはキレート基であり、Ｙは、Ｏ、Ｓ、ＣＯ−ＮＨ、Ｏ−ＣＯ−ＮＨ、ＮＨ−ＣＯ−ＮＨであるか、または存在せず、Ｚは、Ｏ、Ｓ、ＣＯ−ＮＲ^６、Ｏ−ＣＯ−ＮＨ、ＮＨ−ＣＯ−ＮＨであるか、または存在せず、ＰＧは、ラジカル重合可能基である、充填材。 （もっと読む）

【課題】セラミック成形部品の立体リソグラフィ調製のための光硬化性セラミックスリップを提供すること。
【解決手段】ラジカル重合性結合剤、重合開始剤および充填剤をベースとするスリップであって、該スリップは、以下の成分：Ａ）１重量％〜３０重量％の少なくとも１種の酸性モノマー；Ａ２）０重量％〜５０重量％の、少なくとも１種の非酸性ラジカル重合性モノマー；Ｂ）０．００１重量％〜２．０重量％の光開始剤；ならびにＣ）３０重量％〜９０重量％のセラミック粒子および／またはガラスセラミック粒子；を含有する、スリップ。 （もっと読む）