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国際特許分類[C08F32/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | 炭素環系に1個以上の炭素−炭素二重結合を含有し,側鎖に不飽和脂肪族基をもたない環式化合物の単独重合体または共重合体 (242)

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【課題】優れた耐熱性、機械的特性、誘電特性、透明性、ガスバリア性および加工性を有する架橋体を得ることができる環状オレフィン共重合体、および架橋体を提供する。
【解決手段】環状オレフィン共重合体(P)は、(A)1種以上のオレフィン由来の特定な繰り返し単位と、(B)1種以上の特定な環状非共役ジエン由来の繰り返し単位と、から構成され、架橋性基を有し、オレフィン由来の特定な繰り返し単位(A)と特定な環状非共役ジエン由来の繰り返し単位(B)とのモル比((A)/(B))が、40/60〜80/20である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、極性官能基を含む高分子量環状オレフィン重合体を高収率で製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】極性官能基を含む環状オレフィン重合体の製造方法が開示される。本発明の製造方法は、触媒混合物の製造工程を含み、この触媒混合物にはi)金属と結合した酸素イオンを含有する配位子を有する10族遷移金属を含有する前置触媒;ii)15族元素を含有する有機化合物からなる第1共触媒;およびiii)前記前置触媒の金属に弱く配位すると共に陰イオン供与能力がある第2共触媒;が含まれ、また、単量体溶液の付加重合反応工程を含み、この単量体溶液には極性官能基含有ノルボルネン系化合物が含まれ、有機溶媒および前記触媒混合物の存在下、80〜200℃の温度で反応させ、前記有機溶媒の総量が前記単量体溶液中の前記単量体の総重量に対して50〜800重量%であり、前記重合体の製品収率は前記単量体の総重量に対して50重量%以上である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、フィルムに成形した場合、高い透明性を保持しつつ、さらに金属との密着性に優れる環状オレフィン樹脂およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)による重量平均分子量〔Mw〕が、ポリスチレン換算で5万〜20万であり、−COOH基を1つ以上有する構造単位を含有することを特徴とする環状オレフィン樹脂。 (もっと読む)


【課題】スタックド構造のMCP製造時における作業性の欠点である接着剤の塗布などの工程を改善し接着剤を使用することなく半導体チップを積層することができ、かつ各種の信頼性に優れた半導体装置を提供する。
【解決手段】エポキシ基を有する環状オレフィン系樹脂(A)と光酸発生剤(B)を含む感光性樹脂組成物の樹脂層3を半導体チップ2の回路素子形成面上に有し、かつ半導体チップ上に積層する別の半導体チップ6の裏面が樹脂層に直接接触していることを特徴とするスタックド構造のMCPの樹脂封止型半導体装置。 (もっと読む)


【課題】ポリカーボネート系樹脂の原料モノマーであるカーボネート基含有化合物及びその(共)重合体を効率よく製造する方法の提供。
【解決手段】ノルボルネン系置換基を有するエポキシ化合物と二酸化炭素とを反応させることによるノルボルネン系置換基を有するカーボネート基含有化合物の製造方法、及び該ノルボルネン系置換基を有するカーボネート基含有化合物を重合又は共重合(特に、付加重合、付加共重合、開環メタセシス重合又は開環メタセシス共重合)させることによるノルボルネン系(共)重合体の製造方法。該エポキシ化合物は、ノルボルネン系アルデヒドと式(4)で表される硫化メチレン化合物とを反応させて得ることができる。


該硫化メチレン化合物は、トリメチルスルフィドと強塩基とを反応させて得ることができる。 (もっと読む)


【課題】環状オレフィン系付加型重合体を含有する樹脂材料を用いて、発振波長390〜430nmの青紫色レーザー光を、高い照射密度で長時間にわたって照射しても、被照射部の白濁や透明性の低下がなく、機械的物性と光学特性の劣化が十分に抑制された光学部品を提供すること。
【解決手段】環状オレフィン系付加型重合体を含有する樹脂材料からなる光学成形品であって、該環状オレフィン系付加型重合体が、15ppb以下の金属元素Fe含有量を有するものである光学成形品。 (もっと読む)


【課題】遠紫外線光、特に波長が193nmのArFエキシマレーザを用いるミクロフォトファブリケーションの性能向上技術の課題を解決することであり、より具体的には、微細なパターン形成においても、高解像性、大きなブリッジマージンを示すネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)特定のジカルボニルメチレン構造を有する繰り返し単位を有するアルカリ可溶性樹脂、(B)酸の作用によりアルカリ可溶性樹脂を架橋する化合物及び(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物及びそれを用いたレジストパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】短波長放射光193nm以下で十分に低い光学密度を有する新しいフォトレジスト組成物の提供。
【解決手段】(a)多環式オレフィンモノマーを含むモノマー配合物、非オレフィン系連鎖移動剤および任意の活性剤化合物を合わせて混合物を形成すること;(b)混合物を加熱すること;および(c)Niおよび/またはPdを含有する重合触媒を加えることを含む、多環式オレフィンモノマーの重合方法。非オレフィン系連鎖移動剤には、H、アルキルシラン、アルキルアルコキシシラン、アルキルゲルマン、アルキルアルコキシゲルマン、アルキルスタナン、およびアルキルアルコキシスタナンからなる群より選択される1種以上の化合物が含まれる。活性剤は、pKaが少なくとも5の活性水素を有することを特徴とする。得られる多環式オレフィンポリマーはフォトレジスト組成物に用いることができる。 (もっと読む)


【課題】液晶表示素子等の視野角を拡げるための偏光板の軸補正などの光学用途に好適なフィルムを提供する。
【解決課題】本発明に係るフィルムは、脂環式構造を有し、特定の構成単位(a)を有するポリマー(A)を含んでなるフィルムであって、フィルムの面内における最大の屈折率をnx、前記フィルムの面内における最大屈折率を示す方向に直交する方位の屈折率をny、前記フィルムの法線方向の屈折率をnzとしたときに、一定の関係を満たし、かつ、厚さ50μmあたりの面内のレターデーションをR50=S(nx−ny)×50×103(nm)としたとき、波長450nmにおけるR50と、波長590nmにおけるR50とが、一定の関係を満たす。なお、Sは、前記フィルムの複屈折の正負を区別するための符号である。 (もっと読む)


【課題】チップ積層構造を形成し、チップ及びウェハを接合させ、そしてウェハを薄厚化するために有用な材料、及びこのような材料を使用する方法を提供する。
【解決手段】基板10の表面を10,000〜500,000の重量平均分子量を持つ感光性ポリマーで被覆し、揮発物を除去した後、現像パターンを得る。該現像プロセスでは該ポリマーが除去されない部分20および除去される隙間の部分30,40を形成し、ベーク硬化する。ボンディングパッド50は露出している。硬化処理により該被覆基板を用いて積層等別の構造を形成する。硬化処理は例えば第1硬化ステップで架橋を継続させ、第2硬化ステップはより高温で接合を完成させる。 (もっと読む)


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