説明

国際特許分類[C08F32/00]の内容

化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | 炭素環系に1個以上の炭素−炭素二重結合を含有し,側鎖に不飽和脂肪族基をもたない環式化合物の単独重合体または共重合体 (242)

国際特許分類[C08F32/00]の下位に属する分類

国際特許分類[C08F32/00]に分類される特許

31 - 40 / 77


【課題】 分子量および分子量分布の制御されたポリマーを製造するための環状オレフィン系ポリマーの製造方法を提供する。
【解決手段】 環状オレフィンモノマーを、触媒存在下、イオン液体中で重合する環状オレフィン系ポリマーの製造方法により達成される。前記イオン液体は、アニオン成分として、イミド結合を有するアニオンを含むものである前記環状オレフィン系ポリマーの製造方法。前記環状オレフィン系ポリマーの製造方法は、マイクロ波を照射して重合するものである。 (もっと読む)


【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法に関するものであり、露光ラチチュード、パターン倒れが良好である、ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】(A)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 (もっと読む)


【課題】液浸露光プロセスにおいて、形成するホトレジスト膜の特性に関係なく利用できる保護膜形成用材料、及びこの保護膜形成用材料を用いたホトレジストパターン形成方法を提供すること。
【解決手段】ホトレジスト膜上に積層される保護膜を形成するための保護膜形成用材料であって、(a)アルカリ可溶性ポリマー、及び(b)フッ素系溶剤を含有することを特徴とする保護膜形成用材料。本発明の保護膜形成用材料を用いてホトレジスト膜上に保護膜を形成した場合、保護膜形成用材料中に含まれる成分が各種ホトレジスト膜を溶解することがない。このため、ホトレジスト膜の種類に関係なく、液浸露光プロセスを用いて微細で良好なホトレジストパターンを形成することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、接着性、粘着性、添加剤の分散性、溶剤への溶解性などの特性に優れるとともに、物理的耐熱性および化学的耐熱性にすぐれた環状オレフィン系付加重合体を、効率よく製造する方法を提供することを課題とする。
【解決手段】周期律表第8〜10族の元素から選択された遷移金属に、シクロペンタジエニル系配位子が配位した錯体である触媒成分(A)と、有機アルミニウム化合物(a)、特定のイオン性化合物(b)および触媒成分(A)中の配位子の解離を促進する化合物(c)よりなる群から選択される少なくとも1種の化合物である化合物(B)との存在下、極性基を有する特定の環状オレフィン系化合物を付加重合する環状オレフィン系付加重合体の製造方法。 (もっと読む)


【課題】環状オレフィン付加重合体を効率よく製造する方法を提供する。
【解決手段】下記一般式(I)、(II)または(III)のいずれかで示されるメタロセン錯体を用いて環状オレフィンの単量体を重合させる。


一般式(I)、(II)および(III)において、
Mは、ランタノイド元素、スカンジウムまたはイットリウムを示し、
CpRは、それぞれ独立して無置換もしくは置換インデニルを示し、
CpR'は、無置換もしくは置換シクロペンタジエニル、インデニル、またはフルオレニルを示し、
a〜Rfは、それぞれ独立して、水素または炭素数1〜3のアルキル基を示し、
XおよびX’は水素原子、ハロゲン原子、アルコキシド基、チオラート基、アミド基、シリル基または炭素数1から20の炭化水素基を示し、
Lは、中性ルイス塩基を示し、
wは、0〜3の整数を示し、
[B] -は非配位性アニオンを示す。 (もっと読む)


【課題】本発明はノルボルネンを含む重合体で形成された配向膜を用いてフィルムの進行方向と光軸が成す角度を任意で調節することができ、熱的安定性及び光反応速度が改善された位相差フィルム、その製造方法及び本発明の位相差フィルムを含む偏光板に関する。
【解決手段】基材と、基材上に形成されたノルボルネンを含む重合体で形成された配向膜及び上記配向膜上に液晶物質で形成された配向膜固定層を含んで成る位相差フィルムと、基材にノルボルネンを含む重合体溶液をコーティング及び乾燥して膜を形成する段階、上記膜にフィルムの進行方向に対して一定な方向に配向性を有するよう線偏光された紫外線を照射して配向膜を形成する段階、配向膜上にネマチック液晶溶液をコーティング及び乾燥させ液晶層を形成する段階、及び上記液晶層を硬化させ液晶の配向を固定する段階を含む位相差フィルムの製造方法;及び上記位相差フィルムと偏光フィルムが積層された偏光板が提供される。本発明による位相差フィルムは熱的安定性及び光反応速度が改善され、偏光された紫外線の照射によって位相差フィルムの光軸がフィルムの進行方向に対して所望の任意の配向角度を有する位相差フィルムに製造することができる。 (もっと読む)


【課題】 環状オレフィン付加重合にも、環状オレフィン/α−オレフィン付加共重合にも高い重合活性を示す重合触媒及び重合方法を提供する。
【解決手段】 特定構造の周期表第4族遷移金属化合物と、有機アルミニウムオキシ化合物および/または周期表第4族遷移金属化合物と反応してイオン対を形成する化合物との組み合わせからなる触媒の存在下に、環状オレフィンを付加重合する環状オレフィン付加重合体の製造方法。また、上記特定構造の周期表第4族遷移金属化合物においては、周期表第4族遷移金属とシクロペンタジエニル環が、η1結合様式で結合していることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】本発明は、既存の環状オレフィンの重合触媒に比べ、高い活性、高い環状オレフィン取り込み率の製造法を提供すること。
【解決手段】下記一般式(I)で表される、炭素原子数4〜30の環状オレフィン(C)を必須成分として含むことを特徴とするオレフィン重合体およびその製造方法。


〔一般式(I)中、eは0から20までの整数であり、R1〜R8は、互いに同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭化水素基、ハロゲン化炭化水素基、シリル基置換炭化水素基、炭化水素基置換シリル基から選ばれる原子または基を示し、R3〜R8で示される基のうち2個の基が結合して、それらの結合する炭素原子と一緒に環を形成してもよい。〕 (もっと読む)


【課題】本発明は、通常の重合方法で得ることが困難であった、炭素数が3以上のアルコキシカルボニル基含有ノルボルネン重合体の新規製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】メトキシカルボニル基を有するノルボルネン系重合体とアルコールを、金属アルコキシド触媒を用いて、エステル変換してノルボルネン系重合体を得る新規なノルボルネン系重合体製造方法。 (もっと読む)


【解決手段】本発明の環状オレフィン系付加重合体の製造方法は、環状オレフィン系化合物を含む単量体を、ニッケル化合物またはパラジウム化合物を含む触媒を用いて、分子量調節剤の存在下に付加重合する方法であって、単量体の総量の、80重量%以下の量の単量体を使用して重合反応を開始させる工程と、その重合反応中に単量体の残余を反応系に供給する工程とを含むことを特徴としている。
【効果】本発明によれば、分子量分布が狭く、分子量が制御され、加工性と機械的強度のバランスに優れた均質な環状オレフィン系付加重合体を、高い重合転化率で製造することができ、温度制御性に優れ、工業生産性に優れた環状オレフィン系付加重合体の製造方法を提供することができる。 (もっと読む)


31 - 40 / 77