国際特許分類[C08F32/00]の内容
化学;冶金 (1,075,549) | 有機高分子化合物;その製造または化学的加工;それに基づく組成物 (224,083) | 炭素−炭素不飽和結合のみが関与する反応によってえられる高分子化合物 (38,630) | 炭素環系に1個以上の炭素−炭素二重結合を含有し,側鎖に不飽和脂肪族基をもたない環式化合物の単独重合体または共重合体 (242)
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縮合環をもたない単量体 (50)
縮合環をもつ単量体 (115)
国際特許分類[C08F32/00]に分類される特許
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バルク密度が高い環状オレフィン高分子の製造方法及び、これによって製造された環状オレフィン高分子
本発明はa)環状オレフィン単量体または環状オレフィン単量体とエチレンを重合させて環状オレフィン高分子溶液を製造する段階と、b)前記環状オレフィン高分子溶液に非溶媒を徐々に滴加する方式で添加して環状オレフィン高分子を沈殿させる段階と、 c)沈殿した環状オレフィン高分子をろ過及び乾燥する段階とを含む環状オレフィン高分子の製造方法及び、これによって製造された環状オレフィン高分子を提供する。本発明の方法は環状オレフィン高分子溶液からバルク密度が高くて球形を有する環状オレフィン高分子を容易に沈殿させて分離することができる。
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液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物の製造法
【課題】 耐水性に優れるレジスト膜を形成可能な液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物を提供する。
【解決手段】 液浸露光用フォトレジスト用高分子化合物の製造法は、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する基を有するモノマー単位を含むポリマーを有機溶媒による沈殿に付した後、さらに水性溶媒による再沈殿、リンス又はリパルプ操作に付すことを特徴とする。沈殿に付すポリマーとして、酸によりその一部が脱離してアルカリ可溶性機能を発現する基を有するモノマー単位と基板密着性機能を有するモノマー単位を含むポリマーを用いることができる。
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脂環式構造重合体および該重合体を含む樹脂組成物並びにこれを用いた光学材料
【課題】 通常の脂環式構造重合体の持つ良好な透明性等の光学特性、耐熱性、耐薬品性、電気特性および低吸水性等を保持しながら、優れた低複屈折性を有する脂環式構造重合体、およびこれを用いた光学材料を提供する。
【解決手段】 下記一般式(1)または式(2)で表される重合単位を少なくとも1種含む脂環式構造重合体である。
式中nは0〜2であり、Xは−CH=CH−または−CH2−CH2−を表す。R1〜R5は水素、ハロゲン元素、または一価の置換基(ただし、芳香環(複素芳香環を含む)又は脂環を有する基を除く。)を表し、それぞれ同じでも異なっていてもよい。
【化1】
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低応力、高温フィルム用多環式ポリマーに基づく感光性組成物
【課題】ビニル付加ポリマー組成物、当該組成物の形成方法、エレクトロニクスおよびオプトエレクトロニクスデバイスを形成するための当該組成物の使用方法を提供する。
【解決手段】ノルボルネン型モノマーから得られる二つ以上の種類の区別される型の反復単位を有する主鎖を持ったビニル付加ポリマーからなり、第一型の反復単位は、式1に表わされるグリシジルエーテル置換ノルボルネンモノマーから得られ、第二型の反復単位はアラルキル置換ノルボルネンモノマーから得られる。
[式中、Xは−CH2−,−CH2−CH2−および−O−O−から選択、mは0〜5,R1,R2,R3およびR4の少なくとも一つはグリシジルエーテル含有基]
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環状オレフィンの付加重合用触媒、およびこれを用いた環状オレフィン付加重合体の製造方法
【課題】ヒドロキシル基および/またはアセチルオキシ基を含有する環状オレフィンの付加重合活性に優れた環状オレフィン付加重合触媒及び環状オレフィン付加重合体の製造方法、環状オレフィン付加重合体を提供。
【解決手段】カルベン化合物を配位子とする、周期表第10族遷移金属の錯体、好ましくは一般式(1)で表されるカチオン錯体を重合触媒として用いる。
(式中、L1はカルベン化合物配位子、L2は中性の電子供与性配位子を示す。L1とL2は互いに結合して多座配位子を形成していてもよい。〔Y1〕−は一価のアニオンを表す。)
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トップコートを用いて深紫外線フォトレジストに像を形成する方法およびそのための材料関連出願の相互参照本出願は、2004年3月9日に出願された米国特許出願シリアルナンバー10/796,376号の一部継続出願である2004年6月24日に出願された米国特許出願シリアルナンバー10/875,596号の一部継続出願である。これらの出願明細書の内容は本明細書に掲載されたものとする。
本発明は、深紫外線液浸リソグラフィを用いてトップコートを利用して深紫外線(deep uv)フォトレジストを像形成する方法に関する。本発明は更に、約−9〜約11の範囲のpKaを有する少なくとも一種のイオン化可能な基を有するポリマーを含むトップコート組成物に関する。また本発明は、環境汚染物からのフォトレジストの汚染を防ぐために、トップバリヤコートを用いてフォトレジストに像形成する方法に関する。 (もっと読む)
シクロオレフィンの潜在重合のための単独成分カチオンパラジウム前開始剤
式:[((R)3E)aPd(Q)(LB)b]p[WCA]r[式中、((R)3E)は、第15族電子ドナー配位子であり、Qは、アニオン配位子であり、LBは、ルイス塩基であり、WCAは、弱配位性アニオンを表す、aは1、2、又は3であり、bは0、1、又は2であり、この場合、aとbの合計は1、2、又は3である、pとrの各々は、分子電荷が零になるような整数である];或いは、[(E(R)3)(E(R)2*)Pd(LB)]p[WCA]r[式中、E(R)2R*は、第15族中性電子ドナー配位子を表し、この場合、R*は、Pdに結合し、該Pd中心に関してβ水素を有するアニオンヒドロカルビル含有部分である]による、パラジウム化合物組成物を提供する。このような化合物組成物は、多環状オレフィンの存在下で潜在性重合活性を示す。 (もっと読む)
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