【課題】ノルボルネン系重合体を生産性高く製造する方法および該方法における触媒として好適に用いられる新規なパラジウム錯体を提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される少なくとも一種の金属化合物成分（Ａ）を触媒として使用するノルボルネン系重合体の製造方法および下記式（ＩＶ）で表される化合物。


（上記一般式（Ｉ）において、Ｘ^１は置換基を有さない炭素数１〜２０のアルキル基、Ｒは各々独立に炭素数３〜８の２級アルキル基もしくは炭素数４〜８のシクロアルキル基であり、Ｘ^２は水素原子、置換基を有してもよい炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、置換基を有してもよい炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン、アセトキシ基、アミノ基、アミド基、カルボキシル基、ニトロ基、カルボニル、トリフルオロメタンスルホニル基、またはトリフルオロアセトキシ基を表し、Ｍは周期律表第１０族の元素を表す。） （もっと読む）

【課題】耐酸化性や曲げ強度特性に優れたノルボルネン系重合体の効率的な製造方法を提供すること。
【解決手段】ノルボルネン系モノマー、第１０族遷移金属化合物、及びラジカル発生剤を含有する重合性組成物を型内に注入し重合後、該ラジカル発生剤の１分間半減期温度以上の温度で加熱することを特徴とするノルボルネン系成形体の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ノルボルネン系化合物重合用触媒として有用な有機パラジウム錯体含有組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）


（Ｒ_１、Ｒ_２、Ｒ_３、Ｒ_４及びＲ_５は、水素原子、アルキル基又はアリール基を表し、Ｘはハロゲン原子又は‐ＯＣＯＣＨ_３を表し、ＬはＮヘテロ環カルベンを表す。）（ｂ）有機典型金属化合物（ｃ）塩を含有する有機パラジウム錯体含有組成物。 （もっと読む）

【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ネガ型現像によるパターニングに於いて、パターン倒れ性能が良好で、かつトレンチパターン解像性の良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。
【解決手段】（Ａ）特定構造の酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、（Ｂ）光酸発生剤、及び（Ｃ）溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】熱、湿度による透過率、偏光度の変化が小さい偏光板を提供すること。さらには、透湿度の異なる保護フィルムを偏光子の両側に配置した偏光板を液晶表示装置に用いることで、光漏れなどの問題を生じることなく、表示品位の高い液晶表示装置を提供すること。
【解決手段】第１の保護フィルム、偏光子、第２の保護フィルムがこの順に積層してなる偏光板であって、前記第１の保護フィルムは、環状オレフィン系樹脂を含有し、平均厚さが５〜５００μｍ、４０℃９０％ＲＨでの透湿度が０．１〜２００ｇ／ｍ^２／ｄａｙであり、前記第２の保護フィルムは、液晶セル側保護フィルムであって、環状オレフィン系樹脂を含有し、平均厚さが５〜５００μｍ、４０℃９０％ＲＨでの透湿度が１００〜１０００ｇ／ｍ^２／ｄａｙであり、かつ、前記第１の保護フィルムの透湿度が前記第２の保護フィルムの透湿度よりも小さい偏光板。 （もっと読む）

【課題】機械強度が高く、優れた耐熱性および透明性を有し、かつ、吸水率の低い２−ノルボルネン付加重合体のフィルムを提供すること。
【解決手段】重量平均分子量（Ｍｗ）が２５０，０００〜８５０，０００の２−ノルボルネン付加重合体のフィルムであって、温度２５℃の条件下で、重量比で１００倍量のシクロヘキサンに溶解した際における、２−ノルボルネン付加重合体のシクロヘキサン不溶分が１重量％以下であることを特徴とする２−ノルボルネン付加重合体フィルム。 （もっと読む）

【課題】パターン形状の設計の自由度が広く、寸法精度の高いコア部（光路）を簡単な方法で形成することができる光導波路を備えた光導波路構造体を提供すること。
【解決手段】本発明の光導波路構造体９は、コア部９４と、該コア部９４より屈折率が低いクラッド部９５とを備えるコア層９３とを有する光導波路９０と、該光導波路９０の両面に設けられた導体層９０１、９０２とを有する。コア層９３は、主鎖と該主鎖から分岐し、分子構造の少なくとも一部が、主鎖から離脱し得る離脱性基とを有するノルボルネン系ポリマーを主材料として構成され、コア部９４とクラッド部９５とは、主鎖に結合した状態の離脱性基の数が異なることにより、それらの屈折率が異なっている。 （もっと読む）

【課題】液浸露光におけるディフェクトを低減できる新規なレジストパターン形成方法、および該方法に好適に用いられる表面改質材料を提供する。
【解決手段】支持体上に、レジスト組成物を用いてレジスト膜を形成する工程、前記レジスト膜を浸漬露光する工程、前記浸漬露光後のレジスト膜上に、アルカリ現像液に溶解可能な樹脂成分（Ｒ）が有機溶剤（Ｓ）に溶解してなる表面改質材料を塗布して表面改質層を形成することによりレジスト積層体を得る工程、および前記レジスト積層体をアルカリ現像液で現像処理する工程を含むレジストパターン形成方法。 （もっと読む）

【課題】成形時の転写性を改良し、高温での滞留時に着色しにくく、かつ成形の容易な樹脂組成物の製造方法を提供することが本発明の課題である。
【解決手段】（ａ）エチレン、（ｂ）純度が９５重量％を超える高純度のシクロペンタジエンまたはジシクロペンタジエン、および必要により（ｃ）ノルボルネンとを加熱反応せしめて得られるノルボルネンまたはテトラシクロドデセンを、ノルボルネンまたはテトラシクロドデセンが生成してから7日以内に使用する。 （もっと読む）

本発明は、光反応性官能基を含むノルボルネンモノマーを含み、前記光反応性官能基を含むノルボルネンモノマーのうちのエキソ異性体を少なくとも５０モル％以上含有するノルボルネン重合体およびその製造方法に関するものである。本発明に係るノルボルネン重合体は、光反応性官能基を含むノルボルネンモノマーのうちのエキソ異性体を少なくとも５０モル％以上含有しており、重合体の製造時に収率の損失がなく分子量を顕著に改善させることができ、３次元構造から見る時に分子間の光反応基が近くに配列している平面構造を有するものが安定であり、よって、光反応基間の距離が近接して光反応速度が速くなる長所を持つ。
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