【課題】 環境保持上クロム酸化合物を含まずに、高い耐食性とネジ特性を有する被覆組成物を提供する。
【解決手段】 水、グリコール化合物および／または有機溶剤からなる液体媒体中に少なくとも一種の粒状金属と少なくとも一種の結合材とを含有し、前記粒状金属と結合材との合計に対する前記粒状金属の含有量が７０質量％以上であり、前記粒状金属が、粒状金属に対して４質量％未満の含有量で含まれるアルミニウムと少なくとも５０質量％の含有量で含まれる亜鉛とを、亜鉛とアルミニウムとの合計含有量が粒状金属に対して１００質量％以下となるように、亜鉛合金を含むことを特徴とするネジ用耐食性被覆組成物であり、
請求項２は、前記亜鉛合金が、錫、マグネシウム、およびマンガンの一種以上を含有する、請求項１に記載のネジ用耐食性被覆。 （もっと読む）

【課題】本発明は、接着剤組成を考慮することにより、これまでのドライあるいはノンソルベントラミネート法をそのまま用いることができ、ガスバリア性を有する基材どうしを貼り合わせた場合でも、水分の影響により発泡白化しないことを特徴とするガスバリアフィルム積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】ガスバリア性を有する基材どうし、もしくはガスバリア性を有する基材が２層以上含む積層体において、そのガスバリア性を有する基材をドライラミネート法あるいはノンソルベントラミネート法により貼り合わせてなるガスバリアフィルム積層体であって、前記ドライあるいはノンソルベントラミネート用接着剤が、アミノ基あるいはイミノ基あるいはそれらをアルデヒド基やケトン基等で保護した化合物とエポキシ基を有する化合物との反応により、硬化することを特徴とするガスバリアフィルム積層体である。 （もっと読む）

【課題】高誘電率被膜形成用組成物、該高誘電率被膜形成用組成物の製造方法、高誘電率被膜、および該高誘電率被膜を備える電子部品、特に、クラック耐性に優れた高誘電率被膜、該高誘電率被膜の製造に用いる高誘電率被膜形成用組成物、該高誘電率被膜形成用組成物の製造方法、および該高誘電率被膜備えた電子部品を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明の高誘電率被膜形成用組成物を、（Ａ）少なくとも、
（ａ−１）下記一般式（１）および（２）
【化１】


（式中、ｎは１〜５の整数を表し、Ｒ¹は炭素数１〜５のアルキル基を表す。）
Ｒ²Ｓｉ（ＯＲ³）₃ ・・・（２）
（式中、Ｒ²は炭素数３以上のアルキル基を表し、Ｒ³は炭素数１〜５のアルキル基を表す。）で示されるトリアルコキシシラン化合物から選択される少なくとも１種と、
（ａ−２）チタンテトラアルコキシドとを含む混合物の加水分解反応による生成物と、
（Ｂ）溶剤とから構成する。 （もっと読む）

【課題】 別途導電性の塗膜を設けたり、帯電防止剤を添加することなく、ゾルゲル法で得られる塗膜に帯電防止性を付与できるコーティング組成物を提供する。
【解決手段】 金属アルコキシドを触媒を作用させて加水分解してなるゾルを含むコーティング組成物であって、前記触媒として、相手カチオンにＨ^＋を含むヘテロポリ酸を用いる。ヘテロポリ酸としては、例えば、リンタングステン酸（Ｈ_３［ＰＷ_１２Ｏ_４０]、Ｈ_６［Ｐ_２Ｗ_１８Ｏ_６２]）、ケイタングステン酸（Ｈ_４［ＳｉＷ_１２Ｏ_４０]）、ケイモリブデン酸（Ｈ_４［ＳｉＭｏ_１２Ｏ_４０]）などの他、これらヘテロポリ酸のＨ^＋の一部をアルカリ金属カチオンで交換したヘテロポリ酸の酸性塩があげられる。
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【課題】クロム等の有害な金属を含まず、亜鉛等の金属粉末を均一分散でき、経時安定性と改善された耐食性を与える水系の防錆用コーティング組成物を開発する。
【解決手段】水20〜60質量％と水溶性有機溶剤２〜20質量％とからなる液体中に、亜鉛、亜鉛合金およびアルミニウムから選ばれた金属粉末 (フレーク状) 20〜60質量％とキレート性置換基含有有機チタネート化合物１〜15質量％とを含有し、好ましくはさらにアルコキシシラン15質量％以下を含有する、金属粉末が均一分散したスラリー状組成物。さらに、増粘剤、分散剤、防錆顔料、コロイド状シリカ微粒子、湿潤剤および消泡剤等の他の添加剤を合計 0.1〜10質量％含有しうる。 （もっと読む）

【課題】 撥水性及び基材との密着性に優れると共に高い硬度をもつ膜を形成させることができるコーティング用組成物を提供すること。
【解決手段】 少なくとも、下記一般式（Ｉ）で示される化合物、一般式（Ｉ）
で示される化合物及びセルロース誘導体を原料とするコーティング用組成物である。
Ｍ¹（Ｘ¹）_p …一般式（Ｉ）
［式中、Ｍ¹は金属原子を表し、Ｘ¹は反応性基を表し、ｐはＭ¹の原子価を表す。］
（Ｒ）_nＭ²（Ｘ²）_m-n …一般式（Ｉ）
［式中、Ｒは、Ｃ１〜Ｃ１０アルキル基等を表し、Ｍ²は金属原子を表し、Ｘ²は反応性基を表し、ｍはＭ²の原子価を表し、ｎは１又は２を表す。］ （もっと読む）

本発明は、（1）基体（S）、（2）ゾル-ゲル法によって製造され、少なくとも１つのシランに基づく重縮合物を含む塗料を少なくとも部分硬化することによって得られる耐引掻層（K）、及び（3）（a）一般式（I）M(R')_m（I）［式中、M は、Si、Ti、Zr、Sn、Ce、Al、B、VO、In 及び Zn からなる群から選ばれる元素又は化合物であり、R' は、加水分解性基を表し、m は、2〜4 の整数である。］を有する化合物及び（b）一般式（II）R_bSiR'_a（II）［式中、基 R' 及び R は、同じ又は異なり、R' は上記で定義した通りであり、R は、少なくとも１個のハロゲン、エポキシ基、グリシジルオキシ基、アミノ基、メルカプト基、メタクリルオキシ基、又はシアノ基を伴うアルキル基、アルケニル基、アリール基又は炭化水素基を表し、a 及び b は、相互に独立に 1〜3 の値であり、a 及び b の和は 4 である。］を有する化合物を組み合わせて加水分解することによって得られる塗料を少なくとも部分硬化することによって得られるカバー層（D）からなる層状系に関する。前記層状系は、優れた耐引掻性及び耐摩耗性を特徴とする。 （もっと読む）

本発明はコーティング組成物の製造方法およびこの方法により得られた組成物に関する。本発明はまた、基質（Ｓ）、耐引掻性レイヤー（Ｋ）、および本発明のコーティング組成物から製造したコーティングレイヤー（Ｄ）を含むレイヤーシステム（layer systems）、およびこれらのレイヤーシステムの製造方法に関する。 （もっと読む）

本発明は、種々の基板表面上で薄膜被膜として用いることができる金属酸化物被膜材料に関するものである。本発明は、スピンオン堆積のような液相スピンオン堆積により基板上に堆積させうる水相で安定な金属酸化物材料の形成方法にも関するものである。これら新規な材料は、リソグラフ処理により又はリソグラフ処理によらずパターン化することができ、反射防止層、ＩＣ用の高ｋ値中間層及びゲート酸化膜構造体、エッチング停止層、ＣＭＰ停止層、太陽電池、ＯＬＥＤパッケージ、光学薄膜フィルタ、光学回析格子用途及びハイブリッド薄膜回析格子構造体のような種々の電子及び光電子装置構造体の形成に適用することができる。
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本願において、多層コーティングが、開示される。この多層コーティングは、（１）無機酸化物ネットワークを含む第一層と；（２）その第一層の少なくとも一部の上に適用された第二層とを備える。この第二層は、親水性である少なくとも１つの液体組成物から堆積される。この液体組成物は、本質的に完全に加水分解されたオルガノシリケートを含む。このような多層コーティングでコーティングされた基材もまた、本願において開示される。このような多層コーティングを基材に適用するための方法もまた、本願において開示される。物品の防汚特性、自己洗浄特性、洗浄のし易さ特性、および／または曇り止め特性を改善するための方法もまた、本願において開示される。
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