【課題】 基板上のＳｉＯ_２表面を洗浄およびエッチングする際に基材の損傷を最小化しながら高平滑度および高光沢に仕上げることのできる改良された洗浄およびエッチング用の組成物を提供する。
【解決手段】 ａ）フッ化物塩、およびｂ）スルフォン酸および／またはスルフォン酸塩を含み、スルホン酸、スルホン酸塩は、スルファミン酸（ＮＨ_２ＳＯ_３Ｈ）、スルフォサリチル酸２水塩（ＨＯ_３ＳＣ_６Ｈ_３（ＯＨ）ＣＯＯＨ・２Ｈ_２Ｏ）、アンモニウムスルファミン酸塩（ＮＨ_４ＳＯ_３ＮＨ_２）、スルフォニルアミド（（ＮＨ_２）Ｃ_６Ｈ_４ＳＯ_２）およびナトリウムスルフォサリチル酸塩（ＮａＯ_３ＳＣ_６Ｈ_３（ＯＨ）ＣＯＯＨ・２Ｈ_２Ｏ）からなる群から選ばれた少なくとも一種とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属層の形成の前に、非導電性基板表面のエッチング、特にポリアミドまたはABSプラスチック表面をエッチングするための方法及びエッチング溶液に関する。
【解決手段】本発明においては、被エッチング表面を、Na、Mg、Al、Si、Sc、Ti、V、Cr、Mn、Fe、Co、Ni、Cu、Ca及びZnからなる群から選択された少なくとも１つの金属を含むハロゲン化物及び／または硝酸塩を有するエッチング溶液で処理する。本発明の利点はいかなるクロム酸塩も使用することがない点にある。 （もっと読む）

【課題】暗色セラミックス焼結体付きガラスからガラスをリサイクル可能な状態で容易に回収することができる暗色セラミックス焼結体の分離用水溶液及び分離方法、並びに、暗色セラミックス焼結体及び導電性セラミックス焼結体が形成された暗色セラミックス焼結体付きガラスから暗色セラミックス焼結体、導電性セラミックス焼結体及びガラスをそれぞれ分別回収する分離用水溶液及び分離方法を提供する。
【解決手段】暗色セラミックス焼結体の分離用水溶液２０としてのガラス及び前記暗色セラミックス焼結体の少なくとも一方に対するエッチング力を有する処理液（フッ化水素酸、及びフッ化アンモニウムと酸の混合物等）に暗色セラミックス焼結体付きガラス３０を浸漬する。容器１１に処理液Ａを投入し、暗色セラミックス焼結体付きガラス３０を容器１１内に投入する。 （もっと読む）

本発明は、新規なエッチング媒体として、酸化物の透明な導電層のうち、例えばフラットパネルスクリーンを用いた液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）もしくは有機発光ディスプレイ（ＯＬＥＤ）の製造、または薄層太陽電池において用いられるものの構築のためのものに関する。とくに、本発明は粒子フリーな組成物として、それを用いることによって微細構造の選択的なエッチングが、隣接する領域を傷つけたり攻撃することなく酸化物の透明な導電層になされるものに関する。前記新規な液体エッチング媒体は、印刷法によって、構築する酸化物の透明な導電層に有利に適用することができる。続く熱処理によって、エッチング工程が加速または開始される。 （もっと読む）

本発明は、非ニュートン流動挙動を有する、ドープされた酸化スズ層のエッチングのため、ディスプレイおよび／または太陽電池の製造において表面をエッチングするための、新規なディスペンシング可能な媒体、およびこれらの使用に関する。特に本発明は、微細な構造を、隣接する領域を損傷または腐食させることなく選択的にエッチングすることができる、関連する無粒子の組成物に関する。 （もっと読む）

石英基板の表面を処理する方法は、初期粗面度を有する作用面を与えるように基板を準備するステップと、その作用面を超音波で酸性エッチングして、作用面の粗面度を少なくとも約１０％高めるステップとを備えている。一実施形態において、初期表面粗面度は、約１０Ｒａより大きく、また、別の実施形態において、初期表面粗面度は、約２００Ｒａより大きい。更に別の実施形態において、初期表面積は、約２００Ｒａ未満である場合に、約２００Ｒａより大きく増加される。本発明の他の実施形態において、作用面粗面度は、少なくとも約２５％又は少なくとも約５０％増加される。表面積（粗面度で測定する）の増加と同時に、表面欠陥を減少し、基板から粒状汚染物を減少する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、高い研磨速度を維持し、エッチング速度を十分に低下させディシングの発生を抑制し、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ−ン形成を可能とする金属用研磨液及び研磨方法を提供するものである。
【解決手段】 酸化剤、水溶性高分子保護膜形成剤、有機酸、及び、砥粒を含有することを特徴とする金属用研磨液及び該研磨液を用いた研磨方法。 （もっと読む）

基板表面を予測されたとおりに処理するための改良法であって、予め選択したチキソトロピー腐食液を使用して、すぐれた、予め決められた基板表面を達成することを含む方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】電子部品の基板などの上に積層された酸化インジウム系透明導電膜をエッチングする際に、他の膜との選択比（ＩＺＯ膜またはＩＴＯ膜以外の他の膜質に対する影響を示す指標で、［ＩＺＯ膜またはＩＴＯ膜のエッチング量］：［その他の膜質のエッチング量］の比率）及びエッチング工程の再現性を向上させ、煙霧（fume）の発生が無く、温度に対する液の安定性の高いエッチング液組成物を提供する。また、ＩＺＯ膜及びＩＴＯ膜のエッチング方法を提供する。
【解決手段】酸化インジウム系透明導電膜のエッチング液組成物は、主酸化剤として硫酸、補助酸化剤としてＨ_３ＰＯ_４、ＨＮＯ_３、ＣＨ_３ＣＯＯＨ、ＨＣｌＯ_４、Ｈ_２Ｏ_２、及びペルオキシ一硫酸カリウム、重硫酸カリウム及び硫酸カリウムを含む塩より選択された化合物、エッチング抑制剤としてＮＨ_４^＋を含有する化合物、及び水を含む。 （もっと読む）

本発明は、ある種のフッ素化界面活性剤と、水性緩衝酸エッチング溶液のような酸エッチング溶液におけるそれらの使用を目的とする。このエッチング溶液は、幅広く各種の基板、たとえばシリコン酸化物含有基板のエッチングに使用される。 （もっと読む）