満足できる洗浄および乾燥速度を提供しつつ、ゼロないし低揮発性を有するガラス用及び一般用洗浄組成物が記載されている。この洗浄組成物は、少なくとも１種の低揮発性非ＶＯＣ蒸発性有機溶媒、少なくとも１種の界面活性剤、水性担体および必要によりひとつ以上の共溶媒を含有する。組成物は、約４重量％未満の揮発性有機溶媒化合物（ＶＯＣ）含量を有する。 （もっと読む）

本発明は、漂白剤、少量の水および粒状ペルオキシカルボン酸を含有し、水の導入なしにラメラ液晶相を形成する液体の洗浄または浄化剤に関する。また本発明は、本発明に従って組成した製剤を含有する水溶性分配物に関する。 （もっと読む）

本発明は、エステル系漂白活性化剤化合物を簡易かつ経済的な方法で製造する方法を提供することを課題とする。本発明は、（Ａ）脂肪酸モノエステルを製造するステップ、（Ｂ）前記脂肪酸モノエステルを、塩基の存在下でホスゲン、ジホスゲンおよびトリホスゲンからなる群より選択されたいずれか１つと反応させてクロロホルメートを製造するステップ、および（Ｃ）前記クロロホルメートを溶媒中でヒドロキシベンゼン、ヒドロキシベンゼン誘導体、または、その塩と反応させるステップを含む。 （もっと読む）

例えば前述の銀合金である金属を処理する際に使用するために開示したものは、アルカンチオール、チオグリコール酸=アルキルエステル、ジアルキルスルフィド、もしくはジアルキルジスルフィドから選択された処理剤と、前記処理剤を可溶化する上で有用な濃度の、両性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、もしくはカチオン性界面活性剤のうちの少なくとも一種とを含む水性組成物である。好ましくは、本組成物が、少なくとも非イオン性であり比較的疎水性である界面活性剤（例えばココアミドDEA）を含む。本組成物は、 Ag-Cu-Ge 合金の処理に際して特に適している。 （もっと読む）

皮膚をすすいだ後に皮膚の外観を変化させる固形粒子状光修飾物質を含有する液体洗浄組成物を開示する。本洗浄組成物を用いて、該固形粒子状光修飾物質を皮膚又は毛髪に沈積させる方法も開示する。 （もっと読む）

本開示は、半導体装置の製造中における化学的機械的平坦化（ＣＭＰ）後の半導体ウエハの洗浄を検討する。金属特に銅の相互接続を含有するウエハのＣＭＰ後洗浄のための酸性化学剤が開示されている。残存スラリー粒子、特に銅または他の金属粒子は、金属を有意にエッチングすることなく、表面に付着物を残すことなく、または有意の有機（炭素のような）汚染質を表面に与えることなく、しかも金属を酸化および腐食から保護しながら、表面から除去される。さらに、溶液中の金属イオンを錯化し、誘電体からの金属の除去を促進し、ウエハ上への再付着を防止するために、少なくとも１種の強力なキレート化剤が存在する。酸性化学剤を用いると、ＣＭＰ後に使用される洗浄溶液のｐＨをウエハ表面で使用された最後のスラリーのそれとマッチさせることができる。 （もっと読む）

β形のイミドアルカン過カルボン酸の粒状組成物であって、前記過酸を質量パーセントとして表される5％〜80％の量で含み、前記過酸が親水性又は疎水性の特性を有する支持体に支持され、前記粒状組成物が、サイズが0.25mm〜1.4mmであり且つ20℃における過酸の溶解時間t₉₀が10分未満、好ましくは5分未満であり、上述した成分と任意に存在する成分の合計が100％であることを特徴とする前記組成物。 （もっと読む）

本発明は、改善された香料安定性を有する洗剤の錠剤を対象とする。それは洗剤の錠剤に関し、少なくとも２つの不連続領域、並びに多孔質担体物質及び前記多孔質担体物質の孔の中に含有される香料を含む香料粒子を洗剤の錠剤の０．０５重量％〜１０重量％含み、香料粒子が、錠剤の１つの領域中にそのもう１つの領域中より高濃度で含まれる洗剤の錠剤に関する。 （もっと読む）

床クリーナとして使用するのに適した固形清浄用製品が開示されている。固形清浄用製品の製造、使用方法も同様に開示される。
（もっと読む）

Ｓｉ／ＳｉＯ_２パターン付きの半導体ウェーハ表面から、ケイ素窒化物およびケイ素酸化物などのケイ素含有粒状物質を除去するための方法および組成物が記載される。該組成物は、超臨界流体（ＳＣＦ）、エッチング液種、共溶媒、表面不活性化剤、バインダー、脱イオン水、および任意に界面活性剤を含む。ＳＣＦベースの組成物は、次の加工の前に、ウェーハ表面から汚染粒状物質を実質的に除去し、これにより半導体デバイスのモルフォロジ、性能、信頼度、及び歩留まりが向上される。

（もっと読む）