その上にフォトレジスト及び／又は犠牲反射防止膜（ＳＡＲＣ）材料を有する基板からかかる材料を除去するための組成物及びプロセスを開示する。この組成物は、アルカリ又はアルカリ土類金属塩基との組み合わせの第四級アンモニウム塩基などの塩基成分、あるいは酸化剤との組み合わせの強塩基を含む。例えば、キレート剤、界面活性剤、及び／又は共溶媒種と一緒に水性媒体中でこの組成物を利用して、集積回路製造において基板上の銅、アルミニウム及び／又はコバルト合金などの金属種に悪影響のない状態で、かつ、半導体構築において利用されるＳｉＯＣをベースとする誘電材料に損傷のない状態でフォトレジスト及び／又はＳＡＲＣ材料の非常に効率的な除去を達成することができる。 （もっと読む）

【課題】この開示は、半導体装置を製造する間に、半導体ウェハの化学機械平坦化（ＣＭＰ）後のウェハの洗浄を扱う。
【解決手段】金属、特に銅、相互接続、を含むウェハの後ＣＭＰ洗浄用アルカリ化学薬品が開示される。残留スラリーパーティクル、特に銅および他の金属パーティクルは十分に金属をエッチングしたり、表面に堆積物を放置したりまたは金属を酸化および腐食から保護する間、ウェハに対して十分な汚染物を被ったりせずにウェハ表面から除去される。また、少なくとも１つの強キレート剤は溶液中の金属イオンと錯体を形成するための存在し、誘電体から金属の除去を促進し、かつウェハ上への再堆積を防ぐ。 （もっと読む）

本発明は、（ｉ）スルファミン酸及び／又はその水溶性塩類と、（ｉｉ）少なくとも１０重量％の硫酸塩と、（ｉｉｉ）アニオン性洗浄性界面活性剤とを含む洗濯洗剤組成物に関するものである。 （もっと読む）

本発明は、（ｉ）スルファミン酸及び／又はその水溶性塩類と、（ｉｉ）アニオン性洗浄性界面活性剤と、（ｉｉｉ）０重量％〜８重量％のゼオライトビルダーと、（ｉｖ）０重量％〜８重量％のリン酸塩ビルダーとを含む洗濯洗剤組成物に関するものである。 （もっと読む）

本発明は、酸化防止剤を液状洗剤組成物に添加することによって、90%より少ない水を含んでなる液状洗剤組成物中の洗浄性酵素を貯蔵間に安定化することに関する。このような酸化防止剤は非常に少量で添加することのみが必要である。酸化防止剤はオキシドレダクターゼ、例えば、カタラーゼであることができる。 （もっと読む）

自動洗濯機で布地を処理するための、油及び特定の乳化剤系を含むマイクロエマルションの使用を開示する。また、液滴寸法 d₅₀ が 500 nm 未満であり、特定成分を含む、布地処理剤を開示する。前記布地処理剤及びマイクロエマルションは、安定であり、洗濯機の石鹸収納室から容易に溶け出し、冷水にも容易に分散できる。 （もっと読む）

Ｎ−長鎖アシル酸性アミノ酸及び／又はその塩、両親媒性物質、無機塩、及び水を必須成分として含有し、粘度が２００ｍＰａ・ｓ以上であって、程よい増粘性能と優れた使用感を併せ持つ増粘組成物を提供する。また、この増粘組成物を配合することによって、Ｎ−長鎖アシル酸性アミノ酸及び／又はその塩を含有しながら、程よい増粘性能と優れた使用感を併せ持つ洗浄料、化粧料を提供する。 （もっと読む）

本発明は、次の成分：（ａ）２重量％〜２０重量％の粘土と；（ｂ）０．５重量％〜１０重量％のポリジメチルシロキサンと；（ｃ）０．１重量％〜５重量％の凝集成分と；（ｄ）５重量％〜２５重量％の陰イオン性洗浄界面活性剤と；（ｅ）１重量％〜２２重量％のゼオライトと；（ｆ）１２重量％〜３０重量％の炭酸塩を含む固形粒子状の洗濯用洗剤組成物であって；前記粘土及びポリジメチルシロキサンが共に前記組成物中に共同微粒子混合体の形で存在する、固形粒子状の洗濯用洗剤組成物を提供する。 （もっと読む）

本発明は、成分Ａとして、ａａ）成分Ａａとしてポリアルキレンポリアミン、ポリアミドアミン、エチレンイミンでグラフトされたポリアミドアミン、ポリエーテルアミン並びに前記化合物の混合物、ａｂ）場合により成分Ａｂとして官能基としてハロゲンヒドリン単位、グリシジル単位、アジリジン単位又はイソシアナート単位又はハロゲン原子を有する少なくとも二官能性の架橋剤及びａｃ）モノエチレン系不飽和カルボン酸、モノエチレン系不飽和カルボン酸の塩、エステル、アミド又はニトリル、クロロカルボン酸及び／又はグリシジル化合物、例えばグリシジル酸、グリシジルアミド又はグリシジルエステルの反応により得ることができる水溶性又は水分散性の化合物；及び水を含有している硬質表面を処理するための組成物；水溶性又は水分散性の化合物の製造方法、本発明による方法により製造可能である水溶性又は水分散性の化合物並びに迅速かつしまのない乾燥、汚れはがしの容易化、水の凝縮の減少又は回避及び／又は硬質表面上への乾固した水の痕跡の形成の減少又は回避のために硬質表面を処理するための組成物における本出願による水溶性又は水分散性の化合物の使用に関する。 （もっと読む）

本発明は、Ｃ１〜Ｃ４ヒドロキシアルキルカルボン酸と、Ｃ５〜Ｃ１８アルキルモノカルボン酸と、非置換又は置換、飽和又は不飽和Ｃ４−ジカルボン酸と、付加的な無機酸又は有機酸とから成る特定の抗菌性四成分系を含む、酸性の殺菌及び／又は洗浄用組成物に関する。本発明の組成物は、濃縮物の形態及び希釈された殺菌及び／又は洗浄用溶液の形態で存在することができる。組成物は、硬質表面を殺菌及び／又は洗浄するプロセス、好ましくは食品、酪農、飲料、醸造及び清涼飲料産業におけるプラント施設を洗浄及び／又は殺菌する定置洗浄（ＣＩＰ）及び／又は定置殺菌（ＳＩＰ）プロセスに使用することができる。 （もっと読む）