水硬度制御剤は、約１、０００〜約５０、０００ｇ／ｍｏｌの分子量を有するポリアクリル酸またはそれらの塩、約１、０００〜約１００、０００ｇ／ｍｏｌの分子量を有するアクリルマレイン酸コポリマーまたはそれらの塩およびホスホノカルボン酸またはそれらの塩を含む。ｐｐｍでのアクリルマレイン酸コポリマーまたはそれらの塩：ポリアクリル酸またはそれらの塩：ホスホノカルボン酸またはそれらの塩の比は、約１〜約３０：約１０〜約８０：約６〜約２０である。 （もっと読む）

優れたグリース洗浄及び光沢をもたらすために、キレート剤と特定の界面活性系とを含む食器手洗い用洗剤組成物。 （もっと読む）

優れたグリース洗浄及び光沢をもたらすための、キレート剤及び分枝状界面活性剤を含む食器手洗い用洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】有機系飲料品及び食品の汚染を洗浄するための組成物及び方法の提供。
【解決手段】鉱酸、炭化水素エーテル溶媒又は炭化水素アルコール溶媒、封鎖剤、エーテルアミン剤及び様々な界面活性物質を含んでなる低発泡性酸クリーナー組成物。 （もっと読む）

Ｎ−アルキルピロリドン及びヒドロキシルアミン、及びヒドロキシルアミン誘導体を含まず、回転式粘度計で測定して、５０℃で、動的せん断粘度が１〜１０ｍＰａｓである液体組成物であって、該液体組成物の全質量に対して、
（Ａ）溶解したテトラメチルアンモニウムヒドロキシド（Ｂ）の存在下に、遠ＵＶ吸収発色団を含む、厚さが３０ｎｍのポリマー性バリア反射防止層について、５０℃で一定の除去速度を示す、４０〜９９．９５質量％の、少なくとも１種の極性有機溶媒、
（Ｂ）０．０５〜＜０．５質量％の、水酸化第4級アンモニウム、及び
（Ｃ）＜５質量％の水、
を含む液体組成物；その製造方法、電気装置を製造する方法、及びパターン化Ｔｈｒｏｕｇｈ Ｓｉｌｉｃｏｎ Ｖｉａｓによる、及び／又はメッキ及びバンピングによる３Ｄ Ｓｔａｃｋｅｄ Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ Ｃｉｒｃｕｉｔｓ及び３Ｄ Ｗａｆｅｒ Ｌｅｖｅｌ Ｐａｃｋｉｎｇｓの製造で、ネガティブトーン及びポジティブトーンフォトレジスト、及びエッチング後の残留物を除去するために、この液体組成物を使用する方法。 （もっと読む）

【課題】優れた生分解性及び低温安定性を兼ね備えた液体洗浄剤組成物の提供を目的とする。
【解決手段】（Ａ）成分：α−スルホ脂肪酸アルキルエステルのアルカノールアミン塩と、（Ｂ）成分：グリコールエーテルと、（Ｃ）成分：両性界面活性剤、リン系のキレート剤及びアミンオキシドからなる群から選ばれる１種以上と、（Ｄ）成分：非イオン性界面活性剤とを含む液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

様々な表面上の汚物を防除するための洗浄剤組成物は、析出防止製剤、苛性物及び界面活性製剤を含む。該析出防止製剤は、スルホネート／アクリレートコポリマー、アクリレートホモポリマー及びホスホノアルカンカルボン酸を含み、約２：１〜約１：２のスルホネート／アクリレートコポリマー：アクリレートホモポリマーの質量比を有する。該洗浄剤組成物のｐＨは約１０〜約１３である。 （もっと読む）

汚れを除去するためのクリーニング組成物は、アルミニウム塩、ヒドロキシカルボキシレート、アルカリ源および任意選択的に、界面活性剤系を含む。このクリーニング組成物は、約９〜約１４のｐＨを有する。 （もっと読む）

上質なグリース洗浄性と手穏やかさとを提供するために、保湿剤と、真珠光沢剤と、を含む、食器手洗い用洗剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 フラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料基板の表面の平坦性を損ねることなく適度なエッチング性を付与し、また界面活性剤を用いて基板表面から脱離したパーティクルの分散性を高めることで、優れたパーティクルの除去性を実現し、これにより、製造時における歩留まり率の向上や短時間で洗浄が可能となる極めて効率的な高度洗浄を可能にするフラットパネルディスプレイ基板及びフォトマスク基板等の電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 界面活性剤（Ａ）を含有してなる電子材料用洗浄剤であって、有効成分濃度０．０１〜１５重量％における２５℃でのｐＨ及び酸化還元電位（Ｖ）［単位はｍＶ、ｖｓＳＨＥ］が下記数式（１）を満たすことを特徴とする電子材料用洗浄剤。
Ｖ ≦ −３８．７×ｐＨ＋５５０ （１） （もっと読む）