化学機械研磨（ＣＭＰ）後残渣および汚染物質をその上に有するマイクロエレクトロニクスデバイスから前記残渣および汚染物質を洗浄するための洗浄組成物および方法。この洗浄組成物は、新規な腐食防止剤を含む。この組成物は、ｌｏｗ−ｋ誘電体材料または銅配線材料を損傷することなく、マイクロエレクトロニクスデバイス表面からＣＭＰ後残渣および汚染物質を非常に有効に洗浄する。 （もっと読む）

本発明は、亜鉛イオン、ベンゾトリアゾール、硝酸イオン、ホスホノカルボン酸、ホスホン酸、リン酸塩、ポリアスパラギン酸、脂肪族アミン、窒素含有頭部基を有する界面活性剤、およびそれらの混合物を含む群から選択される活性物質を含んでなる、粒子状フタルイミドペルオキシアルカン酸を含有する漂白剤含有洗浄剤または清浄剤に関する。 （もっと読む）

【課題】保存後にも過酸化水素及び漂白活性化剤の安定性を阻害せず、分離や白濁を生じない溶液状態を保つことができ、漂白性能、泥汚れに対する分散能に優れる液体漂白洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）過酸化水素、（ｂ）漂白活性化剤、（ｃ）ポリエーテル化合物に、アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの塩から選ばれる少なくとも１種を含むモノエチレン性不飽和単量体を重合させた高分子化合物、及び（ｄ）界面活性剤を含有し、組成物中の（ｃ）成分の含有量、（ｄ）成分の含有量、（ｄ）成分／（ｃ）成分の質量比が、それぞれ特定範囲にあり、２０℃におけるｐＨが２．５〜４．５である液体漂白洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】塗布洗浄時の蛍光増白剤配合によるむら付きが無く、皮脂や蛋白に由来する頑固な衿や靴下等の汚れに対して高い洗浄効果を有する液体洗浄剤組成物、及びそれを用いた洗浄方法の提供。
【解決手段】（ａ）蛍光増白剤、（ｂ）炭素数１０〜２０のアルキル基又はアルケニル基を１つ以上有するポリエーテル型非イオン界面活性剤２５〜８０質量％、（ｃ）陰イオン界面活性剤０．１〜１５質量％、（ｄ）ホスホン酸基を有するキレート剤を含有し、（ｂ）成分／（ｃ）成分の重量比が２〜５００である、液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】ｐＨジャンプ基剤を含有する液体漂白洗浄剤組成物において、保存中の炭酸ガス発生を抑制し、かつ、組成物の繊維浸透性を向上させて高い洗浄性能を実現する。
【解決手段】
（ａ）過酸化水素、（ｂ１）非イオン界面活性剤、（ｂ２）陰イオン界面活性剤、（ｃ）総炭素数３〜７のヒドロキシ酸又はその塩（ただし、エチレン性不飽和結合を有する化合物を除く）、（ｄ）ホウ酸、ホウ砂及びホウ酸塩から選ばれる少なくとも１種の化合物、（ｅ）隣り合う炭素原子の両方にそれぞれ１つヒドロキシル基を有する部位が１つ以上存在する化合物を含有し、（ｂ１）成分及び（ｂ２）成分の合計含有量、（ｃ）成分の含有量、（ｂ１）成分／（ｂ２）成分の質量比が、それぞれ特定範囲にある液体漂白洗浄剤組成物。 （もっと読む）

５０〜９０重量％のソイルリリースポリエステル及び０．１〜４０重量％のホスホン酸若しくはホスホン酸塩を含むソイルリリースポリマー水性調合物である。ホスホン酸若しくはホスホン酸塩の添加により、安定で低粘性であるソイルリリースポリエステルの調合物の調製が可能となる。 （もっと読む）

アミノホスホナート部分および選択される反応パートナーを具現化して新規ホスホナート化合物が開示される。これらの化合物は、現存のホスホナートに対する有益な代替物およびさらなる可能性を提供し、適用の見地および適合性の見地から広く望ましい利益を与えることができる。 （もっと読む）

【課題】塗布使用においても優れた洗浄効果を示す、保存安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）過酸化水素又は水中で過酸化水素を生成する化合物、（ｂ）界面活性剤、（ｃ）炭素数２〜２０の１価アルコール及び／又は炭素数２〜２０の２価のアルコール、（ｄ）炭素数３〜２０の３〜８価のアルコール、並びに、（ｅ）水を、それぞれ特定範囲で含有する液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】塗布使用に適切な粘度を長期間維持でき、親水性汚れ、親油性汚れを問わず優れた洗浄効果を示す、保存安定性に優れた液体洗浄剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）過酸化水素又は水中で過酸化水素を生成する化合物、（ｂ）界面活性剤、（ｃ）炭素数５〜２０の４〜８価のアルコール、（ｄ）炭素数２〜２０の２価のアルコール及び／又は炭素数３〜２０の３価のアルコール、（ｅ）ホウ酸、ホウ砂、及びホウ酸塩から選ばれる化合物、並びに、（ｆ）水を、それぞれ特定範囲で含有する液体洗浄剤組成物。 （もっと読む）

安定化された塩基性の水性液体洗剤組成物が開示される。本組成物は、過酸化水素、過酸化水素安定剤または過酸化水素安定剤の混合物、陰イオン性界面活性剤または陰イオン性界面活性剤の混合物、非イオン性界面活性剤または陰イオン性界面活性剤の混合物、およびビルダーまたはビルダーの混合物を含む。本組成物は、均一な単相を維持し、活性酸素レベルを維持し、かつ、高レベルの洗浄性能を与える。
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