本発明は、食品で、特に酪農製品で汚れたポリオレフィン系材料の表面を洗浄する方法に関する。より詳細には、本発明は、食品で、特に酪農製品で汚れた１種または複数のハロゲン化または非ハロゲン化ポリオレフィンをベースとする材料を洗浄する方法であり、特に、環境に対してだけでなく、汚れたポリオレフィン系材料に対しても損耗および断裂を最小にして安全である方法に関する。本発明によれば、汚れた材料は、１から４個の間の炭素原子を有するアルカンスルホン酸をベースとする水性組成物と接触される。 （もっと読む）

【課題】 人工透析装置や内視鏡などの医療機器に付着したタンパク質や脂肪などの汚れを洗浄し、かつこの汚れの再付着を防止する洗浄剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるメルカプトアルキルスルホン酸もしくはその塩（Ｐ）および／または下記一般式（２）で表されるメルカプトアルキルカルボン酸もしくはその塩（Ｑ）を必須成分とすることを特徴とする医療機器用洗浄剤を使用する。
ＨＳ−（ＣＨ₂）_m−ＳＯ₃^-・Ｂ⁺ （１）
ＨＳ−（ＣＨ₂）_nＣＯＯ^-・Ｂ⁺ （２）
（式中、ｍは１〜２４の整数、；ｎは１〜２４の整数；Ｂ⁺はプロトンまたは塩基が解離したカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】公知の物質と予定された用途にまた知られていない物質とを組み合わせて少なくとも一貫して効果的な洗浄作用をもたらし、金属製配管の内壁を攻撃せず、環境との高度の適合性を有し、例えばＨＣｌを含有する洗浄剤と同様に生じうる蒸気からの如何なる健康リスクも有さず、かつ製造が簡単かつ廉価であるが、但し、規定された成分の割合が遵守される水溶液中の幾つかの成分からなる混合物を考え出す。
【解決手段】飲料水配管から固形沈積物を除去するための少なくとも４種の成分と水との混合物からなる洗浄剤において、１〜１４質量％のスルファミン酸と、５〜１０質量％のメタンスルホン酸と、０．０７５〜０．１５質量％のホスホノブタン−トリカルボン酸と、０．３質量％の２−プロパノールと、１００％までの軟水とを含有することを特徴とする、少なくとも４種の成分と水との混合物からなる洗浄剤によって解決される。 （もっと読む）

【課題】 食品加工製造工程において、アルカリ性物質を使用することなく、タンパク質汚れおよび油脂汚れの両方を洗浄することができる洗浄剤を提供する。
【解決手段】 下記一般式（１）で表されるメルカプトアルキルスルホン酸もしくはその塩（Ｐ）および／または下記一般式（２）で表されるメルカプトアルキルカルボン酸もしくはその塩（Ｑ）を必須成分とすることを特徴とする洗浄剤を使用して、食品加工製造設備を洗浄する。
ＨＳ−（ＣＨ₂）_m−ＳＯ₃^-・Ｂ⁺ （１）
ＨＳ−（ＣＨ₂）_n−ＣＯＯ^-・Ｂ⁺ （２）
（式中、ｍは１〜２４の整数、；ｎは１〜２４の整数；Ｂ⁺はプロトンまたは塩基が解離したカチオンを表す。） （もっと読む）

【課題】 アルカリ剤や酵素を含有することなく、タンパク汚れや油脂汚れに対して優れた洗浄力を有し、安全で環境に優しい自動食器洗浄機用洗浄剤を提供する。
【解決手段】下記一般式で表されるメルカプトアルキルスルホン酸もしくはその塩（Ｐ）および／またはメルカプトアルキルカルボン酸もしくはその塩（Ｑ）を必須成分とする食器洗浄機用洗浄剤を使用する。
ＨＳ−（ＣＨ₂）_m−ＳＯ₃^-・Ｂ⁺ （１）
ＨＳ−（ＣＨ₂）_nＣＯＯ^-・Ｂ⁺ （２） （もっと読む）

【課題】レジストアッシング工程後の残留物を効果的に除去すると同時に、ウエハ上に留めたい緻密構造を侵食したり潜在的に劣化させることがない化学配合物を提供する。
【解決手段】フッ化物源を１〜２１重量％と、有機アミンを２０〜５５重量％と、含窒素成分（例えば含窒素カルボン酸またはイミン）を０．５〜４０重量％と、水を２３〜５０重量％と、金属キレート剤を０〜２１重量％とを含む半導体ウエハ洗浄配合物。 （もっと読む）

本発明は、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）の結晶点を低下させるためのジメチルスルホキシド添加剤としての、少なくとも１種類のジオールおよび／または少なくとも１種類のトリオールの使用に関する。ＤＭＳＯ配合物は、上記添加剤と共に、塗料剥離組成物、表面洗浄組成物、落書き洗浄組成物、マイクロエレクトロニクス分野における表面洗浄組成物、例えばフォトレジスト剥離剤、ＤＭＳＯ系農薬組成物として、または上記組成物の成分として、ポリマーを溶解させる溶媒として、または美容術もしくは薬学の分野で有用な組成物の成分として使用される。 （もっと読む）

【課題】
コンタクトレンズの眼球接触側に付着したタンパク質や脂質などの汚れを洗浄し、かつこの汚れの再付着を防止する洗浄剤を提供する。
【解決手段】
下記一般式（１）で表されるメルカプトアルキルカルボン酸塩（Ａ）を必須成分とすることを特徴とするコンタクトレンズ用洗浄剤。
ＨＳ−（ＣＨ₂）n−ＣＯ₂^-・Ｂ⁺ （１）
（式中、ｎは１〜２４の整数を表し、Ｂは塩基を表す。） （もっと読む）

ＩＣ（集積回路）、液晶ディスプレイおよびフラットパネルディスプレイの製造において使用される半導体ウエハからのイオン性残留物、粒状残留物および水分を含むがこれらに限定されない一般的な混入物または残留物を除去する方法である。該方法は、所定のエステルまたは特定の共溶媒と組合された所定のエステルを使用することを含む。洗浄方法は、種々の洗浄プロセスまたはプロセスステップにおいて利用でき、そして経済的および性能的な利点を与える。 （もっと読む）

【課題】 マイクロエレクトロニクス基板の洗浄のためのマイクロエレクトロニクス洗浄組成物、特にＡｌまたはＡｌ（Ｃｕ）金属被覆基板と同様に、二酸化珪素、高感度低κおよび高κの誘電体、および、銅、タングステン、タンタル、ニッケル、金、コバルト、パラジウム、白金、クローム、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、ハフニウム、チタン、モリブデン、錫、及びその他の金属被覆が特色であり、かつ相互接続技法が進んだものである、マイクロエレクトロニクス基板との適合性を改良した、それらの洗浄に有用な洗浄組成物を提供する。
【解決手段】 ハロゲン酸素酸、それらの塩および誘導体を含むマイクロエレクトロニクス洗浄組成物を使用する。 （もっと読む）