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国際特許分類[C11D7/34]の内容

国際特許分類[C11D7/34]に分類される特許

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【課題】半導体の基板から有機及び無機のポストエッチ残渣ならびにポリマー残渣及び汚染物質を除去するために使用される水性組成物を提供すること。
【解決手段】組成物が、水溶性有機溶媒、スルホン酸及び水から構成される。 (もっと読む)


【課題】重炭酸ソーダを主成分をして 野菜、果物 及び 食器調理具用の洗浄剤に界面活性剤や漂白剤、添加物などの石油化学物質や 有害物を含まぬ安全な食品系素材だけで 組成されたもので しかも 水質水温をとわず迅速に 水に溶ける 自溶性タイプを目的とする。
【解決手段】重炭酸ソーダを主成分として 第二成分として 炭酸塩(Na、K、NH)を含む アルカリ組成物と ノンヒドロキシカルボン酸(コハク酸、マレイン酸、フマル酸、アジピン酸、グルタル酸)を主成分として この副成分として第二酸性物質である ヒドロキシカルボン酸(クエン酸、リンゴ酸、酒石酸)、スルファミン酸、酸性硫酸ソーダ ピロリドンカルボン酸からなり 目安として1%水溶液が 6〜10.5%に調整されており、且つ1.5〜15重量%のL−アスコルビン酸塩(Na、K、NH)を含む洗浄剤洗浄物である。 (もっと読む)


特定の硫黄含有す化合物を含む、安定化されたボディケア製品、家庭用製品、繊維および織物を開示する。退色に対して染め製品および物品を効果的に安定化させる。当該製品は、例えば、スキンケア製品、ヘアケア製品、歯磨剤、化粧品、洗濯用洗浄剤、および織物柔軟剤、非洗浄剤ベースの織物ケア製品、家庭用クリーナおよび繊維ケア製品である。 (もっと読む)


【課題】マイクロエレクトロニクス基板洗浄のためのアンモニア不含洗浄組成物、特に高感度多孔性誘電体、低κまたは高κの誘電体並びに銅金属被覆を特徴とするマイクロエレクトロニクス基板の洗浄方法を提供すること。フォトレジストのストリッピング、プラズマ生成有機、有機金属および無機化合物由来の残渣の洗浄方法、および平坦化工程由来の残渣の洗浄方法を提供すること。
【解決手段】非求核性、正荷電対イオンを含有する1種またはそれ以上の非アンモニア産生強塩基および1種またはそれ以上の腐食阻害溶媒化合物(該腐食阻害溶媒化合物は、金属と錯体形成できる少なくとも2つの部位を有する)を含有する洗浄組成物の使用により、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】
高屈折率化可能とする硫黄原子および/またはセレン原子を有する無機化合物を使用した、光学材料用組成物用の洗浄剤および洗浄方法を提供すること。
【解決手段】
(A)ラクタムを有する化合物、又は(A)ラクタムを有する化合物に(B)芳香環を有する化合物がアルキルベンゼンを添加した洗浄剤および洗浄方法を採用することにより、作業環境が良く、アルカリスクラバーのような特殊な排気装置を設ける必要がなくなった。 (もっと読む)


本発明は、初期挿入快適さを有するだけでなく、約6時間を超える装用にも快適である改良されたコンタクトレンズ製品に関する。本発明は、ヒドロゲルレンズを、その中に配合された二つ以上の浸出可能なポリマー潤滑剤とともに、比較的低分子量のポリエチレングリコール(PEG)及び粘度増大性親水性ポリマーを含む比較的粘ちょうなパッケージング溶液中にパッケージングし、貯蔵することによって達成される。本発明はまた、本発明のコンタクトレンズ製品を製造する方法を提供する。 (もっと読む)


【課題】半導体装置の製造の間にウェハの化学機械平坦化(CMP)後の半導体ウェハの洗浄に関し、金属、特に銅、相互接続を含むウェハの後CMP洗浄用アルカリ薬品を提供する。
【解決手段】残留スラリーパーティクル、特に銅または他の金属パーティクルは金属を十分にエッチングする、表面に堆積物を放置する、十分な汚染物を与える、ことをせずに半導体表面から除去され、同時に金属を酸化および腐食から保護する。さらに、少なくとも1つの強キレート剤は溶液中で金属イオンを錯化するために存在し、誘電体からの金属除去を促進しかつウェハ上への再堆積を防止する。 (もっと読む)


半導体集積回路及び/又は液晶のための半導体デバイス上に回路を作製し、及び/又は電極を形成するために有用な、金属及び合金エッチレート(特に銅エッチレート及びTiWエッチレート)の低下したレジスト剥離剤を、その使用方法とともに提供する。好ましい剥離剤は、添加された銅塩とともに、又は銅塩無しで、及び銅塩の可溶性を改善するための添加されたアミンとともに、又はアミン無しで、低い濃度のレゾルシノール又はレゾルシノール誘導体を含有する。更に、これらの方法によって製造された集積回路デバイス及び電気的相互接続構造を提供する。 (もっと読む)


本発明は、1種または複数種のポリスルホン酸を含む、改善された水性硬質表面クリーニング組成物に関する。硬質表面組成物に1種または複数種のポリスルホン酸を含有させることによって、硬水から生じる不溶性塩の沈着の除去が改善される。一実施形態において、本発明では、発泡剤、芳香および増粘剤が用いられる。 (もっと読む)


【課題】耐環境性に優れ、除菌・静菌・洗浄・消臭・酸化還元等の作用を有した新規な活量調質水溶液を提供する。また二液を混合することにより、迅速かつ煩雑な工程を経ずにpHの調整が可能な活量調質水溶液を提供する。
【構成】本発明は、カルボキシル基及び\又はスルホン基がグラフト重合により結合されたセルロース系基体を沸点以下の液体に浸漬した後、該セルロース系基体を除去して得られるpH7.0未満の液体と、アミノ基がグラフト重合により結合されたセルロース系基体を沸点以下の液体に浸漬した後、該セルロース系基体を除去して得られるpH7.0を超える液体との混合液であることを特徴とする活量調質水溶液である。 (もっと読む)


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