説明

国際特許分類[C11D7/34]の内容

国際特許分類[C11D7/34]に分類される特許

11 - 20 / 130


【課題】液体吐出装置などの液体流路の洗浄液兼充填液であって、泡などの副作用が少なく従来よりも洗浄力の高い洗浄液兼充填液、並びに該洗浄液兼充填液を充填したカートリッジの提供。
【構成】液体吐出装置及びこの装置に用いるインクカートリッジの液体流路を洗浄するための洗浄液兼充填液であって、次の(1)又は(5)の群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する液体吐出装置及びインクカートリッジ用洗浄液兼充填液。
(1)パーフルオロアルキルスルホンイミド及びその誘導体
(ただし、アルキルの炭素数は1〜4である。)
(5)フッ化スルホンイミド及びその誘導体 (もっと読む)


【課題】腐食抑制剤システム、特にアルカリ条件(特に食品および製薬の産業における)下におけるアルミニウムまたは着色金属およびその合金の表面用洗浄・腐食抑制組成物を提供する。
【解決手段】表面用洗浄・腐食抑制組成物は、一般式


[式中、Zは−O−Mまたは


のいずれかである。]で示される少なくとも一種のアルキレンオキシ−アルキルホスフェートジエステルまたはトリエステルを含有する。 (もっと読む)


【課題】ポストアッシュ及び/又はポストエッチフォトレジストに限定されないが、これらのような残渣を基材から除去するための水系組成物、及びそれを含む方法を提供すること。
【解決手段】ある態様における、残渣を除去するための組成物は、(a)水、(b)ヒドロキシルアミン、ヒドロキシルアミン塩化合物及びこれらの混合物から選択される少なくとも1種のもの、並びに(c)水溶性有機酸を含まないという条件付の腐食防止剤を含み、添加された有機溶剤を実質的に含まない。 (もっと読む)


【課題】10〜70℃の低〜中温で毛髪除去が可能であるため洗濯対象物を傷めずに、洗濯対象物に付着した毛髪を効果的に除去する毛髪処理剤を提供する。
【解決手段】チオグリコール酸、ジチオグリコール酸、システイン、アセチルシステイン、システアミン、チオ乳酸、及びそれらの塩からなる群から選択された1種又は2種以上を含有してなるものとする毛髪処理剤を用いる。 (もっと読む)


a) 一般式(1)
【化1】


[式中、
Mは、互いに独立して、IIIまたはIV酸化状態のマンガンから選択され、
Xは、互いに独立して、HO、O2−、O、O2−、OH、HO、SH、S2−、SO、Cl、N3−、SCN、N、RCOO、NH及びNRから選択される、配位または橋掛け種であり、ここでRはH、アルキル及びアリールから選択される基であり、
Lは、互いに独立して、それぞれ少なくとも二つの、マンガンに配位した窒素原子を含む有機配位子であり、
zは、−4〜+4の整数であり、
Yは、クロライド、スルフェート、ハイドロジェンスルフェート、ニトレート及びアセテートから選択される一価または多価の対イオンであり、これは、錯体の電荷的中性をもたらすものであり、及び
qは、1〜4の整数である]
の一種またはそれ以上のマンガン錯体化合物、及び
b) 一般式R’−C−SOMe[式中、R’はCHまたはCでありそしてMeはNa、K、CaまたはMgを意味する]の一種またはそれ以上の塩、
を含む固形の形態の組成物であって、一般式(1)のマンガン錯体化合物と一般式R’−C−SOMeの塩とのモル比は1:0.5〜1:5である前記組成物、並びに該組成物の製造方法、及び特に洗濯洗剤及び洗浄剤中での、酸化触媒または漂白触媒としてのそれらの使用が開示される。
(もっと読む)


【課題】 本発明は、研磨工程由来の有機残渣除去性能、銅配線の腐食抑制効果(銅腐食抑制効果)に優れ、かつ腐食防止剤が残留しない銅配線半導体用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】 有機アミン、4級アンモニウム化合物、ウレア基またはチオウレア基を含有する化合物、および水を必須成分とし、pHが7〜12であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤である。 (もっと読む)


【課題】インクジェットプリンタのノズル口内周辺に析出した金属塩を十分に洗浄することが可能で、且つインクを凝集させにくい、上記ノズルの洗浄方法を提供すること。
【解決手段】インクジェットプリンタのノズルを洗浄する方法であって、水と、5〜25質量%の水溶性極性溶媒と、を含有する洗浄液でノズルを洗浄する工程を含む、洗浄方法。 (もっと読む)


【課題】ペルオキシ一硫酸水溶液を長期間安定に保存することができる安定剤、及び安定化したペルオキシ一硫酸水溶液を提供すること。
【解決手段】下記の一般式(1)で表わされる基を含有し、炭素数1〜20を有する化合物からなるペルオキシ一硫酸水溶液の安定剤。
【化1】


(式中、Mは水素原子、アンモニウムまたはアルカリ金属原子を表わす。) (もっと読む)


【課題】ミストによるステンレスの腐食が生じることがなく、茹で槽に付着したリン酸塩を含むスケール汚れを除去することができる洗浄剤を提供すること。
【解決手段】
製麺工場で用いられるステンレス製茹で麺装置に付着したスケール汚れを除去するための茹で麺装置用酸性洗浄剤であって、メタンスルホン酸と、硝酸と、リン酸とを含み、上記硝酸の含有割合が1〜20重量%であることを特徴とする茹で麺装置用酸性洗浄剤。 (もっと読む)


【課題】平板表示装置に用いられる基板上に存在する有機物または無機物などのパーティクルを除去するとともに平板表示装置に用いられる銅を含む配線、アルミニウムを含む配線を腐食させない洗浄液組成物を提供する。
【解決手段】組成物の総重量に対し、(a)アミン化合物0.05〜5重量%;(b)アゾール系化合物、アルカノールアミン塩及び還元剤よりなる群から選ばれる1種または2種以上を含む添加剤0.01〜10重量%;及び(c)残量の水を含む。 (もっと読む)


11 - 20 / 130