【課題】レジスト由来のアッシング残渣、Ｓｉ系材料由来のエッチング残渣、銅等の配線材料由来のエッチング残渣、および酸化銅からなる自然酸化膜からなる種々の残渣を十分に除去することができ、かつ半導体を形成する銅等の配線材料、絶縁膜、および低誘電層間絶縁膜を腐食させない基板洗浄液を提供する。
【解決手段】フッ化物塩、下記一般式（Ｉ）で表されるチオール化合物、防食剤および水を含有する基板洗浄液。
【化１】


（式中、Ｒ^１は水素原子または炭素数が１〜３のアルキル基であり、Ｒ^２はＣＯＯＲ^３（Ｒ^３は、水素原子または炭素数が１〜３のアルキル基である。）である。） （もっと読む）

【課題】銅配線の腐食抑制効果（銅腐食抑制効果）が優れ、かつ接触抵抗に影響を及ぼさない銅配線用洗浄剤を提供することを目的とする。
【解決手段】銅腐食抑制剤（ＲＥ）及び水（Ｗ）を含有してなり、２５℃でのｐＨが３〜１４であり、かつ式（１）を満たしてなることを特徴とする銅配線用洗浄剤を用いる。

【数１】


｛式中、Ｅは２５℃での酸化還元電位（Ｖ、ｖｓＳＨＥ）、ｐＨは２５℃でのｐＨを表す。｝

また、上記の銅配線用洗浄剤を半導体基板又は半導体素子に連続的又は断続的に供給して、銅配線を有する半導体基板又は半導体素子を洗浄することを特徴とする半導体基板又は半導体素子の洗浄方法を用いる。
なし （もっと読む）

有機アミン及び/又は４級アンモニウム水酸化物を含む少なくとも２つの塩基性化合物、少なくとも１つの有機酸化合物、及び材料の腐食を防止する腐食剤化合物を含むアルカリ性のＣＭＰ後洗浄溶液が提供される。防止剤化合物は、好ましくは、メルカプタン化合物である。１つの具体例では、洗浄溶液は、少なくとも２つの有機アミンを含むが、４級アンモニウム水酸化物は含まない。洗浄溶液は、好ましくは、約７〜約１２の範囲のｐＨを有する。 （もっと読む）

少なくとも１つのフッ素ベース構成要素、少なくとも１つのキレート化成分、界面活性剤成分、酸化成分又はこれらの組み合わせ、及びおよび少なくとも１つの溶媒または溶媒混合物を含む除去化学薬品溶液について本明細書で説明する。。少なくとも１つの低Ｈ_２Ｏ含有率フッ素ベース構成要素と少なくとも１つの溶媒又は溶媒混合物を含む除去化学薬品溶液およびその製造方法も本明細書で説明する。
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【課題】 シリコン基板及びガラス基板をエッチングせずに、シリカ粒子、アルミナ粒子、窒化ケイ素粒子のような種々の粒子の除去能力が高く、金属汚染についても除去することができる洗浄方法を提供する。
【解決手段】 １分子中にスルホン酸基を少なくとも２以上有する化合物、フィチン酸および縮合リン酸化合物からなる群から選択される１種または２種以上と、無機酸と、水とを含有してなる半導体基板洗浄液組成物を用いて、物理力を併用して半導体基板を洗浄することを特徴とする、半導体基板の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】オフセット印刷機における圧胴上の汚れを簡便に除去することができる手段を提供し、洗浄性および安全性に優れた圧胴洗浄剤を提供する。
【解決手段】モノテルペン系炭化水素及び脂肪酸トリグリセリドから選ばれる少なくとも一種の化合物、研磨剤、及び水を含有することを特徴とする乳化型圧胴洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】フッ素を用いることなく、より低温下でアルミニウム系金属材料の表面を清浄化し、均一な化成皮膜を形成することができるアルミニウム系金属材料用酸性洗浄剤及びその洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によれば、特定の構造を有する有機スルホン酸を所定量含有する酸性洗浄剤を用いることにより、フッ素を用いることなく、より低温下でアルミニウム系金属材料の表面を清浄化して均一な化成皮膜を形成することができる。 （もっと読む）

本発明は、（ｉ）リパーゼと、（ｉｉ）ペルオキシ酸から酸素原子を受け取り、その酸素原子を酸化可能基質に移動させることのできる漂白剤触媒とを含む組成物に関するものである。 （もっと読む）

【課題】ドライクリーニング用洗浄剤の酸化劣化と着色を防止すること。
【解決手段】炭素数１０〜１３の環式モノテルペン及び／又はその誘導体を主成分とするドライクリーニング用洗浄剤１００重量部に対し、高分子型フェノール系酸化防止剤を1０〜１０００ｐｐｍ添加する。高分子型フェノール酸化防止剤１０〜９０重量部に対して、イオウ系酸化防止剤を９０〜１０重量部の割合で併用することもできる。ドライクリーニング用洗浄剤によってドライクリーニングした後、当該洗浄剤を植物系活性炭で脱臭処理して再利用する。 （もっと読む）

【課題】従来品に較べ少量で洗浄効果を発揮し、かつ顔料の凝集・沈降が起きにくい、顔料分散型感光性樹脂を除去するための洗浄剤を提供する。
【解決手段】少なくとも１つのアルキル基を有する芳香族化合物を２種類以上含有し、該芳香族化合物における全アルキル基の炭素の総数が３〜５であり、更に、該芳香化合物の全洗浄剤に対する含有量が１０〜４０質量％で、該芳香化合物が１〜３個のアルキル基をもつ単環化合物であり、該芳香化合物以外の溶剤を含有することを特徴とする洗浄剤。 （もっと読む）