本発明は、新規なスルホペルオキシカルボン酸化合物、組成物、化合物製造と使用の方法に関連している。本発明のスルホペルオキシカルボン酸化合物は貯蔵安定性を有し、水溶性で、低臭または無臭である。さらに、本発明の化合物は非石油系再生油から抽出されている。本発明の組成物は殺菌剤、および漂白剤として使用される。本発明の化合物はまた、カップリング剤としての使用にも適している。 （もっと読む）

ドープされたシリコン含有材料の除去よりも速いかまたは等しい速度で、ドープされていないシリコン含有材料をマイクロエレクトロニクスデバイスから除去するための組成物および方法。 （もっと読む）

【課題】 低起泡性で泡切れ性にも優れ、かつ優れたパーティクルの除去性及びリンス性を実現する電子材料用洗浄剤を提供する。
【解決手段】 特定の構造を有するアニオン成分と、アルカリ金属カチオン、アルカリ土類金属カチオン、炭素数０〜２５のアンモニウムカチオン、特定のアミン又はアミジン化合物にプロトンが付加したカチオンからなる群から選ばれる１種以上のカチオン成分からなるアニオン性界面活性剤（Ａ）を含有する電子材料用洗浄剤であって、（Ａ）の０．２重量％水溶液の２０℃におけるロス・マイルス試験により測定される起泡力が５０ｍｍ以下であり、泡の安定度が５ｍｍ以下であることを特徴とする電子材料用洗浄剤。 （もっと読む）

マイクロエレクトロニクス洗浄用組成物であって、ａ）当該組成物の約８０重量％〜約９９重量％の少なくとも１つの有機スルホンと；ｂ）当該組成物の約０．５重量％〜約１９重量％の水と；ｃ）当該組成物の約０．５重量％〜約１０重量％のテトラフルオロホウ酸塩イオンを提供する少なくとも１つの成分とからなり、ｄ）任意で、少なくとも１つの多価アルコールを含む、組成物は、Ｓｉ系反射防止コーティングと低ｋ誘電体の両方を有するマイクロエレクトロニクス基板またはデバイスからエッチング／アッシング残渣を洗浄する際に特に有用である。 （もっと読む）

【課題】従来の銅配線半導体用洗浄剤は、銅配線に付着する研磨剤由来の有機残渣を除去する効果が不十分であるばかりか、金属配線材料（銅、タングステン等）が腐食するという問題がある。
【解決手段】有機アミン（Ａ）、下記（Ｉ）〜（ＩＶ）からなる群より選ばれる少なくとも１種の多価水酸基含有化合物（Ｂ）及び水（Ｗ）を含有してなり、２５℃でのｐＨが２〜１４であることを特徴とする銅配線半導体用洗浄剤。
（Ｉ）分子量が１，０００未満の多価水酸基含有炭化水素
（ＩＩ）エーテル基、エステル基、ホルミル基、スルホ基、スルホニル基、ホスホノ基、チオール基、ニトロ基及びアミド基からなる群から選ばれる少なくとも１種の官能基を有する分子量が１，０００未満の多価水酸基含有炭化水素
（ＩＩＩ）上記（Ｉ）、（ＩＩ）を脱水縮合した分子構造を有する多価水酸基含有化合物
（ＩＶ）糖類
（Ｖ）変性されていてもよいポリビニルアルコール （もっと読む）

【課題】高い殺菌・除菌効果を発揮し、かつ、組成物中の過酸化物の安定性に優れた殺菌・除菌用組成物を提供する。
【解決手段】本発明の殺菌・除菌用組成物は、（ａ）水に溶解して過酸化水素を発生する過酸化物と、（ｂ）配位座が５以下のキレート剤および／または該キレート剤から生じた陰イオンと、（ｃ）銅化合物と、（ｄ）バインダー化合物と、を含有し、少なくとも前記（ｃ）および（ｄ）が、共に造粒または成型された造粒物または成型物として含有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】実質的な剥離性能の減少や金属パターンの損傷無しに再使用できて、写真エッチング工程の費用を減少させることができるフォトレジスト剥離組成物を提供する。
【解決手段】本発明によるフォトレジスト剥離組成物は、スルホン系化合物８０〜９８．５質量％、ラクトン系化合物１〜１０質量％、及びアルキルスルホン酸０．１〜５質量％を含む。 （もっと読む）

Ｎ−（ヒドロキシアルキル）アミンを縮合させることと、並びに縮合生成物の残りのヒドロキシ及び／又は第二級アミノ基をアルキレンオキシド及び／又は前記ポリマーの四級化、プロトン化、硫酸化、及び／又はリン酸化によって得ることができる誘導物と反応させること、によって得ることができる、アルコキシル化ポリアルカノールアミンポリマーを含む洗濯洗剤又は洗浄組成物。 （もっと読む）

【課題】複雑な構成からなるノズル詰まり防止機構を設けることなく、金属粒子含有インクジェットインクの連続的、間欠的吐出条件下での吐出安定性を実現することができるインクジェット用洗浄液及びそれを用いる洗浄方法を提供する。
【解決手段】金属粒子を含有するインクジェットインクを吐出するインクジェット記録装置の洗浄に用いるインクジェット用洗浄液であって、該インクジェットインクに含まれる金属粒子を溶解可能な化合物Ａを含有することを特徴とするインクジェット用洗浄液。 （もっと読む）

新規ポリマー系を含む改善された洗浄利益を提供する洗濯洗剤及び洗浄組成物。このポリマー系は、１以上の両親媒性アルコキシル化グリース洗浄ポリマーと、粘土汚れ洗浄ポリマー又は汚れ懸濁性ポリマーかのいずれかと、を含む。 （もっと読む）