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国際特許分類[C22C27/02]の内容

国際特許分類[C22C27/02]に分類される特許

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【課題】超電導線材同士を接続するときの電気抵抗を極力小さく抑え、NMRマグネットへの適用が可能な、高い臨界電流密度Jc特性が期待できる内部Sn法Nb3Sn超電導線材およびそのための超電導線材製造用前駆体を提供する。
【解決手段】本発明の超電導線材製造用前駆体の構成は、内部Sn法によってNb3Sn超電導線材を製造する際に用いる超電導線材製造用前駆体において、外周に拡散バリア層を設けた安定化銅を中央部に単数または複数集めて配置すると共に、その周囲に、NbまたはNb基合金芯とSnまたはSn基合金芯をCuまたはCu基合金マトリクスに埋設した超電導マトリクス部が配置されたものである。 (もっと読む)


【課題】水素透過性と耐水素脆化性とを有し、473K以上で使用可能な結晶質の複相水素透過合金を提供することを目的とする。
【解決手段】複合相からなり、前記複合相が、Taを固溶したNiZr相とNiを固溶したZrTa相との共晶(NiZr+ZrTa)構造、初相として生成する前記ZrTa相が前記共晶に囲まれている構造、或いは初相として生成する前記NiZr相が前記共晶に囲まれている構造を有し、Ni−Zr−Ta3元状態図上で、Ni45Zr55、Ni55Zr45、Ni50Zr30Ta20、Ni40Zr30Ta30、Ni25Zr15Ta60、Ni15Zr25Ta60(ただし、合金組成はすべて原子%)で囲まれた領域内の合金組成を有する複相Ni−Zr−Ta系の結晶質複相水素透過合金である。 (もっと読む)


【課題】酸素を遮断する表面酸化物層と内部合金とのはく離、および酸化の進行を抑制することにより、耐酸化性に優れた被覆構造を有する耐熱合金を提供する。
【解決手段】耐熱合金の基材表面に、必要に応じて拡散防止を目的とする第一層の合金皮膜が形成され、さらにその表面に少なくともAl又はSiを含む合金層中に酸化物の繊維及び粒子が分散された第二相の複合皮膜が形成された耐熱合金の耐酸化被覆構造。とくに耐熱合金が二オブ基合金の場合に、第一層の合金皮膜はRe及びReと安定な相を形成する元素を2種以上含むものとし、第二層皮膜は、少なくともAlを含みCrとNiのうちの1種以上を含む合金層中に、酸化物繊維および酸化物粒子が分散されたものとする。ここで、繊維として平均アスペクト比2〜1,000の酸化物系セラミックスの繊維又はウィスカーを、粒子として平均粒径1〜50μmの酸化物系セラミックスの粒子を用いる。 (もっと読む)


【課題】優れた水素透過性を有する複相型水素透過合金を提供する。
【解決手段】水素透過性を担う相と耐水素脆化性を担う相とで構成された複相型水素透過合金であって、水素透過を担う相が水素透過方向に伸びており、このような水素透過を担う相が水素透過方向の全長に亘って形成されており、厚さが0.01〜1mmであり、水素を取り込む側の面および水素を取り出す側の面にPd膜またはPd合金膜が形成されている。 (もっと読む)


【課題】水素透過性を担う相と耐水素脆化性を担う相とから構成される複相水素透過合金を、粉末冶金プロセスを用いて作製する。
【解決手段】水素透過性を担う相と耐水素脆化性を担う相とで構成された複相水素透過合金の製造方法であって、複数種類の粉末原料を選択し、これらを相互に混合する第1の工程と、粉末原料を真空中で加圧して圧粉体を作製する第2の工程と、圧粉体に加熱処理を施す第3の工程と、により水素透過性を担う相と耐水素脆化性を担う相とを形成する。 (もっと読む)


【課題】線材単重の増大が図れる共に、最終線径への多様化への対応を可能にでき、NMR分析装置等で用いる超電導マグネットへの用途適用に最適なNb3Sn超電導線材、およびこうしたNb3Sn超電導線材を内部拡散法によって製造するための有用な方法を提供する。
【解決手段】中央にSn又はSn基合金芯が配置されると共に、その周囲にCu又はCu基合金マトリクス5と、複数本のNb又はNb基合金からなるフィラメントが配置され、更にその外周に安定化銅層4bを有するモノエレメント線材を複数束ね、更にその外周に安定化銅を配置したマルチエレメント線材11を用い、減面加工する途中で、前記Sn又はSn基合金芯の直径が0.5mm以下となった段階で、100〜300℃の温度範囲で焼鈍を行い、引き続き減面加工を終了し、次いで減面加工後のマルチエレメント線材に対して拡散熱処理を施すことによって、線材内にNb3Sn超電導相を形成する。 (もっと読む)


【課題】低温低負荷状態における張力と、高温高負荷状態における張力とを変化させることができ、その結果フリクションロスを最小限に抑え、燃費の向上を可能とするピストンリングを提供すること。
【解決手段】 ピストンリングを、30mol%以上40mol%より少ないタンタルと、残部のチタンと、不可避的不純物と、からなるチタン−タンタル系形状記憶合金によって形成する。 (もっと読む)


【課題】キャパシター用タンタルまたはニオブ粉末の製造方法を提供する。
【解決手段】陽極、陰極及び溶融塩を含む電解還元反応器におけるキャパシター用タンタル(Ta)またはニオブ(Nb)粉末の製造方法において、アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択した少なくとも一つの金属のハロゲン化合物と、アルカリ金属酸化物からなる溶融塩中、アルカリ金属酸化物を陰極で1次電解還元し、電解還元されたアルカリ金属により五酸化タンタル(Ta2O5)または五酸化ニオブ(Nb2O5)を部分的に還元してTa2O(5-y)またはNb2O(5-y)(ここで、y=2.5〜4.5)で表示されるタンタルまたはニオブ酸化物を得る工程、及び前記アルカリ金属及びアルカリ土類金属から選択した少なくとも一つの金属のハロゲン化合物を陰極で1次電解還元して、Ta2O(5-y)またはNb2O(5-y)(ここで、y=2.5〜4.5)で表示されるタンタルまたはニオブ酸化物と2次還元反応を進行してタンタルまたはニオブ粉末を得る工程を含む。 (もっと読む)


【課題】 抵抗温度係数が−25〜+25ppm/℃の範囲内という抵抗温度特性、155℃で1000時間の高温保持における経時的抵抗変化率が0.1%以下という高温安定性、および、酸性人工汗液(JIS L0848)を用いた電食試験における溶解開始電圧が3V以上となる耐塩水性を、同時に備える薄膜抵抗器を提供する。
【解決手段】 スパッタリング法により抵抗薄膜を成膜するに際して、20質量%以上、60質量%以下のTaと、8質量%を超え、15質量%以下のAlを含み、残部はCrおよびNiからなり、Niに対するCrの質量比Cr/Niが0.5〜1.2であるスパッタリングターゲットを用いる。 (もっと読む)


【課題】体積抵抗値が700μΩ・cm以上であり、抵抗温度係数が−25〜+25ppm/℃の範囲内であり、155℃で1000時間の高温保持における経時的抵抗変化率が0.1%以下であり、酸性人工汗液を用いた電食試験における溶解開始電圧が3V以上である薄膜抵抗器を提供する。
【解決手段】Taを20〜60質量%、Alを2〜10質量%、および、Moを0.5〜15質量%含み、残部はCrおよびNiからなり、Niに対するCrの質量比Cr/Niが0.75〜1.1である抵抗薄膜材料からなるスパッタリングターゲットを用いて、スパッタリング法により、絶縁材料基板上に抵抗薄膜を形成し、その後、得られた抵抗薄膜を大気中、200〜600℃で、1〜10時間、熱処理をすることにより、薄膜抵抗器を得る。 (もっと読む)


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