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国際特許分類[C22F1/14]の内容

国際特許分類[C22F1/14]に分類される特許

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【課題】 パラジウム合金の薄膜を利用した水素精製において、薄膜の厚みを薄くしても機械的強度の低下が少ない合金細管の製造方法を提供する。
【解決手段】 パラジウム50〜70wt%と銅30〜50wt%からなる溶融合金、パラジウム60〜90wt%と銀10〜40wt%からなる溶融合金、または、パラジウム60〜80wt%と銀10〜37wt%と金3〜10wt%からなる溶融合金を、押出しダイスの環状ノズルから押出し、管状のパラジウム合金膜に成型する。 (もっと読む)


【課題】Cdの使用廃止問題を解決し、しかも、Ag−CdO系電気接点材料に匹敵する諸特性を有し、Ag−(Sn、In、Sb)系のCdフリー接点材料における内部酸化処理に特有のAgリッチ層とその直下の酸化物凝集層の生成を抑制し、添加元素酸化物粒子の濃度分布の不均一や粒子の粗大化およびその凝集等の諸問題を解決するAg−酸化物系電気接点材料を提供する。
【解決手段】冷間加工率50%〜95%の条件で作製された内部酸化性Ag合金を、加圧酸化炉中の大気を酸素に置換後、酸素圧を5kg/cm2〜50kg/cm2の加圧酸素雰囲気中で200°C以下の温度から徐々に昇温し、上限700°Cで内部酸化処理をすることによって、最表面に生成するAgリッチ層と直下の酸化物凝集層を抑制し、かつ、内部組織深層まで添加元素の複合酸化物を均一で微細に析出分散させる。 (もっと読む)


【課題】銀をベースとするカドミウムフリー材料の製造方法。
【解決手段】次の工程:銀と少なくとも1種の被酸化性合金元素とを含有し、カドミウムを含まない第一合金を準備する工程;銀と少なくとも1種の被酸化性合金元素とを含有する第一合金の表面積を増加させて第二合金を得る工程;第二合金を第一熱処理する工程、前記熱処理は還元雰囲気中で実施されて第三合金が得られる;第三合金を第二熱処理する工程、前記熱処理は含酸素雰囲気中で実施されて第四合金が得られる、を含んでなる。 (もっと読む)


【課題】量産性に優れ、かつ、高い電導効率を有する金属材およびその製造方法を提供する。
【解決手段】最終の塑性加工を経た銀線20を700℃以上融点未満の処理温度T1にまで昇温する。その後、銀線20を700℃以上融点未満の処理温度T1に維持しつつ、銀線20の周辺を排気により真空雰囲気とした後、ヘリウムガスおよび水素ガスを供給して混合雰囲気とする雰囲気交換を3回以上繰り返す。その後、昇温工程の時間と加熱維持工程の時間との合計時間の2倍以上の時間をかけて銀線20を徐冷する。これにより、銀線20の組織全体を粗大化した再結晶粒とすることができ、その再結晶粒の粒界にはヘリウム分子および水素分子のうちの少なくともいずれか一方が充填される。その結果、銀線20に高い電導効率を付与することができる。 (もっと読む)


【解決課題】 スパークプラグの電極に取り付けられる貴金属チップであって、従来よりも耐久性、特に耐酸化消耗性に優れるものを提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明は、スパークプラグの中心電極先端部に固定される貴金属チップにおいて、イリジウム又はイリジウム合金からなる芯材と、前記芯材の少なくとも側面を被覆し、第1の金属の酸化物を含んでなる被覆層と、からなり、前記被覆層は、芯材側の境界にイリジウムと第1の金属を含む拡散層を有することを特徴とする貴金属チップである。このとき、被覆層上に第2の金属からなる保護層を更に備えていても良い。 (もっと読む)


【課題】 加工性および接触抵抗安定性に優れたInフリーの銀−酸化物系電気接点材料を提供することを目的とする。
【解決手段】 添加金属として重量%で、Sn:5〜15%、Te:0.05〜1.5%、Cu:0.05〜1%未満を含有し、残りがAgと不可避不純物とからなる組成を有するAg合金を、内部酸化処理した後に750〜960℃で高温熱処理してなる。また、添加金属として、さらに重量%で、Ni:0.05〜0.5%を含有しても構わない。 (もっと読む)


【課題】高い製造効率で充分な水素吸蔵能力をもつ水素吸蔵材を得る。
【解決手段】この水素吸蔵材の製造方法においては、Pd表面に粒子線を照射する照射工程が行われる。この場合の粒子線とは、イオンビームであり、例えば、陽子(水素イオン)、ヘリウムイオン、窒素イオン、アルゴンイオン等、照射によって材料中に空孔を高効率で形成することのできる粒子線である。その照射エネルギーは、空孔を高効率で形成することのできるように、例えば50keV以上とする。こうした特性の粒子線(荷電粒子線)を発することのできる装置としては、レーザー駆動型粒子線発生器が特に好ましく用いられる。このため、この水素吸蔵材の製造方法においては、レーザー駆動型粒子線発生器10から発せられたイオンビーム(粒子線)20が、基材100に照射される。 (もっと読む)


【課題】 ターゲットの大型化に伴い、ターゲットに大電力が投入されてもスプラッシュを抑制することができる有機EL素子の反射電極膜形成用銀合金ターゲットを提供することを課題とする。
【解決手段】 In:0.1〜1.5質量%とCa:0.005〜0.05質量%とを含み、残部がAgおよび不可避不純物からなる成分組成を有した銀合金ターゲットであって、該合金の結晶粒の平均粒径が120〜250μmであり、前記結晶粒の粒径のばらつきが、平均粒径の20%以下であることを特徴とする、有機EL素子の反射電極膜形成用銀合金ターゲットである。 (もっと読む)


【課題】金属または合金中を拡散する水素または重水素密度を高精度で計測することができる水素吸蔵金属または水素吸蔵合金の製造方法を提供する。
【解決手段】水素吸蔵金属または水素吸蔵合金を、真空中にて850℃以上1100℃以下の温度で、1時間以上99時間以下の条件で加熱する第1アニール処理と、該第1アニール処理が施された前記水素吸蔵金属または前記水素吸蔵合金を、水素雰囲気中に保持し、前記水素吸蔵金属または前記水素吸蔵合金中に水素を吸蔵させる水素吸蔵処理と、前記水素を吸蔵させた前記水素吸蔵金属または前記水素吸蔵合金を、真空中にて600℃以上900℃以下の温度で、1時間以上99時間以下の条件で加熱する第2アニール処理とを含む水素吸蔵金属または水素吸蔵合金の製造方法。 (もっと読む)


【課題】低価格で有害物質を含まず、耐溶着性と接触抵抗及び薄板への圧延加工性に優れた温度ヒューズ用の電極材料を提供する。
【解決手段】中心部に酸化物希薄層5とその両表層に酸化物2を集中させて密にした内部酸化性合金1とからなり、Agを80〜99wt%、Cuを20〜1wt%、さらにSnまたはInの少なくとも1種を0.1〜5wt%含む電極材料に、酸化温度が760°C以上でしかも24時間以上で内部酸化処理を行う。 (もっと読む)


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