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国際特許分類[C23C18/16]の内容

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【課題】 安価な材料を用いてケイ素系重合体の表面をメタライズ処理するための表面処理方法を提供することである。また同様に任意の材料からなる基体表面をメタライズあるいは配線などの金属層のパターンを形成する方法を提供することである。
【解決手段】 ケイ素系重合体を遷移金属塩溶液あるいは遷移金属塩の懸濁液と接触させ、その後、該ケイ素系重合体を還元剤に接触させることにより、該ケイ素重合体上あるいはケイ素重合体中に遷移金属の微粒子を形成させることを特徴とするケイ素系重合体の表面処理方法である。 (もっと読む)


【目的】 粉体塗装された成型品および一般塗装膜がコーティングされた成形品にメッキを可能にする。
【構成】 粉体塗装された成型品CMの粉体塗装膜面上にメッキする場合、該粉体塗装された成型品CMの粉体塗装膜面PP上に、該粉体塗装被膜に密着し、かつ無電解ニッケルに結合する腐食性のあるコーティング剤で新たに膜面PALを1層形成し、しかる後、該新たな膜面上に無電解ニッケル層NIを形成し、該無電解ニッケル層の上に金属の電解メッキを施す。 (もっと読む)


【課題】 断面SEM写真を用いた断面観察によるめっき皮膜状態の評価方法から、化学反応を利用した全く新しいめっき皮膜状態の評価方法に変更することによって、導電性粒子の全数検査を正確、簡便かつ短時間で行なうことが可能となるめっき皮膜評価方法を提供すること。
【解決手段】 pH7.0の超純水に、粒径0.1〜10μmのニッケル粒子を分散させた導電性粒子水溶液のpHがpH9.7となることを利用する。すなわち、pH7.0の超純水に耐食性の良いAu等の貴金属をめっきした導電性粒子を分散(第1工程s1)させ、その後に前記導電性粒子が分散した超純水のpH値を測定(第4工程s4)し、当該pH値から化学的判断(第5工程s5)を行なうことによって、導電性粒子のめっき皮膜状態の是非を評価する。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板の製造等に好適に用いることができるめっき用材料であり、該材料表面の表面粗度が小さい場合にも、該表面に形成した無電解めっき皮膜との接着性に優れ、また該表面全面に良好に無電解めっきを形成することが可能なめっき用材料と溶液、それを用いてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】無電解めっきを施す層Aを有し、且つ該層Aの表面粗さが、カットオフ値0.002mmで測定した算術平均粗さRaで0.5μm未満であり、且つ該層Aの90度引き剥がし粘着力が1.0N/25mm以下であり、且つ該層Aが特定の構造を有するポリイミド樹脂を含有することを特徴とするめっき用材料よって上記課題を解決しうる。 (もっと読む)


【課題】プリント配線板の製造等に好適に用いることができるめっき用材料であり、該材料表面の表面粗度が小さい場合にも、該表面に形成した無電解めっき皮膜との接着性に優れ、また該表面全面に良好に無電解めっきを形成することが可能なめっき用材料、該めっき用材料に用いるポリアミド酸溶液、ポリイミド樹脂溶液、及びこれらを用いてなるプリント配線板を提供する。
【解決手段】無電解めっきを施すための層Aを有し、且つ該層Aが特定の構造を有するポリイミド樹脂を含有し、且つ該層Aからなるシートの引張弾性率が1.8GPa以下であることを特徴とするめっき用材料よって上記課題を解決しうる。 (もっと読む)


【課題】 熱硬化性樹脂または熱可塑性樹脂を基材に用いた高精細且つ高周波用途に適した配線基板用フィルム基材を提供すること。
【解決手段】 ポリイミドまたは液晶ポリマー(LCP)からなる樹脂フィルム11と、樹脂フィルム11上に塗布された有機SOG溶液の塗布膜を硬化させたシロキサンポリマーを含むポリマー膜12と、ポリマー膜12を下地層としてNi−B無電解メッキ液に浸漬してメッキ処理により形成された金属膜13と、を有する配線基板用フィルム基材10。
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本発明は、絶縁性基体上への金属付着のための粘度調整可能な感光性分散液に関し、該感光性分散液は、光照射下に酸化−還元特性を与える顔料、金属塩、該金属塩の封鎖剤、液状膜形成性高分子配合物、塩基性化合物、有機溶媒および水を組み合せて含む。本発明はまた前記分散液の使用に関する。 (もっと読む)


【課題】 液晶ポリマー(LCP)を基材に用いた高精細且つ高周波用途に適した配線基板用フィルム基材の作製方法を提供すること。
【解決手段】 液晶ポリマー(LCP)からなる樹脂フィルム11表面をカーボファンクショナルシランを用いて活性化されたCFシラン被膜111を形成し、次いで、樹脂フィルム11上に無電解メッキ処理により金属膜12を形成し、続いて、温度200℃で30分間程度の加熱処理を行い、樹脂フィルム11と金属膜12との密着性を高めた配線基板用フィルム基材10を作製する。
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【課題】 プリント基板の製造プロセスを簡略化およびその製造コストの低減を可能とする技術を提供すること。
【解決手段】 プラスチックの基板611の上に、めっきシードとしての触媒金属を含有する有機または無機金属化合物を含む溶剤を塗布・乾燥させて金属化合物膜612を形成し、その所望領域に電子線などのエネルギ線613を照射して触媒金属を析出させる。当該照射領域への局所的なエネルギ線照射によりその照射領域のみで金属触媒析出の化学反応が生じ、触媒金属が局所的に析出してパターニングされた金属触媒膜614を得ることができる。また、エネルギ照射された基板611は、表面の溶融により触媒金属を極浅領域に取り込んだり、表面のアブレーションにより触媒金属と基板表面の接触面積が実効的に広くなったり、あるいは化学的改質により基板と触媒金属との結合状態が強固なものとなるので、固着程度が高まり金属触媒膜の剥離が生じ難くなる。 (もっと読む)


【課題】 屈曲可能で、寸法安定性、回路形成性、導体引き剥がし強度などに優れる金属めっき基板、それを用いてなるフレキシブルプリント配線板と多層プリント配線板を提供する。
【解決手段】 繊維基材に、硬化物の弾性率が500〜7000MPa(ASTM D−882に準じて測定)である接着剤組成物を含浸させてなる熱硬化型接着シートの少なくとも片面にめっき皮膜を形成し、該接着シートを加熱硬化させてなる金属めっき基板、この金属めっき基板を用いてなるフレキシブルプリント配線板、及び前記金属めっき基板を用いて得られた内層回路板に、回路を形成した各層を接着シートを介して一体的に接合してなる多層プリント配線板である。 (もっと読む)


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