【課題】治具のクランプ部材を内側起立隔壁の上端に近づけて配置可能として、内側起立隔壁間で処理されるワークの処理面積を拡大できる表面処理装置を提供する。
【解決手段】１対の溢出槽３０を各内側起立隔壁３２が搬送経路１２を挟み対面するようにして対向配設して下向流動液室１１Ｌ，１１Ｒと上向流動液室２１とを形成し、下向流動液室が上方側開口部１３から供給された処理液Ｑｓｐを下向きに連続流動可能でかつ上向流動液室が下方側から再供給された処理液Ｑｓｐを上向きに連続流動可能に形成する。一対の溢出槽３０は、下流側流動液室の上方側開口部に供給される処理液の液面を調整する一対の液面調整堰板３３Ｌ，３３Ｒを、各内側起立隔壁の上端部に有し、一対の液面調整堰板は、一対の液面調整堰板間の間隔が上方に向かうに従い増大するように拡開され、治具のクランプ部材８０の搬送高さ位置を一対の液面調整堰板間に配置した。 （もっと読む）

【課題】ラックを繰り返して長期間使用することが可能で、かつ、被めっき物内での膜厚分布を低減して良好なめっきを行うことが可能なラックめっき方法およびラックめっき装置を提供する。
【解決手段】被めっき物１を保持させたラック１１と、金属材料２を保持させたラック１２とをめっき液３に浸漬した状態で、前者をカソード、後者をアノードとして両者間に通電して、被めっき物にめっき処理を行い、被めっき物を保持させたラックに所定量以上のめっき金属が析出した時点で、被めっき物を保持させたラック１１を金属材料２を保持するためのラックとして転用し、転用したラック１１に金属材料２を保持させるとともに、被めっき物を別のラックに保持させ、被めっき物を保持させた別のラックと、金属材料を保持させた転用ラック１１とをめっき液に浸漬し、前者をカソード、後者をアノードとして両者間に通電することにより、被めっき物にめっき処理を行う。 （もっと読む）

【課題】陽極酸化により、基板表面に均一な凹凸を形成するナノ加工方法を提供する。
【解決手段】基板表面に形成されたマスク材皮膜を陽極酸化して、少なくとも底部の一部を残した孔を形成し、次に当該マスク皮膜を溶解する液中に浸漬して前記孔の底部を溶解除去して貫通孔とし、エッチング用マスクとする。また、陽極酸化用治具は、前記基板を表裏両面から挟む第一、第二電気絶縁板１，４と、前記基板表面の被酸化膜に接触する陽極酸化用電極２とからなり、前記基板表面に位置する第一電気絶縁板には、前記基板表面の所定箇所を陽極酸化液に暴露する窓部６が形成され、当該窓部による暴露部分の全周において前記電極が前記基板表面に電気的に接触される。さらに前記電極が被酸化膜と同質の金属材料からなる。 （もっと読む）

【課題】被メッキ体の凹部、又はパイプ内部は、メッキ液及びその他液に浸漬させた後、空中に引き上げると、凹部、又はパイプ内部に液が溜まってしまう為、液を除去する作業が必要であった。凹部、又はパイプ内部へのメッキ方法においては、保持方法により、メッキ液浸漬時に凹部に空気が溜まる為、メッキが析出しない。これらを解決できる冶具を得る。
【解決手段】中冶具が可動できるように構成された保持冶具とし、中冶具にフロートを取り付け、フロートの浮力・重力を利用することにより、前記液への浸漬時と空中で、中冶具を傾動させることで、中冶具に保持された被メッキ体の保持姿勢を変え、パイプ内部、及び凹部において、浸漬時は空気を溜めず、空中では液を溜めないことを特徴とした。中冶具を傾動させる為、動作範囲が小さく、且つ構成部品が少ない為、安価に製作できることを特徴とした冶具である。 （もっと読む）

【課題】板厚が３．０ｍｍ以上でアスペクト比が１０以上の、高板厚・高アスペクト比配線板に対しても、スルーホール内にめっき未着やめっき皮膜のざらつきの発生を抑制し、信頼性の高いめっき装置及びめっき方法を提供する。
【解決手段】貫通孔を有する板状の被めっき体２を垂直方向に保持するラック４と、このラックが浸漬されるめっき槽５と、このめっき槽内の被めっき体下方に配置されたエア吐出配管６と、前記ラックの駆動機構７とを備えるめっき装置１において、前記駆動機構が、前記ラックに垂直方向の振動１２を間欠的に与えつつ、前記ラックを前記被めっき体の表裏面側に交互に傾けるめっき装置及びこのめっき装置を用いためっき方法。 （もっと読む）

【課題】人手を要しなくても陰極棒の接触位置が変更されて円筒袋状ワークの表面に接点跡が残ることのないめっき処理用治具を提供する。
【解決手段】本発明に係る筒袋状ワークのめっき処理用治具１は、円筒袋状ワークＷの内方に差し入れられ円筒袋状ワークの軸心方向を回転軸として回転可能な陰電極２１を有し、陰電極は、円筒袋状ワークの内面に当接することにより円筒袋状ワークを保持して円筒袋状ワークを回転可能に形成され、かつ円筒袋状ワークを保持したときに円筒袋状ワークを常に陰極とするための接点部３４を有する。 （もっと読む）

【課題】人手を要しなくても陰極棒の接触位置が変更されて筒袋状ワークの表面に接点跡が残ることのないめっき処理用治具を提供する。
【解決手段】筒袋状ワークのめっき処理時に筒袋状ワークを保持するめっき処理用治具１は、仮に想定する仮想円筒ＣＣの外面８１の一部に接するように形成された当接面３２を備えた接点部３３を仮想円筒の軸心方向から見たときに周方向に異なる位置に複数有する陰電極部と、陰電極部を仮想円筒の軸心回りに回転させるための回転伝達装置と、を有し、複数の接点部は、保持対象である筒袋状ワークが隣り合う２つの接点部における当接面の間を通過しないように配されている。 （もっと読む）

【課題】メッキ液から引き上げられた基板に対する液垂れを防止することのできるメッキ用治具を提供する。
【解決手段】矩形の基板５０を着脱可能に保持して基板５０をメッキ液に浸漬する治具であるメッキ用治具１０は、基板５０の幅方向の両側辺５１，５２を保持する一対の縦部材２１，２２と、保持される基板５０の上辺５３よりも上部に設けられて縦部材２１，２２同士を連結する上部横部材２３と、を備えており、上部横部材２３の下側縁２３１が上に凸形状をなしている。 （もっと読む）

【課題】被メッキ材の加減速に対して、複数のメッキセルの負荷分担率及び使用優先順位を任意に設定して、均一目付を得ることが可能な電気メッキ電流制御方法を提供する。
【解決手段】各メッキセル１３毎に負荷分担率と使用優先順位を予め決定しておき、メッキラインをメッキ槽１４を含んだ同一長さの区分領域に分割し、また被メッキ材１１を区分領域と同一長さを有する分割区間に分割して、被メッキ材１１の進行と共に分割区間毎の積算通電量を常時トラッキングし、分割区間の先頭がメッキセル１３を通過して次段のメッキセル１３が存在する区分領域の入口に到達する毎に、目標目付量と積算通電量から換算した現状目付量との差を算出し、以降のメッキセル１３毎に決定された負荷分担率及び使用優先順位に基づいて、使用するメッキセル１３の電極１３ａの数と使用する電極１３ａに流す電極電流を再計算し、求めた電極電流を使用する電極１３ａに流す。 （もっと読む）

導電性基板をめっきするためのシステムが提供される。そのシステムは、第１の導電性側と第２の導電性側とを備える導電性基板を備え、前記導電性基板の前記第１の側がめっきされる。さらに、そのシステムは、導電性基板を基板ホルダーに結合し、それによって、基板ホルダーの第１の面が導電性基板の第２の側に面する、結合手段を備える基板ホルダーを備える。基板ホルダーはまた、基板ホルダーの第１の面に結合される弾性接触手段を備え、前記弾性接触手段は第１の外部電位に接続可能である。導電性基板の第２の側は、導電性基板の第２の側に曝露する絶縁体が設けられ、それによって、少なくとも１つの接触領域が設けられ、弾性接触手段は、前記少なくとも１つの接触領域において曝露された第２の側と接触する。このように、基板ホルダーもまた、提供される。 （もっと読む）