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国際特許分類[C25D5/10]の内容

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【課題】 高アスペスト比の微細配線であっても、シード層を確実に補強して、ボイドのない健全な配線を形成できるようにする。
【解決手段】 配線用の微細窪みを形成した基板の表面にシード層を形成し、シード層を第1のめっき液による無電解めっきによって補強し、しかる後、第2のめっき液によるパルスまたはPRパルスを用いた電解めっきによってシード層を更に補強し、第3のめっき液を用いて前記微細窪みの内部に電解めっきにより導電体を埋め込む。 (もっと読む)


【課題】 はんだ付け性の劣化、接着強度の低下、接触抵抗の増大を引き起こすことがない、端子部品の表面処理膜、及びその形成方法を提供すること。
【解決手段】 不活性雰囲気で、スズからなる第一のめっき膜と、厚さが50nm以下で、スズより卑な金属を含む第二のめっき膜を、端子部品表面に順次形成する。第二のめっき膜は、スズよりも卑な金属を含むので、第一のめっき膜よりも容易に酸化されるが、その酸化物層により下地の第一のめっき膜の酸化防止が可能で、はんだ付け性などが向上する。第二のめっき膜の酸化物層は薄いので、通常のフラックスの処理で支障なくはんだ付けができる。 (もっと読む)


本発明は、電気的接続のための部材上にSnリッチ堆積層を有する電子部品であって、Snリッチ堆積層が、堆積表面に対して平行な方向におけるサイズよりも堆積表面に対して垂直な方向におけるサイズの方が小さい粒子からなる微細粒Snリッチ堆積層である電子部品に関する。本発明はまた、電気的接続のための部材上にSnリッチ堆積層を形成するために電子部品をメッキするプロセスであって、開始添加物及び光輝性添加物が含まれているスズメッキ溶液の組成を調整するステップと、前記スズメッキ溶液中を通して前記電子部品を動かして、電気的接続のための前記部材上に前記Snリッチ堆積層を形成するステップと、を含むプロセスに関する。従来の技術と比較すると、本発明は、低コストで且つ信頼できる特性をもってウィスカ成長を有効に抑制することができる。
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【課題】鉛を含有しないスズめっき皮膜又はスズ合金めっき皮膜が形成された製品であって、ウィスカーの発生が長期間抑制され、しかも煩雑な工程を経ること無く比較的容易に製造可能な製品を提供する。
【解決手段】コバルト、銅、ビスマス、銀及びインジウムからなる群から選択される少なくとも一種の金属5重量%以下及びスズ95重量%以上からなるスズめっき皮膜又はスズ合金めっき皮膜によって形成された下層と、コバルト、銅、ビスマス、銀及びインジウムからなる群から選択される少なくとも一種の金属5重量%以下及びスズ95重量%以上からなるスズめっき皮膜又はスズ合金めっき皮膜によって形成された上層からなる二層構造のめっき皮膜からなる、ウィスカー成長が抑制されたスズ系めっき皮膜。 (もっと読む)


電磁波シールド材は透明基材11と、透明基材11の一方の面に接着剤13を介して設けられ開口部105を形成するライン部107を有するメッシュ状金属層21とを備えている。メッシュ状金属層21のライン部107の透明基材11側の面に、第1黒化層25Aと防錆層23Aとが順次設けられている。メッシュ状金属層21のライン部107の透明基材11と反対側の面およびライン部107の側面に、第2黒化層25Bが設けられている。 (もっと読む)


本発明は、基材、該基材上に被覆された中間金属層及びアルミニウム/マグネシウム合金を含有する、該中間層上に被覆された層を含む被覆された加工製品に関する。本発明は、この被覆された加工製品を製造する方法に関する。 (もっと読む)


本発明の実施形態は、基板表面に、通常はバリヤ層に銅シード層を堆積させる方法を教示している。その方法は、基板表面を銅溶液に入れるステップであって、該銅溶液が錯体形成銅イオンを含んでいる、前記ステップを含んでいる。電流又はバイアスを基板表面に印加し、錯体形成銅イオンを還元してバリヤ層に銅シード層を堆積させる。 (もっと読む)


【目的】不必要な部分にはめっきが施されていないとともに、外観品質の向上を図ることが可能な部分めっきの施された樹脂製品を提供する。
【構成】マークプレート2は樹脂製のマークプレート本体3とめっき層4とから構成される。マーク1の周面には断面略V字状の条溝5が環状に形成され、この条溝5よりも先端側に無電解めっき層6及び電気めっき層7からなるめっき層4が形成される。条溝5と、マークプレート本体3表面との境界部分の断面形状は、円弧状に形成されている。無電解めっきに際し、条溝5の底部5aにおいては、めっき溶液が到達せずめっきが施されない。電気めっきにおいては、不必要部分に形成された無電解めっき層6が溶解され、必要部分における無電解めっき層6の表面に電気めっき層7が形成される。上記の境界部分の断面形状が円弧状に形成されているため、この境界部分には、電気めっき層7が集中して堆積することがなく、見切り線が鮮明になる。 (もっと読む)


【目的】 本発明は、一部のNiアレルギー体質の人が携帯した際に、Niアレルギーによる かぶれ現象を防止する装飾部材を提供する。
【構成】 本発明は 合金素材の表面上に Cu、Co、Pd、Pd−Co、Sn−Zn等の下地メッキ層を被覆構成し、該表面上に AuーCo、AuーPd−Cu、Au−Cu等の金色仕上げメッキ層を 被覆積層したことを特徴とし、更に該金色の装飾部材表面に Pd−Co、Pd、Ptメッキ等の内の一種の白色メッキを部分選択的に 被覆積層し、金色と白色で二色に構成したことを特徴とする。
【効果】 Niを含有しない新規なメッキの構成により Niアレルギーを防止することができる。 (もっと読む)


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