説明

国際特許分類[C25D7/06]の内容

国際特許分類[C25D7/06]に分類される特許

11 - 20 / 441


【課題】CCLのエッチング工程における裾引きの発生を防止し、回路幅の均一な回路を形成できるフレキシブルプリント配線板用銅箔、その製造方法及びフレキシブルプリント配線板を提供する。
【解決手段】本発明に係るフレキシブルプリント配線板用銅箔は、銅箔の光沢面側にニッケル−コバルト合金めっき層が施されたフレキシブルプリント配線板用銅箔であり、ニッケル−コバルト合金めっき層の{011}面方位を有する結晶粒の占める面積の割合が、80%以上である。 (もっと読む)


【課題】伸線加工性及びゴム組成物との接着性に優れたゴム補強用金属線を提供する。
【解決手段】金属芯線と、芯線を覆うCu,Zn,Coを含む被覆層とを有し、被覆層の表面から半径方向の内部に深さ15nmまでの表層の組成が、Cu:60at%以上69at%未満、Co:0.5at%以上5.0at%以下であることを特徴とするゴム補強用金属線により上記課題が解決される。 (もっと読む)


【課題】 ワイヤ表面のめっきの成長速度を向上させることができるめっき装置を提供する。
【解決手段】 めっき液3内を走行するワイヤ4の表面にめっきを施すものであって、めっき液3を収容するめっき液槽5と、該めっき液槽5内に縦向きに配置される柱状体6と、めっき液槽5の内周面51と柱状体6の外周面61の間に形成されるリング状流路Xを縦方向に走行するワイヤ4に対して、リング状流路Xでめっき液3を流動させる流動機構9と、を備えるめっき装置。 (もっと読む)


【課題】レーザ溶接に適し且つ樹脂接着性が良好なレーザ加工用銅板を提供する。
【解決手段】このレーザ加工用銅板1は、一方の面2のレーザ光吸収性を改善するとともに他方の面3の樹脂接着性を改善するべく、銅板4の両面2、3に微細粒状突起2a、3aを形成してなる。一方の面2のL値は50以上75以下であり、微細粒状突起2aを構成する粒子の平均粒径は0.3μm以上3μm以下である。 (もっと読む)


【課題】導電性長繊維の繊維束を芯線とする被覆電線において、軽量で導電性に優れ、柔軟性に優れかつ繊維束の収束性が良好で端部のストリッピングされた部分でケバ立ちを生じにくい被覆電線を提供しようとする。
【課題を解決するための手段】導電性長繊維の繊維束を芯線とする被覆電線であって、前記導電性長繊維が、非金属線の表面に無電解メッキ層が形成されさらに該無電解メッキ層の表面に電解メッキ層が形成されてなり、前記芯線中で互いに隣接の導電性長繊維同士が前記電解メッキ層を形成する金属を介して部分的に結合された連接部を有し、前記繊維束の断面で観察される前記連接部で結合された導電性長繊維の平均本数が、前記繊維束を構成する導電性長繊維の総本数の10〜80%である被覆電線である。 (もっと読む)


【課題】従来市場に供給されてきた低プロファイル表面処理電解銅箔と同レベル以上の低プロファイルを有し、且つ、配線の直線性に影響を与えるうねりの小さな表面処理電解銅箔とその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】この目的を達成するため、絶縁層構成材との接着面の、うねりの最大高低差(Wmax)は0.05μm〜0.7μm、凹凸の最大高低差(PV)は0.05〜1.5μm、表面粗さ(Rzjis)は0.1μm〜1.0μmである表面処理電解銅箔とする。この表面処理電解銅箔の製造に用いる電解銅箔は、3−メルカプト−1−プロパンスルホン酸又はビス(3−スルホプロピル)ジスルフィドと環状構造を持つ4級アンモニウム塩重合体と塩素とを添加して得られた硫酸系銅電解液を用い、表面粗さの小さな陰極を用いて、連続する第1ステップ電解から第nステップ電解までを、異なる2水準以上の電流密度で実施する電解条件で製造する。 (もっと読む)


【課題】 微細配線への加工性を高めた銅めっき被膜を形成する銅電気めっき法の提供とこの銅電気めっき方法を銅めっき被膜の成膜に用いた金属化樹脂フィルムの提供を目的とする。
【解決手段】 銅めっき液に通電して銅めっき被膜を形成する銅電気めっき方法において、銅めっき液への通電時の電流密度を、銅めっき被膜の厚みが2.5μmになるまでは、0.5A/dm以下として銅めっきを行うと共に、銅めっき液は構成原子に硫黄原子を有する有機化合物を8重量ppm〜30重量ppm含むことを特徴とするものである。 (もっと読む)


【課題】Niストライクめっき後に電気亜鉛めっきを施した電気亜鉛めっき鋼帯に見られる表面外観不良(表面ムラ、色調バラツキ)を抑制する。
【解決手段】第1層の平均付着量が1〜30mg/m2のNiめっき層の上に、それぞれ1種以上のアミン化合物(例、ポリエチレンイミン)およびS含有官能基を持つ有機化合物(例、チオ尿素)からなり、付着量がこれらの有機化合物の総量で0.002mg/m2以上、1mg/m2以下である第2層と、95質量%以上のZnを含有する電気亜鉛めっき層からなる第3層と、場合により、クロムフリー被覆からなる第4層を形成する。最外層である電気亜鉛めっき層またはクロムフリー被覆層の表面の明度差の平均明度に対するバラツキが2%以下で、目視でムラが認められない美麗な外観を呈する。 (もっと読む)


【課題】大面積のグラフェンを低コストで生産可能なグラフェン製造用銅箔及びそれを用いたグラフェンの製造方法を提供する。
【解決手段】銅箔基材の表面に、厚み5μm未満の銅めっき層を設けてなり、水素を20体積%以上含有し残部アルゴンの雰囲気中で、1000℃で1時間加熱後の前記銅めっき層表面の圧延平行方向及び圧延直角方向の60度光沢度が共に300%以上である。 (もっと読む)


【課題】多数の突起を、切削後の突起の形状や大きさ(横断面積)にばらつきを生じさせることなく容易に切削して、安定しためっき品質を維持することができるドラム電極とその製造方法を提供する。
【解決手段】導電性が付与された多孔質長尺帯を、連続して電気めっきするめっき装置用のドラム電極であって、給電層、給電層の表面を被覆する絶縁層、および絶縁層の表面から突出し、かつ絶縁層を厚さ方向に貫通する貫通孔内に充填された金属により給電層と導通する金属製突起を有し、金属製突起が、所定の間隔で整列配置されているドラム電極。給電層及び給電層の表面を被覆する絶縁層を有するドラムの絶縁層内に、絶縁層を厚さ方向に、所定の間隔で貫通孔を形成する工程と、電気めっきにより、貫通孔に金属を充填すると共に、貫通孔の開口部に金属の突起を形成する工程とを備えているドラム電極の製造方法。 (もっと読む)


11 - 20 / 441