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国際特許分類[C25D7/06]の内容

国際特許分類[C25D7/06]に分類される特許

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【課題】電解槽のめっき液の流れを均一にし、スラッジ発生の多い電解液を使用する場合でも、電解槽内のスラッジ堆積を防止し、流速の影響を受けて、めっき品質の低下を生じさせない水平型流体支持めっき装置を提供する。
【解決手段】第1、第2の不溶性陽極12、13の間と第3、第4の不溶性陽極14、15の間に配置され、めっき液を供給するスリット37〜40をそれぞれ有する上静圧パッド16及び下静圧パッド17と、第1〜第4の不溶性陽極12〜15の入側及び出側に第1〜第4の不溶性陽極12〜15とは隙間を有して配置されてストリップ11を上下から挟持する第1、第2の上下対となる通電ロール21、23及びバックアップロール22、24とを有する水平型流体支持めっき装置10において、上静圧パッド16と下静圧パッド17に、ストリップ11と直交しその全幅に渡って直線状のスリット37〜40を少なくとも2本隙間を有して平行に配置した。 (もっと読む)


【課題】 生産性を損なわず、また、伸線加工性を劣化させることなく、Co塩を配合しないゴムとの接着性に優れ、かつ時間が経過しても接着強度の劣化が少ない、ゴムとの接着性に優れた極細めっき鋼線を提供する。
【解決手段】 線径が0.1〜0.4mmであり、表面に、平均厚さが50〜500nmであるめっき層を有し、該めっき層は、質量%で、Cu:65〜80%、Co:0.5〜5%、Mo:0.1〜5%を含有し、残部がZn及び不可避的不純物からなることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】竪型噴流メッキ装置の電極交換を簡単にできるようにし、電極交換に伴う設備停止期間を短縮して生産性の向上を図ることができる、竪型噴流メッキ装置の上部給液装置及び上部排液装置を提供する。
【解決手段】電極2が配置された電極ボックス1内に電解液を供給する給液装置を受液部とノズル部に分割し、受液部を電極ボックスへ連通させて取り付けるとともに、給液配管と接続して水密構造とし、受液部の内部に幅方向の液供給を均一化するノズル部を着脱自在かつ位置決め可能に配置した構造とする。さらに、電解液を排液する排液装置も給液ノズルと同様に、電極ボックス1から電解液を排液する給液装置を受液部5と整流堰部に分割し、受液部5を電極ボックスへ連通させて取り付けるとともに、排液配管19と接続して水密構造とし、受液部5の内部に整流堰部を着脱自在かつ位置決め可能に配置した構造とする。 (もっと読む)


【課題】 低粗度でありながら絶縁性樹脂基材と強固な引きはがし強さが得られ、吸湿処理後、活性処理液浸漬後に引きはがし強さの劣化率が小さく、活性処理液浸漬後にしみ込み量が少なく、エッチング性に優れた処理銅箔を提供すること。
【解決手段】 絶縁性樹脂基材に接着される処理銅箔面に粗化処理層、クロメート層及びシランカップリング剤層が順次設けられており、当該処理銅箔面の十点平均粗さRzが1.0μm〜2.7μmであり、かつ、局部山頂の平均間隔Sが0.0230mm以下(但し0は含まない)であることを特徴とする処理銅箔。 (もっと読む)


【課題】 生産性を損なわず、また、伸線加工性を劣化させることなく、Co塩を配合しないゴムとの接着性に優れ、かつ時間が経過しても接着強度の劣化が少ない、ゴムとの接着性に優れた極細めっき鋼線を提供する。
【解決手段】 極細鋼線の表面に複層めっきを設けた極細めっき鋼線であって、線径が0.1〜0.4mmであり、前記複層めっきは、前記鋼線の表面に設けた平均厚さ20〜500nmの被覆Cuめっきと、最表層に設けた平均厚さ10〜50nmの接着Cuめっきと、前記被覆Cuめっきと前記接着Cuめっきとの間に設けた拡散防止層とからなるゴムとの接着性に優れた極細めっき鋼線。拡散防止層は、平均厚さ2〜25nmのNiめっき、Coめっき、Crめっきのいずれか1種であることが好ましい。 (もっと読む)


【課題】低粗度でありながら絶縁性樹脂基材と強固な引きはがし強さが得られ、吸湿処理後、活性処理液浸漬後に引きはがし強さの劣化率が小さく、活性処理液浸漬後にしみ込み量が少なく、エッチング性に優れた処理銅箔を提供すること。
【解決手段】絶縁性樹脂基材に接着される処理銅箔1面に粗化処理層、クロメート層及びシランカップリング剤層が順次設けられており、当該処理銅箔1面の十点平均粗さRzが1.0μm〜2.7μmであり、かつ、当該処理銅箔1面177μm2の表面積を可視光限界波長408nmのバイオレットレーザーを使用して測定した前記粗化処理層を形成する粗化粒子2(局部山頂)の平均間隔S5が0.210μm以下(但し0は含まない)であることを特徴とする銅張積層板用処理銅箔。 (もっと読む)


【課題】高品質で均一な膜厚のめっき膜を得ることが可能であると共に、めっき効率を向上させ、省エネを図ることができるめっき装置、めっき方法およびチップ型電子部品の製造方法を提供すること。
【解決手段】素子本体10を収容する収容部24を持つキャリアプレート22と、キャリアプレート22と共に移動する搬送ベルト30と、キャリアプレート22の移動途中で、収容部24に、めっき液を供給するめっき液含浸ロール40と、収容部24に、めっき液が供給されている状態で、素子本体10におけるめっきすべき予定部分に直接または間接的に接続するアノード電極およびカソード電極とを有する。 (もっと読む)


【課題】 金属薄膜層付ポリイミドフィルム等の長尺導電性基板に電気めっき法により金属層を形成する際に、金属化ポリイミドフィルムとしてCOFでの実装に対応可能な優れた柔軟性を有する銅等の金属層を形成する方法を提供する。
【解決手段】 巻出ロール1から巻き出した金属薄膜層付ポリイミドフィルムFがめっき液4aへの浸漬を繰り返す毎に、第1給水ノズル8a、8b、8c、8dから給電ロール3a、3b、3c、3dに10℃〜32℃の水を供給する。また、電気めっきが完了して巻取ロール7に巻き取られる前の金属化ポリイミドフィルムSの電気めっきが施された面に、第2給水ノズル10から10℃〜32℃の水を供給する。 (もっと読む)


【課題】表裏両面が均一な形状で特にリチウムイオン二次電池のケイ素系活物質の特性を充分に発揮させて該二次電池の高容量と充放電の長寿命を同時に達成できる負極集電体用銅箔を提供し、該銅箔を用いた負極電極を提供することを課題とする。
【解決手段】無酸素銅からなる未処理圧延銅箔の表面にパルス陰極電解粗化処理で金属銅からなる第一粗化処理層が設けられ、該第一粗化処理層表面に平滑銅メッキ処理による第二銅メッキ層が設けられているリチウムイオン二次電池の負極集電体用銅箔、その製造方法である。 (もっと読む)


【課題】急冷処理過程に発生するクエンチステインを防止し、クエンチステインの発生をより減少させる電気めっき鋼板設備のクエンチタンクの温度制御方法を提供することを目的とする。
【解決手段】連続的に搬送される錫めっき鋼板11を電力によって錫の融点以上に所定時間加熱する工程と、加熱された錫めっき鋼板11を、調整バルブ33を介して流量制御される冷却水と熱交換器32で熱交換されて温度制御されているクエンチタンク12を通過させて急冷する工程とを有する電気めっき鋼板設備のクエンチタンクの温度制御方法において、錫めっき鋼板11によって搬入される熱量に対する、クエンチタンク12の温度が定常的に適正温度になる調整バルブ33の予測弁開度を予め求めておき、錫めっき鋼板11の通板条件が変わった場合には、直ちに錫めっき鋼板11が搬入される熱量に応じて、調整バルブ33の弁開度を、予測弁開度とする。 (もっと読む)


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