【課題】従来の遠赤外線ヒーターを利用した穀物乾燥機は、連続的に通電してヒーターを発熱し、遠赤外線を放射する構成であるから、消費電力が大きく、乾燥効率面で課題があった。更に、遠赤外線ヒーターを連続発熱すると、過度に穀物温度が上昇して、食味を害したり、品質低下をきたす課題があった。
【解決手段】この発明は、上記課題を解消するために、制御手段（３）に接続して、乾燥室（１）内に配置した遠赤外線ヒーター（２）に、予め設定した周期の下にＯＮ、ＯＦＦ制御を繰り返しながら乾燥熱源を発生させる構成とする。前記制御手段（３）は、穀物の張込量に応じて前記ＯＮ、ＯＦＦの周期を変更する構成とした遠赤外線穀物乾燥機としている。 （もっと読む）

【課題】基板に塗布されたペーストから溶剤成分を蒸発させる乾燥するに際して、大版の基板の基板端部と基板中央部との温度差を小さくして、基板の面内の蒸発速度を均一に乾燥し得る乾燥装置を提供する。
【解決手段】大版の基板２０に塗布された厚膜ペーストの塗布膜を乾燥する乾燥装置２５であって、加熱部２６とペーストが塗布された基板２０を搬送する搬送部２７とを備え、加熱部２６は複数の遠赤外線放射体のヒータユニットにより構成された基板２０の少なくとも上面と下面とに配置された上ヒータ３０と下ヒータ３１とを設けて、大版の基板２０を構成する複数の領域に、上ヒータ３０と下ヒータ３１の遠赤外線放射体からの遠赤外線放射強度を個別に制御して加熱乾燥する。 （もっと読む）

【課題】生ごみ処理機において、制御装置が壊れ乾燥ヒータの制御が不能で、常に通電状態となった場合に、温度過昇防止装置をより安全に動作させること。
【解決手段】生ごみ収容容器１０１内の温度を検知する乾燥センサ１１２の情報に基づいて、制御手段が、乾燥ヒータ１０３への供給電力を第１の供給電力範囲内で変更することで、生ごみ収容容器１０１内の温度を第１の温度範囲内に温度調整制御し、生ごみの加熱乾燥の進行に伴って第１の供給電力範囲内で第１の温度の温度範囲内に制御不能になると、制御手段は、第１の供給電力範囲を、第１の供給電力範囲よりも低い第２の供給電力範囲に切り換える構成とした。これにより、生ごみの加熱乾燥の進行に伴う生ごみ収納容器内の所定時間毎の温度上昇値（ΔＴ／Δｔ）を抑え、温度過昇防止装置の設定温度を低くすることができ、より安全に温度過昇防止装置を動作させる生ごみ処理機を提供できる。 （もっと読む）

【課題】 ガラス基板や半導体ウェーハの表面に厚膜を形成するのに好適な加熱装置を提供する。
【解決手段】 多段式の乾燥装置の構成として、各段にホットプレートを設けず、壁面にヒータを設けることで、基板を上下両面から加熱することができ、全体の高さを低くできる。また、各段にホットプレートを設け、このホットプレートの周囲に隙間を設け、この隙間から上部の排気口に排気を取ることで、基板の昇温スピードを緩やか且つ均一にすることができる。 （もっと読む）

【課題】 整流板の排気口側の温度変化が基板温度に与える影響を少なくすることで、基板の温度分布が均一な状態で、成膜溶液を乾燥させることができる基板乾燥装置等を提供することを課題とする。
【解決手段】 成膜材料を溶媒に溶解した成膜溶液が塗着された基板Ｗを減圧乾燥する基板乾燥装置３であって、基板Ｗを気密に収容可能な処理室１０１と、基板Ｗの直下に位置して、処理室１０１に開口した排気口１１３と、排気口１１３を介して、処理室１１３内の雰囲気を吸引する吸引手段１０２と、外縁が基板Ｗの外周からはみ出すようにして基板Ｗが載置され、基板Ｗの表面を流れる排気気流を整流する整流板１０４と、を備え、整流板１０４には、基板Ｗを加熱するヒータが組み込まれている。 （もっと読む）

【課題】乾燥ムラを発生させることのなく基材をフローティングさせることができる乾燥装置を提供する。
【解決手段】超音波駆動信号を出力する超音波発生器と、超音波駆動信号を入力して超音波振動を起こす超音波振動子と、超音波振動を伝達し超音波を放射する表面を有するとともにその表面が乾燥対象の基材の表面と平行となるように配置された超音波浮揚板と、基材を超音波浮揚板の表面と平行方向に搬送する搬送手段と、基材を加温する加熱手段とを具備するようにした乾燥装置。 （もっと読む）

【課題】ワークに設けられた液状材料の被膜から溶媒を除去する際、乾燥ムラを防止（または抑制）することができる溶媒除去装置および溶媒除去方法を提供する。
【解決手段】溶媒除去装置１は、液状材料の被膜３１が設けられたワークを支持するワーク支持手段と、前記ワークを加熱する加熱手段と、ガスを一時的に貯留する貯留室６６と、前記貯留室６６に連通する複数のノズルとを有するガス噴出手段と、前記貯留室６６にガスを供給するガス供給手段７とを備え、前記加熱手段により前記ワークを加熱しつつ、前記複数のノズルからガスを噴出し、前記被膜３１に対してガスを吹き付け、前記被膜３１から溶媒を除去するよう構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ワークに設けられた液状材料の被膜から溶媒を除去する際、ワークの表面の温度を略均一にすることができ、均一な膜厚の（平坦度の高い）膜を形成することができる溶媒除去装置および溶媒除去方法を提供する。
【解決手段】溶媒除去装置１は、液状材料の被膜３１が設けられたワークを支持するワーク支持手段と、前記ワークを加熱する加熱手段と、前記ワークを介して前記加熱手段と反対側に設けられ、前記被膜３１が設けられている部位の前記ワークの表面の温度が略均一になるように前記ワークを冷却および／または加熱して、前記ワークの温度分布を調整する温度均一化手段６とを備え、前記温度均一化手段６により前記被膜３１が設けられている部位の前記ワークの表面の温度を略均一にしつつ、前記加熱手段により前記ワークを加熱して、前記被膜３１から溶媒を除去することを特徴とする。 （もっと読む）

内部に発熱体を有する両面加熱式の矩形状のパネルヒーター４−１、４−２・・・４−ｎが複数枚、上下方向に所定の間隔を置いて多段に配置され、隣接する上下のパネルヒーター間の空間部が、矩形状の大型基板６を加熱・乾燥させるための乾燥室７−１、７−２・・・７−（ｎ−１）とされている。これら上下方向に多段に形成される複数の乾燥室の周囲を連ねて、上昇気流によるエアカーテンが形成されて、乾燥室内の水蒸気、溶剤蒸気等が、この上昇気流により吸引・排気されるようになっている。この大型基板用多段式加熱装置１によれば、大型基板の高い乾燥品質を保持しつつ、構造が簡単で、製作コスト、運転コスト等のコストを低減することができる。
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内部に発熱体を有する両面加熱式の矩形状のパネルヒーター４−１、４−２・・・４−ｎが複数枚、上下方向に所定の間隔を置いて多段に配置され、隣接する上下のパネルヒーター間の空間部が、大型基板６を加熱・乾燥させるための乾燥室７−１、７−２・・・７−（ｎ−１）とされている。矩形状の大型基板６は、板面の複数適所を複数本の支持ピン９によりそれぞれ支持されて、乾燥室内の所定高さ位置に保持され、上下方向に多段に形成される複数の乾燥室の周囲を囲んで、上昇熱気流が形成されている。この大型基板用多段式加熱装置１によれば、構造が簡単で、処理効率に優れ、製作コスト、運転コスト等のコストを低減することができ、大型基板の高い乾燥品質を保持することができる。
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