【課題】ランプヒータを熱源としているにもかかわらず、被加熱物を均一に加熱することができる加熱装置を提供する。
【解決手段】炉体２の内部に、ランプヒータ４によって被加熱物Ａを加熱処理する加熱室３を配置した。熱風供給手段５によって炉内２１に熱風を供給して、炉内２１を所定温度に昇温させることにより、被加熱物Ａの熱がコンベア６に伝導したり、加熱室３に流入した外気によって加熱室の温度が低下したりするのを抑制した。 （もっと読む）

【課題】印刷後の真空乾燥において膜中の残存溶媒量を制御する溶媒乾燥装置および方法を提供する。
【解決手段】インクジェット等の印刷工程後の溶媒乾燥工程において、試料１８０の面内の少なくとも２点の箇所に赤外線照射装置１６０から測定用の赤外線１５０を照射し、反射した測定用の赤外線１５０をディテクタ１７０にて受け、赤外吸収分光法により膜中の残存溶媒量をモニタリングし、検知信号に基づき前記計測箇所の残存溶媒量が同じになるように、制御回路２１０にて試料１８０を部分加熱する部分加熱装置２３０の出力を制御する。これにより、基板面内のデバイスの電気特性のばらつきを抑え、特性の均一化することができる。 （もっと読む）

【課題】棒型ヒーターの長手方向に関して被加熱物の均一な加熱が可能なヒーター装置を提供する。
【解決手段】通電により発熱する発熱線２４を備える棒型ヒーター２０と、複数通りの開口パターンをそれぞれ有する気流調整窓３２が棒型ヒーター２０の長手方向に沿って複数設けられた、棒型ヒーター２０の少なくとも一部を覆うカバー部材３０と、気流調整窓３２の開口３４を通じて棒型ヒーター２０に向けて気流を送る送風装置５０と、を有し、気流調整窓３２の開口パターンを複数通りにそれぞれ変化させることで、気流Ｆの流量が長手方向に沿って増減調整されることを特徴とするヒーター装置１０。 （もっと読む）

本発明は、底部および側壁を有する熱伝導性容器を準備するステップ、容器を粒子床により充填するステップ（床は粒子の多層を含み、１以上のアスペクト比を有する。）、粒子の最上層の上方に熱源を設けるステップ（熱源は床の最上層に向けられた表面を有し、この表面は少なくとも０．４の放射率係数を有する。）、容器に充填された粒子を減圧に付すステップ、容器の少なくとも底部および前記表面を加熱して粒子に熱を供給し、凍結液体が減圧下で昇華するのを支援するステップ、凍結液体が昇華した後、粒子への熱の供給を停止するステップを含む、医薬化合物を含有している凍結液体を含む粒子を凍結乾燥する方法に関する。本発明は、また、この方法を介して得られる少なくとも１つの粒子を含有している容器を含む医薬パックに関する。
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【課題】 装備する長尺管型紫外線ランプの発光管中央部がランプ点灯時に重力により垂れ下がる熱変形が起こるのを抑制する手段が、性能への影響を極力小さくする構成で備えられた空冷式紫外線照射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 ランプ発光管の管軸に垂直な面への投影図上で紫外線照射方向に直交し該発光管を介して対向する位置関係で配置される一対の発光管支持体によって該発光管中央部外表面を挟持する構成とした。該発光管支持体は、発光管外側面との接触面が凹面であり高耐熱性透光性材料から構成される発光管支持片と、該発光管支持片を穿貫してこれを固定し、自らは、通気孔を備え光源部と通気筒部とを隔てる隔壁に嵌挿され保持される、高耐熱性高熱伝導性金属材料から成る固定杭と、から構成される。 （もっと読む）

【課題】印刷により形成した膜中に含まれる溶媒量をモニタリングし、乾燥時間の終点の見極めをすることにより、膜中に含まれる残存溶媒量を高精度に制御した値にする。
【解決手段】金属からなる試料台１１や試料１８内に組み込まれた金属膜によって反射した赤外線１５をディテクタ１７で受けて信号変換し、該信号を演算処理部２０、制御部２１に入力する。演算処理部２０には、赤外吸収法により計測された有機膜１９の溶媒の赤外吸収量から見積られる残存溶媒量と溶質の赤外吸収量から、見積られる溶質量の値が入力され、これにより溶媒乾燥プロセスの終点見極め値を計測する。 （もっと読む）

【課題】ヒータの位置変更の際に操作者に掛かる負荷を軽減し、ヒータの位置変更を容易にすることができる塗料の乾燥装置を提供する。
【解決手段】塗料乾燥装置１はヒータ装置１０と支持装置２０とを備える。支持装置２０は、基台２１と、基台２１に垂直に立設された縦方向支柱２２と、ヒータ装置１０を保持する保持部３０とを備える。保持部３０は、縦方向支柱２２に沿って上下方向に摺動可能に取り付けられた移動固定部３１と、ヒータ装置１０を移動固定部３１に連結する横方向支柱３２と、ヒータ装置１０を上方に吊り上げる吊上げ部３３とを備える。吊上げ部３３の一端３３ａが横方向支柱３２に、吊上げ部３３の他端３３ｂが基台２１上に取り付けられており、ワイヤ部３４は縦方向支柱２２のプーリ２４に張架されている。吊上げ部３３の一端３３ａは、横方向支柱３２の支柱３２ｂの先端３６に取り付けられている。 （もっと読む）

【課題】被乾燥箇所の形状に合わせて複数個のヒータユニットの位置を変更して乾燥処理効率の向上を図った乾燥装置を提供すること。
【解決手段】ヒータハウジング９内にヒータランプ８が収容されたヒータユニット７Ａ、７Ｂを複数個備えた乾燥装置１において、複数個のヒータユニット７Ａ、７Ｂは、それぞれのヒータユニット７Ａ、７Ｂ間に回動自在な連結手段１４を介在させて鎖状に結合されているこの連結手段１４は、一対の第１、第２連結アーム１５ａ、１５ｂと、これらの連結アーム１５ａ、１５ｂの一端部を繋いで所定角度に調節可能な調節手段と、を有し、第１、第２連結アーム１５ａ、１５ｂの他端部が隣接するヒータユニット７Ａ、７Ｂにそれぞれ回転自在な固定手段で固定されている。 （もっと読む）

【課題】発熱線に通電して赤外線を放射する方式の赤外線ヒーター装置であって、被加熱物を均一に加熱可能であって、ランニングコストを抑えることのできるものを提供する。
【解決手段】発熱線に通電することにより赤外線が放射される棒型ヒーター２０と、前記放射された赤外線を反射する反射面３２を前記棒型ヒーター２０に対向して備える反射板３０と、を有する赤外線ヒーター装置１０において、前記反射面３２が、前記赤外線に対する反射率の比較的高い高反射領域と、前記反射率の比較的低い低反射領域とが面内にて組み合わされて構成されており、かつ、前記発熱線に通電した状態における前記棒型ヒーター２０の表面温度がより低い部分に対向して前記高反射領域が設けられ、前記表面温度がより高い部分に対向して前記低反射領域が設けられていることを特徴とする赤外線ヒーター装置１０。 （もっと読む）

【課題】被処理基板上に塗布された処理液の膜について、乾燥斑の発生を確実かつ容易に防止して塗布膜の膜質向上を効率よく実現すること。
【解決手段】上流側隣のレジスト塗布ユニットでレジスト液を塗布された基板Ｇは、加熱用浮上ステージ１０６上でそれまでの常温からそれよりも高い温度で加熱される。この基板裏側からの加熱によって、基板Ｇ上のレジスト塗布膜のバルク部における溶剤の液相拡散が促進される。一方、冷風ノズル１３０と吸い込み口１３２との間で、基板Ｇ上のレジスト塗布膜の表面が冷風Ａに曝される。これにより、レジスト塗布膜の表層部における溶剤の拡散、特に空中への気相拡散は抑制される。 （もっと読む）