【課題】容易に調整可能で焦点深度の深い、収差補正手段を備えた走査形荷電粒子顕微鏡を提供する。
【解決手段】複数開口をもつ絞りを使用することにより、収差の補正状態をSEM画像から判定して、収差補正手段の調整にフィードバックする。略輪帯形状の絞りを収差補正手段と併用する。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム装置で用いられる偏向校正を高精度で行う電子ビーム校正技術を提供する。
【解決手段】電子ビームの走査方向に対して格子の方向を水平方向になるように一次元回折格子を配置させ、かつ格子のピッチ寸法に一致するように電子ビーム走査を垂直方向に移動させながら水平に走査する。得られた二次電子信号像から、モアレ干渉縞の有無で電子ビームの走査に対する垂直方向の偏向校正が正しく行われているか判定できる。 （もっと読む）

本発明は、被検対象物（１）の材料界面を決定するための方法及び装置に関し、透過放射線を用いて、画像データの画像値を取得することによって被検対象物（１）の三次元画像データを生成するか、或いは取得して置いた画像データの画像値によって被検対象物（１）の三次元画像データを取得し、被検対象物（１）に対して相対的に、画像データを評価するための評価線（１７）を決定し、評価線（１７）の方向における画像値の第１の部分導関数の絶対値が材料界面の位置に極大値を有するように、この評価線に沿って存在する画像値を評価することによって、被検対象物（１）の材料界面の位置を決定するものである。
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【課題】２段電子線バイプリズム干渉計は１段での電子線バイプリズム干渉計に、飛躍的な自由度の増加を与える光学系であるが、フィラメント電極によって作られる電子線ホログラムの形状の１次元性、さらに干渉領域幅の方向と干渉縞の方位に関しては、１段電子線バイプリズム光学系と同じであった。すなわち、干渉領域幅はフィラメント電極の方向に一致してその長方向が定まり、干渉縞の方位は、干渉領域幅の長方向に一致かつ平行するのみであった。
【解決手段】上、中、下３段電子線バイプリズムを持った構造とするとともに、これら３段電子線バイプリズムのフィラメント電極間のアジムス角Φを操作することにより、干渉領域とその中に形成される干渉縞の方位角θを任意にコントロール可能とすることに加えて、フレネル縞発生の抑制と干渉縞間隔ｓと干渉縞の方位角θの独立したコントロールを可能とする。 （もっと読む）

【課題】 基板の欠陥を高感度で検出する。
【解決手段】 二次電子ビームの焦点面に、検査対象部位に応じた形状およびサイズの複数の開口絞りが設けられた可動絞り板８１を設置し、任意の検査対象部位から高い二次電子放出比で放出される二次電子ビームが可動絞り板８１を通過してＭＣＰ検出器３１の検出面で結像するように絞り８１Ｂα〜８１Ｂγ，８１Ｄα〜８１Ｄγを選択する。 （もっと読む）

【課題】 物理量測定結果をそれに対応するＸ線画像と関連付けた測定結果の把握容易な表示を行なうことができるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線源２と、Ｘ線検出部４と、データ処理部６と、表示部２０とを備えたＸ線検査装置において、Ｘ線検出部４からの検出情報のうち一部を抽出して少なくともＸ線画像の背景に相当する部分を除いた物理量測定領域のＸ線画像をデータ処理部６のＸ線画像生成部１１に生成させる領域抽出処理部８と、この領域抽出処理部８で抽出された検出情報に基づいてワークＷの大きさ又は質量に対応する物理量を算出する質量算出部１３と、物理量測定領域のＸ線画像と質量算出部１３で算出された物理量を示すグラフ表示要素とを関連付けて表示部２０に表示させる表示データ生成部１５とを設ける。 （もっと読む）

【課題】 ワークを検査しながらのゼロ点補正を可能にし、温度ドリフト等による精度のばらつきを低減させることのできるＸ線検査装置を提供する。
【解決手段】 Ｘ線画像に基づいてワークの体積を測定するＸ線検査装置であって、その処理ユニット６が、各透過領域のＸ線画像濃度データから透過領域の等価厚画像の濃度データへの変換処理を施すデータ変換処理部６２と、等価厚画像の濃度データに基づいて複数の透過領域におけるワークの体積を測定する体積測定部６３と、Ｘ線透過量相当のデータを処理して、ワークにＸ線が照射されるときの背景の等価厚をゼロとするようＸ線画像濃度データをゼロ点補正するゼロ点補正部６１とを含み、ゼロ点補正部６１が、ワークの体積を測定する周期に応じてゼロ点補正を実行する。 （もっと読む）

【課題】
真円ではないホール形状に対しても最適な近似曲線を求めてラフネスの評価を容易に行うことのできるホールラフネス計測方法および装置を提供する。
【解決手段】
被測定物に形成されたホールにエネルギー線を照射して被測定物から発生する反射エネルギーを検出することによってホールの中心から放射状にエッジを検出し、検出したエッジについてのエッジ座標をθ−ｒ平面に変換し、θ−ｒ平面でフーリエ変換して周波数成分を求め、周波数成分に基づいてθ−ｒ平面でのホールの近似ホールの近似曲線を形成し、該近似曲線を検出したエッジ座標との差からホールラフネスを計測する。 （もっと読む）

【課題】強度としては弱いものの、物質透過性が高い水平ミュオンを用いて精度よく大型構造物の内部構造情報を得る方法を提供する。
【解決手段】大型構造物の測定対象部に対向する側方の有限間隔位置に位置敏感検出手段を配置し、位置敏感検出手段は、第１検出板と第２検出板とをもつ位置敏感検出器複合体を２基有し、前記位置敏感検出器複合体の間に鉄部材を配設し、前記測定対象部を貫通して第１位置敏感検出器複合体に到達する前方水平ミュオンが第２位置敏感検出器複合体に到達する際に、それぞれの到達位置をつないだ直線を逆にたどることで、前方水平ミュオンが貫通する前記測定対象部内の経路が特定され、前方水平ミュオンの強度と、第２位置敏感検出器複合体および金属部材を順次貫通して第１位置敏感検出器複合体に到達する後方水平ミュオンの強度の双方を同じ位置敏感検出手段で測定し、前方および後方水平ミュオンの強度比から大型構造物の内部構造情報を得ることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子ビーム描画装置のビーム位置補正を精度良く行う方法を実現する。
【解決手段】 メトロロジー測定を複数のマーク位置について正順および逆順でそれぞれ行ってマーク位置ごとの位置誤差とピッチング値またはヨーイング値を互いに垂直な２軸方向において求め（１０１）、位置誤差とピッチング値またはヨーイング値について正順と逆順の差をマーク位置ごとに互いに垂直な２軸方向において求め（１０１）、アッベエラーによるマーク位置ごとのビーム位置補正効果を予め仮定された複数のアッベエラーについてそれぞれシミュレーションして、位置誤差の正順と逆順の差が複数のマーク位置を通じて互いに垂直な２軸方向においてそれぞれ最小となる２種類のアッベエラーを互いに垂直な２軸方向のアッベエラーとしてそれぞれ特定し（１０３）、それらアッベエラーを用いてビーム位置を補正する（１０４）。 （もっと読む）