【課題】表示パネル、第１センサ、発光ユニット、第２センサ及び制御部を含む液晶表示装置を提供する。
【解決手段】液晶表示装置は、第１センサは表示パネルに形成されて、外部から入射する入力光を感知し、第２センサは表示パネルまたは発光ユニットに形成されて、発光ユニットから出力する出力光を感知し、制御部は第１センサで感知した入力光を分析した後、この分析した結果に対応する出力光が発生するように発光ユニットを制御する。 （もっと読む）

【課題】材料の利用効率を向上させ、かつ、作製工程を簡略化して、信頼性の高い半導体装置を作製する方法を提供する。
【解決手段】基板上に導電層を形成し、該導電層上に光透過層を形成し、該光透過層上からフェムト秒レーザを照射して、該導電層及び該光透過層を選択的に除去する工程を有する。なお、該導電層の端部は、該光透過層の端部より内側に配置されるように該導電層及び該光透過層を除去されていてもよい。また、フェムト秒レーザを照射する前に、該光透過層表面に撥液処理を行ってもよい。 （もっと読む）

【課題】本発明は、結晶粒径が小さく、かつ等間隔で格子状に整列した結晶粒を有する半導体薄膜、薄膜トランジスタ、それらの製造方法、及び半導体薄膜の製造装置を得ることを目的とする。
【解決手段】本発明にかかる半導体薄膜は、非晶質の半導体薄膜にレーザー光１２を照射することにより多結晶化されたものである。そして、本発明にかかる半導体薄膜は、結晶粒６が格子状に整列している。また、結晶粒６の大きさは、レーザー光１２の発振波長の略半分となっている。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、光センサをパネル基板に組み込む際に、光センサから導出され
る出力が周辺回路の影響を受けないようにしてセンサ感度をよくした液晶表示装置を提供
すること。
【解決手段】ＴＦＴ基板２と共通電極１２及びカラーフィルタ並びにブラックマトリクス
１１を有するＣＦ基板１０との間に液晶層が形成された液晶表示パネルと、ＴＦＴ光セン
サを有する光検知部ＬＳとを備え、ＴＦＴ基板２上に、光検知部ＬＳ、この光検知部ＬＳ
へ電源を供給する電源線Ｌ及び光検知部ＬＳからの出力を導出する出力線Ｌ_０を設け、Ｃ
Ｆ基板１０は、アクティブマトリクス基板２に配設した出力線Ｌ_０の真上部分に共通電極
１２及びブラックマトリクス１１を除去した除去領域Ｓが形成されている。 （もっと読む）

ガラス基板のシリコン層をアニールする細いビームの指向性結晶化システムにおいて、１つのエッジにおける強度ピークを有する特定のレーザビームプロファイルが用いられる。そのシステムは、横方向結晶成長をもたらすシリコン層の空間的に制御される部分の全部を融解する。基板又はレーザを特定のステップサイズだけ進めて、シリコン層をレーザによる連続的な“ショット”の影響下に置くことにより、シリコン層全体が結晶化される。横方向結晶成長は、再融解される必要がある融解領域の中央において凸部を生成する。従って、ステップサイズは、凸部の融解を確実にするように、連続するショット間の、即ち、融解ゾーンの十分な重なりを可能にする必要がある。これは、ビーム幅の半分より小さいステップサイズを必要とする。本発明のシステム及び方法に従って用いられる特定のレーザプロファイルは、ステップサイズを増加し、それにより、スループットを高め、且つコストを低減する。
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【課題】比較的簡単な工程により、粒径の大きな多結晶半導体からチャンネル領域を形成できる、ボトムゲート型薄膜トランジスタの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明による薄膜トランジスタの製造方法では、まず、基板上にゲート電極を形成し、ゲート絶縁膜でゲート電極を覆う。次に、ゲート絶縁膜の上に非晶質半導体層を形成し、パターニングによってゲート電極の上に非晶質チャンネル領域を形成する。続いて、非晶質チャンネル領域をレーザにより溶融させ、その溶融部分の中央を薄くし、周辺を厚くする。それにより、非晶質チャンネル領域の中央部から両端部に向けて結晶粒を横方向成長させて多結晶チャンネル領域を形成する。 （もっと読む）

【課題】複数の細線状構造物を特定の配向方向で会合させる方法、および、その利用方法を提供する。
【解決手段】複数のＳｉナノワイヤ４が会合してなるＳｉナノワイヤ集合体４０の製造方法であって、基板１上に、Ｓｉナノワイヤ４を分散させた分散液パターン３０を形成するパターン形成工程と、分散液３を乾燥させることにより、分散液パターン３０上の一部に、複数のＳｉナノワイヤ４を析出させる乾燥工程とを有し、乾燥工程では、Ｓｉナノワイヤ４を、所定の方向に配向させながら会合させる。 （もっと読む）

【課題】ドライバＩＣと走査線および信号線との間での抵抗値差を抑制したＬＣＤモジュールを提供する。
【解決手段】ドライバＩＣ23a，23bの出力側に電気的に接続した抵抗部26の抵抗26a，26bの抵抗値分布を、ゲート線および信号線に電気的に接続した配線部の接続配線の抵抗値分布を吸収補正するように設定する。各抵抗26a，26bと各接続配線との接続により、ドライバＩＣ23a，23bとゲート線および信号線との間での抵抗値差を抑制できる。 （もっと読む）

【課題】アクティブマトリクス装置の装置及び回路がＥＳＤにより損壊されることを防ぐＥＳＤ保護機能を有するアクティブマトリクス装置を提供する。
【解決手段】アクティブマトリクス装置２００’は、活性領域及びＥＳＤ保護回路２２０’を備える。活性領域は、複数の走査線ＳＬ及び複数のデータ線ＤＬを有する。ＥＳＤ保護回路２２０’は、第１の電源線２２１、第２の電源線２２２、第１のダイオード２２３及び第２のダイオード２２４を備える。第１のダイオード２２３は、走査線ＳＬ／データ線ＤＬと第１の電源線２２１との間に電気的に接続され、第２のダイオード２２４は、第２の電源線２２２と走査線ＳＬ／データ線ＤＬとの間に電気的に接続される。正又は負のＥＳＤ電圧が走査線ＳＬ又はデータ線ＤＬに印加されると、ＥＳＤ電流が第１のダイオード２２３又は第２のダイオード２２４を介し、第１の電源線２２１又は第２の電源線２２２に流される。 （もっと読む）

【課題】高Ｓ／Ｎ比で高速な光信号の読出しが可能な光センサ回路を備え、外乱光の影響が小さく、誤認識の少ないタッチパネル機能を有する画像表示装置を提供する。
【解決手段】薄膜トランジスタを有する表示画素がマトリクス状に配列された表示部と、表示部内に複数の光検知画素とを具備する画像表示装置において、観測光を受ける第一の光検知素子と、観測光を受けない第二の光検知素子を電気的に接続し、その接続点における電位の変調を信号電圧として出力する光検知画素において、青のカラーフィルタと第一の光検知画素をオーバーラップさせ、緑または赤のカラーフィルタと第二の光検知画素をオーバーラップさせる構成とする。 （もっと読む）