【課題】グレートーンマスク作製時にＣＤ（線幅）変動を低減できるグレートーンマスクブランク及びグレートーンマスクを提供する。
【解決手段】被転写体に対する露光光の照射量を部位によって選択的に低減し、被転写体上のフォトレジストに、残膜値の異なる部分を含む所望の転写パターンを形成するグレートーンマスクの製造に用いるためのグレートーンマスクブランクであって、透明基板上に半透光膜と遮光膜とをこの順に有し、該半透光膜と遮光膜にそれぞれ所定のパターニングを施して、遮光部、透光部、半透光部を形成し、グレートーンマスクとする。遮光膜は、膜厚方向に組成が変化しており、パターニングの際に用いる描画光に対する表面反射率が低減されており、半透光膜は、パターニングの際に用いる描画光に対する表面反射率が、面内において45％を越えないように調整されている。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子ビームを用いたフォトマスク欠陥修正において、孤立パターンのチャージアップを、パターンを傷つけることなく、効率よく抑止する。
【解決手段】 導電性プローブ1の先端に集束イオンビーム誘起化学気相成長金属膜で導電性のコイルバネ3を形成し、コイルバネ3によりマスクパターンとの接触圧を緩和して孤立したパターン4との導通を取り、チャージアップが起こらないようにしてから集束イオンビーム7で欠陥修正を行う。適切なバネ定数になるように、供給する原料ガス圧やビーム電流や走査方向・速度を制御して集束イオンビーム誘起化学気相成長で作製するコイルバネ3の太さ及び半径を制御する。 （もっと読む）

【課題】比較的高温でも保存安定性が良好なアルカリ型非イオン性界面活性剤組成物、およびそれを含む硬質表面用洗浄剤、それを用いて行われる硬質表面の洗浄方法並びに基板の製造方法、非イオン性界面活性剤含有アルカリ性組成物の保存方法等を提供する。
【解決手段】非イオン性界面活性剤（成分Ａ）と、水（成分Ｂ）と、ベンゼンスルホン酸、トルエンスルホン酸、ジメチルベンゼンスルホン酸、ヒドロキシベンゼンスルホン酸およびこれらの塩からなる群から選ばれる一種以上の化合物（成分Ｃ）と、水酸化カリウム及び水酸化ナトリウムからなる群より選ばれる一種以上のアルカリ剤（成分Ｄ）と、を含有し、前記非イオン性界面活性剤（成分Ａ）の含有量が、０．５〜２０重量％であり、２５℃におけるｐＨが９以上である、アルカリ型非イオン性界面活性剤組成物。 （もっと読む）

【課題】マスク使用時のハンドリング中に起こり得るパターンの静電破壊の発生を抑制できるフォトマスクを提供する。
【解決手段】被転写体上に所望の転写パターンを形成するためのマスクパターンを透明基板２４上に有するフォトマスク（例えばグレートーンマスク）であって、各マスクパターン１０ａ，１０ｂ，１０ｃ・・・を縦横それぞれ複数本の細線状の分離パターン１２で所定のサイズ以下の領域１０１ａ，１０２ａ，１０３ａ，・・・，１０１ｂ．１０２ｂ，・・・，１０１ｃ，１０２ｃ，・・・に分離する。かかる細線状の分離パターン１２は、透光部、または絶縁性の半透光部により形成される。 （もっと読む）

【課題】半導体素子等の製造プロセスにおいて、フォトマスクを用いた複数の露光工程でそれぞれ形成されるパターン間のずれを抑制する。
【解決手段】フォトマスク６０を、デュアルダマシン配線構造のトレンチ及びその内側に配置されるコンタクトホールそれぞれのパターニングに共用可能とする。フォトマスク６０は、第１遮光層６４及び第２遮光層６６を積層される。第１遮光層６４は、第１照射光に対して遮光性を有すると共に、トレンチに対応した開口部６８を有する。第２遮光層６６は、第２照射光に対して遮光性を有し、かつ第１照射光に対して透過性を有すると共に、コンタクトホールに対応した開口部７０を有する。フォトマスク６０に第１照射光を照射すれば、トレンチのパターンを露光でき、第２照射光を照射すればコンタクトホールのパターンを露光できる。 （もっと読む）

【課題】電極パターンを形成するためのフォトマスクを大型化することなく、大型の表示パネルにおける電極パターンを良好に形成できるようにする。
【解決手段】表示パネルの基板上に形成される電極パターンを該電極パターンが延びる方向に沿って複数の分割パターンに分割し、該分割パターンの露光時だけ露光される露光パターンが形成された非重ね露光部と、隣接する分割パターンの一部と重ね合わされる露光パターンが形成された重ね露光部とを有し、重ね露光部における露光パターンが非重ね露光部における露光パターンよりも低い透過率のフォトマスクを用いて多重露光することで、形成される電極パターンにおける線幅の変動を抑制し、良好な電極パターンを形成できるようにする。 （もっと読む）

【目的】素子間でのばらつきに起因する測定データの誤差を抑制する検査装置及び方法を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の検査装置１００は、被検査試料を載置するＸＹθテーブル１０２と、ＸＹθテーブル１０２と相対的に移動する第１の方向と直交する第２の方向に並ぶ複数の受光素子を有し、これら複数の受光素子を用いて被検査試料の光学画像を撮像するラインセンサ１０５と、第２の方向に画素単位でずらした位置でラインセンサ１０５によって重複して撮像された各画素データを画素毎に累積する累積部１３２と、画素毎に累積された画素データと所定の参照データとを比較する比較部１３９と、を備えたことを特徴とする。本発明によれば、異なる受光素子で撮像された画素データが画素毎に累積されるので素子間の特性のばらつきを平均化することができる。 （もっと読む）

【課題】マスクブランクを用いて高精度の微細パターンが形成されたインプリント用モールドの製造方法を提供する。
【解決手段】透光性基板上にパターンを形成するための薄膜を有するマスクブランクにおいて、薄膜は、Ｃｒと酸素を含む材料で形成されている上層と、Ｔａまたはその化合物を含み、且つ、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工が可能な材料で形成されている下層とからなる。薄膜の上層を、酸素を実質的に含まない塩素系ガスを用いたドライエッチング処理によりエッチング加工し、続いて薄膜の下層及び基板を、弗素系ガスを用いたドライエッチング処理により一度にエッチング加工することによりインプリント用モールドを得る。 （もっと読む）

【課題】本発明は、パターンの形状にかかわらず寸法変換差予測の精度を向上させることができる寸法変換差予測方法、フォトマスクの製造方法、電子部品の製造方法、および寸法変換差予測プログラムを提供する。
【解決手段】変換差予測点における開口角を設計パターンデータに基づいて求め、前記開口角と寸法変換差の実測値との相関関係に基づいて寸法変換差を予測すること、を特徴とする寸法変換差予測方法、または、変換差予測点における入射物の入射量を設計データに基づいて求め、前記入射量と寸法変換差の実測値との相関関係に基づいて寸法変換差を予測すること、を特徴とする寸法変換差予測方法が提供される。 （もっと読む）

【課題】孤立パターンの焦点深度を十分に得られる露光用マスク及びパターン形成方法を提供する。
【解決手段】マスク１０は、露光工程に用いられ、ウエハ上に回折光の生じない寸法７０ｎｍの孤立パターンを形成するためのハーフトーン位相シフトマスクであって、ホールパターン１と、補助パターン２ａ，２ｂと、ハーフトーン領域３と、遮光領域４ａ，４ｂとを備える。ホールパターン１は、正方形であり、露光光の限界解像度以上の寸法を有する。補助パターン２ａ，２ｂは、ホールパターン１を取り囲むように配置された８角形の形状であって、露光光の限界解像度未満の寸法を有する。ハーフトーン領域３は、透過率１２％であり、ホールパターン１と補助パターン２ａの間に配置されている。遮光領域４ａは、補助パターン２ａ，２ｂ間に配置されている。遮光領域４ｂは、補助パターン２ｂの外周に配置されている。 （もっと読む）