【課題】液浸リソグラフィ装置の屈折率が高い炭化水素を含む液浸流体に適した、流体ハンドリングデバイスを提供する。
【解決手段】流体ハンドリングデバイスは、流体用の空間を囲む表面がある少なくとも１つの本体１２と、流体が自身を通って流れるために表面内に画定された複数の開口１４０と、複数の開口１４０のうち選択された開口１４０を通る流体の流れを選択的に許可又は防止するために複数の開口１４０に対して移動可能な少なくとも１つのバリア１７０と、を備える。 （もっと読む）

【課題】電気光学結晶材料から成る複数の光変調素子により生成されるパターンと被露光体の露光位置との位置合わせ精度を向上する。
【解決手段】上面に被露光体７を載置して一定方向に搬送する搬送手段１と、被露光体７の搬送方向と交差する方向に電気光学結晶材料から成る複数の光変調素子９を所定の配列ピッチで少なくとも一列に並べて有する空間光変調手段３と、各光変調素子９から射出する光の上記搬送方向の幅を所定幅に制限する光ビーム整形手段４と、各光変調素子９を個別に駆動して空間光変調手段３の透過光をオン・オフ制御し、所定のパターンを生成させる制御手段６と、を備え、各光変調素子９は、その光軸に直交する横断面形状が被露光体７の搬送方向に長い略長方形状に形成されると共に、上記搬送方向に平行な軸に対して所定角度だけ傾けて形成され、制御手段６は、光ビーム整形手段４を上記搬送方向に移動させるものである。 （もっと読む）

【課題】一括して処理される複数のパターンに対するプロセス条件の余裕範囲を算出できるようにする。
【解決手段】差分算出部１７ａは、複数のパターンの寸法の目標値と、複数のパターンを一括して生成するプロセス後の寸法の実測値との差分を算出し、寸法バラツキ算出部１７ｃは、差分算出部１７ａにて算出された各パターンの寸法の目標値と実測値との差分の算出結果に基づいて、プロセス条件が変化された時の各パターンの寸法バラツキを算出し、プロセス余裕範囲算出部１７ｄは、寸法バラツキ算出部１７ｃにて算出された各パターンの寸法バラツキの算出結果に基づいて、複数のパターンについてのプロセス余裕範囲を算出する。 （もっと読む）

【課題】 照射領域変更などの理由でハエの目レンズを交換する場合にハエの目レンズ固有の照度むらを補正し、照度むら調整のダウンタイムを無くし、生産性を向上させる照明光学装置を提供する。
【解決手段】 光源からの光を照明光学系に入射し、該照明光学系からの照明光により被照射面を照射する照明光学装置であって、複数のハエの目レンズと、光路内において前記ハエの目レンズを他のハエの目レンズに交換するハエの目レンズ交換手段と、前記複数のハエの目レンズと同数の、照射範囲を規定するスリットと、光路内において前記スリットを他のスリットに交換するスリット交換手段と、を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 走査露光にかかるスループットの向上を達成する。
【解決手段】 本発明の態様にかかる露光装置は、投影光学系（ＰＬ）と、感光性を有する基板（Ｐ）を保持して移動する第１ステージ機構（ＰＳ）と、パターンを有する物体（Ｍ）を保持して移動する第２ステージ機構（ＭＳ）と、を備える。投影光学系は、物体上の照明領域（ＩＲ）と光学的に共役な第１結像領域（ＥＲ１）を基板上に形成するとともに、照明領域と光学的に共役な第２結像領域（ＥＲ２）を第１結像領域から所定方向（Ｙ方向）に間隔を隔てて基板上に形成する。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを使用して近接露光する際に、隣り合う被露光領域での繋ぎムラの発生を防止することができる近接スキャン露光装置及び近接スキャン露光方法を提供する。
【解決手段】近接スキャン露光装置１は、搬送される基板Ｗに対して複数のマスクＭを介して露光用光ＥＬを照射して、基板Ｗに各マスクＭのパターンを露光し、搬送方向と直交する方向に並ぶ複数の被露光領域を形成する。該露光装置１は、直交方向で隣り合う被露光領域を露光する各マスクと基板との各ギャップの少なくとも一方をリアルタイムに変化させるギャップ変更手段を備える。 （もっと読む）

【課題】 像高に依存する高次の瞳内非対称収差を効率良く補正することが可能な投影光学系を提供すること。
【解決手段】 第１物体１５の像を第２物体１７に投影する投影光学系１６は、複数の光学素子と、変形手段と、制御部１１１と、を有する。変形手段は、複数の光学素子のうち所定の条件式を満たす変形光学素子ＬＥに力を加えることで、変形光学素子ＬＥを変形する。制御部１１１は、変形手段を制御する。変形光学素子ＬＥの外周部のｎ箇所２０３は、固定されている。変形手段は、ｎ個のアクチュエータ２０１を含む。ｎ個のアクチュエータ２０１は、固定されているｎ箇所２０３とは異なる外周部の他のｎ箇所に力を加える。制御部１１１は、ｎ個のアクチュエータ２０１のそれぞれを独立に制御する。 （もっと読む）

【課題】基板の近くから液体を効果的に除去し、振動および他の外乱を起こさない装置を提供すること。
【解決手段】不均一な流れを均一にするために、浸漬リソグラフィ投影装置の液体除去システムで、多孔性部材を使用する。多孔性部材の両端の圧力差は、多孔性部材の泡立ち点以下に維持することができ、そのため一相の液体の流れを得ることができる。これに代えて、多孔性部材を、二相流内の不均一を低減するために使用することもできる。 （もっと読む）

【課題】反りの大きなワークであっても、真空吸着ができるようなシール用弾性体を備えたワークステージ、及びそのワークステージを備えた露光装置を提供する。
【解決手段】真空吸着孔５４が形成され、ワーク７を吸着して保持するワーク吸着部５１と、ワーク吸着部５１の周縁に環状に設けられたシール用弾性体５３とを備えたワークステージにおいて、シール用弾性体５３は、内側に開いた第１のリップシール５３１１と、第１のリップシール５３１１の外側に設けられ外側に開いた第２のリップシール５３１２とを備え、第１のリップシール５３１１と第２のリップシール５３１２との間に真空供給孔５３２が設けらていることを特徴とするワークステージである。 （もっと読む）

【課題】スループットを良好に維持できる光学素子、露光装置、及びこれらを用いたデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に各層の層厚の比率が一定になるように複数層積層され、極端紫外線及び軟Ｘ線の少なくとも一方を含む露光光を反射する反射領域を有し、当該反射領域で反射される前記露光光の入射角の分布に応じて前記反射領域内に前記層厚の分布が形成された多層膜とを備える。 （もっと読む）