【課題】より適正なリフォーカス量を決定する。
【解決手段】 ステンシルマスク４０Ａには、荷電粒子ビームのエッジぼけ量δａを実質的に測定するためのライン形アパーチャ４１と、δａのクーロン相互作用以外の成分が無視できる程度にアパーチャ４１と離間して形成され、アパーチャ４１と同時に荷電粒子ビームが通されるアパーチャ４２とが、同時露光するためのブロックパターンとして形成されている。ステンシルマスク４０Ａ及び４０Ｂを用い、その各々についてアパーチャ４１を通った荷電粒子ビームのエッジぼけ量を実質的に測定し、エッジぼけ量が最小になるように、荷電粒子ビームに対するリフォーカス量を決定し、ステンシルマスク４０Ａ及び４０Ｂの各々の開口面積合計に対し決定されたリフォーカス量に基づいて、ステンシルマスク上の任意のブロックパターンの開口面積に対するリフォーカス量の関係を直線近似する。 （もっと読む）

【課題】 エバネッセント光を用いた露光で１００ｎｍ以下の解像力を達成する露光方法及び露光装置を実現すること。
【解決手段】 表面に幅が１００ｎｍ以下の開口からなる微小開口パターンを有し、且つ弾性体で構成されてマスク面の法線方向に弾性変形可能なマスクを用いて、該マスク表面に対向して配置した非露光物に該微小開口パターンの露光・転写を行なうことを特徴とする露光方法及び露光装置。 （もっと読む）

【課題】厚いＷ膜に微細な貫通孔を形成すること。
【解決手段】Ｓｉ基板１上にＷ膜２を形成し、次にＷ膜２上にＳｉＯ₂ 膜３を形成し、これをパターニングしてＳｉＯ₂ 膜３からなる微細な貫通孔パターンを形成し、次にＷ膜２上に貫通孔パターン（ＳｉＯ₂ 膜３）を覆うＷ膜６を形成し、次に貫通孔パターンを横切るように、Ｓｉ基板１、Ｗ膜２、貫通孔パターンおよびＷ膜６を切断し、次に切断して現れた面を必要な厚さまで研磨し、最後に貫通孔パターンをウエットエッチングにより除去することで、Ｗ膜２，６に微細な貫通孔を形成できる。 （もっと読む）

【課題】 写真製版工程において基板上に異物が付着した場合でも、パターン欠陥（配線間の短絡等）の発生を抑制できる電子デバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】 写真製版工程において、感光性を有するレジスト膜４の膜厚を厚く形成することにより、レジスト膜４が均一に形成された正常な塗布部と、付着した異物３の周辺部等、レジスト溶液の表面張力によりレジスト膜４が厚く形成された部分とのレジスト膜４の膜厚の差を小さくする。 （もっと読む）

【課題】 成形偏向感度調整と成形偏向方向調整を高精度に行うことができ、描画精度の向上に寄与する。
【解決手段】 第１及び第２の成形アパーチャ１０，１２と成形偏向器１１で電子ビームの寸法を可変する可変成形ビーム方式の電子ビーム描画装置において、成形偏向器の成形偏向感度及び成形偏向方向を調整する際に、成形偏向器１１で第１成形アパーチャ１０の像が第２成形アパーチャ１２で遮られないように任意の複数位置に偏向し、各々のビーム偏向位置で電子ビームの試料面上の位置をマークスキャン法により測定し、各々の測定結果から成形偏向器１１の感度及び方向の誤差を算出し、算出された誤差に基づいて成形偏向感度係数及び成形偏向方向係数を補正する。 （もっと読む）

【課題】 半導体レーザーやＹＡＧレーザー等による直接記録に適した、高感度で、かつ露光後の加熱処理を必要としないポジ型感光性組成物、ポジ型感光性平版印刷版、及びポジ型感光性平版印刷版の製版方法を提供する。
【解決手段】 露光部と非露光部においてアルカリ現像液に対する溶解性に差異を生ずるポジ型感光性組成物において、該溶解性に差異を生ぜしめる本質的成分として、（ａ）光熱変換物質、及び（ｂ）主として化学変化以外の変化によってアルカリ現像液に対する溶解性が変化し得る高分子化合物を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物、それを用いたポジ型感光性平版印刷版、及びポジ型感光性平版印刷版の製版方法。 （もっと読む）

【課題】 簡便な生態学的な方法で現像可能な優れた印刷品質を有するポジ作用性平版印刷版の製造方法を提供することおよび内部ドラムスキャナー上で像形成可能な改良された感度を有するポジ作用性平版印刷版の製造方法を提供すること。
【解決手段】 本発明によれば、赤外レーザーへの感熱性像形成要素の像通りの露呈および該像形成要素の現像を含んでなる簡単な湿潤クリーンアウト法でポジ作用性平版印刷版を製造する方法が提供される。像形成要素は内部ドラムまたは平床スキャナー上で０.２μｓより短い画素滞在時間を有するレーザーに露呈されて高い感度を有するポジ作用性印刷版を支える。 （もっと読む）