【課題】 従来のアキシコンシステムと比較して、偏光のより生じる透過の不均一性を大幅に減少させるアキシコンシステムを提供する。
【解決手段】 例えば、光強度の径方向再分布により、その入射面に入射する入射光分布を、その出射面から出射する出射光分布に変換する目的を果たすマイクロリソグラフィ投影露光装置用の照明システムに用いることが可能なアキシコンシステムであり、その１つの実施例において、アキシコンシステムは、第１のアキシコン表面および該アキシコン表面に対向して位置するさらに別の表面を備えるアキシコン素子と光軸とを有する。少なくとも１つの表面は、アキシコン表面での偏光選択反射および透過により発生するアキシコンシステムの透過不均一性を、楕円透過関数により、空間依存的に補償する光学補償コーティングにより覆われている。 （もっと読む）

【課題】複数のマスクを使用して連続して同時に試料上の複数のダイに露光を行う際に、個々のダイ上に前工程で形成されたパターンに応じて露光を行う電子ビーム露光装置、電子ビーム露光方法および電子ビーム露光システムを提供する。
【解決手段】電子ビーム１５を発生する電子ビーム源１４と、電子ビームの経路中に配置され開口を有する複数のマスクｍｉｊを備え、マスクｍｉｊの開口を通過した電子ビーム１５で、試料３０の表面に前記開口に対応するパターンを露光する電子ビーム露光装置１０を、試料３０に形成されたパターンにあわせて、マスクｍｉｊの露光位置を補正する露光位置補正手段８０を備えて構成する。 （もっと読む）

光学アセンブリ（１６）とデバイス（３０）との間のギャップ（２４６）の環境を制御するための環境システム（２６）は、流体バリア（２５４）及び液浸流体システム（２５４）を含む。流体バリア（２５４）はデバイス（３０）の近傍に位置付けられる。液浸流体システム（２５２）は、ギャップ（２４６）を満たす液浸流体（２４８）を送出する。液浸流体システム（２５２）は、流体バリア（２５４）とデバイス（３０）との間に直に存在する液浸流体（２４８）を回収する。流体バリア（２５４）はデバイス（３０）の近傍に位置付けられる排出インレット（２８６）を含むことができ、液浸流体システム（２５２）は排出インレット（２８６）に連通する低圧源（３９２Ａ）を含むことができる。流体バリア（２５４）は液浸流体（２４８）のいかなる蒸気（２４９）も閉じ込め、測定システム（２２）に悪影響を与えない。加えて、環境システム（２６）は、デバイス（３０）に対して流体バリア（２５４）を支持するように、流体バリア（２５４）とデバイス（３０）との間にベアリング流体（２９０Ｃ）を向けるベアリング流体源（２９０Ｂ）を含むことができる。
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【課題】リソグラフィ投影装置であって、基板テーブルを動かすときの反力による振動を打消すための平衡質量を支持するために、真空中でも使える、構造簡単で安価な支持手段を提供すること。
【解決手段】リソグラフィ投影装置の平衡質量を、この平衡質量およびベースフレームに機械的に取付けてあり且つ少なくとも二つのピボット点を有する少なくとも一つの柔軟な支持要素によってベースフレーム上に支持する。この支持要素に二つ以上のピボット点があるので、この支持手段は、平衡質量ＢＭの水平運動に殆ど抵抗を示さず、平衡質量ＢＭが水平方向に自由に動け、および空気軸受を使わないので、真空中でも使える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、サブトラクティブ法に於いて、ドライフィルムレジストを用いることで微細な金属パターンを形成できる金属パターンの形成方法を提供するものである。
【解決手段】基板上にドライフィルムレジストを貼り付け（ａ）てから、エッチング（ｄ）を行うまでの間に、ドライフィルムレジストの薄膜化処理（Ｔ１〜Ｔ４）を行う金属パターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】変形照明を提供する位相格子パターン設計方法及びこれを利用したフォトマスク製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る位相格子パターン設計方法は、光リソグラフィー過程でウェーハ上に転写するパターンに提供する任意の変形照明を選択する段階と、位相格子が具現される単位領域を設定する段階と、単位領域を多数の下位セルに分割する段階と、下位セル各々にいずれか任意の位相値を初期位相値として付与する段階と、下位セルのうちいずれか一つを無作為に選択し、選択された下位セルの位相値を変化させる過程を反復して下位セルに付与された前記位相値の配列を無作為で変化させながら選択された変形照明に合う位相値の配列を探す段階と、を含む。 （もっと読む）

【課題】電子写真プリント配線板の作製方法において、感光層の帯電量が変化した基板では正常な静電潜像が形成できず、また静電潜像の形成に失敗した基板では良好な画像形成ができないため不良基板となり無駄になっていた。
【解決手段】電子写真プリント配線板の作製方法において、静電潜像形成前に熱処理を行う工程を設けることで前記課題が解決できる。 （もっと読む）

【課題】 配向膜及び薄膜トランジスタなどの特性に悪影響を与えずＵＶ硬化型シール剤を硬化させ得るように、シール剤形成領域以外の領域へのＵＶ照射を遮断するマスクを備えたＵＶ照射装置及び、前記マスクを効果的に固定するためのマスク固定装置を提供する。
【解決手段】 本発明によるＵＶ照射装置は、基板ステージと、ＵＶ光源部と、前記基板ステージとＵＶ光源部との間に形成されたマスクと、そのマスクを固定するマスク固定装置とからなり、前記マスク固定装置は、四角形状のフレームと、前記四角形状のフレームの内側面に形成される共に第１締結部を備えるマスク支持部とを含む下部器具物と、前記第１締結部に対応する第２締結部を備える上部器具物とを含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、振動に起因する描画の誤差による基材の良品不良製品を識別することの可能な描画システム、情報処理装置、電子ビーム描画装置、基材の検査方法、その方法を実行するためのプログラム、プログラムを記録した記録媒体、描画方法、及び基材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の描画システムは、ビームにより基材に対して描画を行う描画装置（３）と、描画装置による振動ないしは外部からの振動を計測する振動計測装置（５００）と、振動計測装置にて計測された振動と、前記基材に対するドーズ量に応じた前記振動による描画位置ずれの影響度に基づいて、前記基材の描画の品質を判定するように制御する品質判定制御装置（６００）と、含む。 （もっと読む）

【課題】 マイクロドリルの捻れ溝加工を高精度で行い，かつマイクロドリルを高歩留まりで大量生産する。
【解決手段】 所定部材を加工して，マイクロドリルのドリルボディ部を形成する工程と，少なくともドリルボディ部を含む所定領域を露光液でコーティングする露光液コーティング工程と，ドリルボディ部の露光液コーティング面にレーザビームを照射しながらマイクロドリルを直進回転移動させて，捻れ溝形成領域の露光液を除去する捻れ溝形成領域露光工程と，少なくともドリルボディ部をエッチング液に浸積し，露光液が除去された領域のドリルボディ部材をエッチング除去して，捻れ溝を形成する捻れ溝形成工程と，露光液を超音波洗浄により洗浄除去する露光液洗浄工程と，を含む。 （もっと読む）