【課題】 レジストを高精度に加熱・冷却する。
【解決手段】 熱伝導性の悪い基板１１上にレジストパターン形成を行うため、レジスト１２を加熱冷却する際に、温度調整板１３の温度を段階的又は連続的に変化させることにより、レジスト１２のベークの温度管理と時間管理を高精度に制御することが可能となり、レジストパターンの線幅制御性が向上し、特に微細パターンに対応することができる。 （もっと読む）

【課題】 装置内部の可動テーブルの位置を正確に求めるために、１つ、任意選択で２つ以上のカラー干渉計デバイスを使用するリソグラフィ投影装置を提供すること。
【解決手段】 この装置は、前記可動テーブルの少なくとも一部を収容する空間にパージ・ガスを供給するためのフラッシング・ガス手段を備え、パージ・ガスは、干渉計デバイスの動作領域内へのパージ・ガスの漏れが干渉計測定値の有意な誤差をもたらさないように選択される。 （もっと読む）

【課題】 照明光源から発光された露光光の損失を軽減し、露光面の照度を向上させることができる露光装置の照明光学系を提供する。
【解決手段】 照明光源から発光されて楕円鏡で反射された露光光によってマスクのパターンを被転写物体に転写する露光装置の照明光学系において、照明光源の中心を通る水平線から下側−３０度より大きい角度まで、配光を楕円鏡により反射させるように構成している。 （もっと読む）

【課題】 レンズの光吸収による各投影光学ユニットの光学特性の変動を実質的に抑制することのできる露光装置。
【解決手段】 照明系（ＩＬ）と、複数の投影光学ユニット（ＰＬ１〜ＰＬ５）を有する投影光学系（ＰＬ）とを備え、照明系は各投影光学ユニットの瞳面と光学的にほぼ共役な位置に二次光源を形成し、マスクパターンを投影光学系を介して感光性基板（Ｐ）上へ投影露光する露光装置。照明系は、光照射による各投影光学ユニットの光学特性の変動を実質的に制御するために、二次光源の光強度分布を、中心よりも周辺において実質的に強度の高い光強度分布に設定するための強度分布設定手段（９）を備えている。 （もっと読む）

【課題】 エバネッセント光と伝播光の両方を用いた露光において、均一な大小パターン形成を実現する、パターン作製方法及び、パターン作製装置を提供する。
【解決手段】 フォトマスクを透過する光の主成分がエバネッセント光となる微小開口と伝播光となる開口を有したフォトマスクを用いたパターン作製方法において、フォトレジストを微小開口の幅以下の膜厚形成し、露光用光をフォトマスクに入射させ、フォトレジストを露光した後に現像を行い、被加工基板上にフォトレジストのパターンを作製した。 （もっと読む）

【課題】 有効露光領域が大型化して描画誤差の傾向の異なる部分が存在しても、パターンの像を高精度に基板に投影露光する。
【解決手段】 マスクＭと基板とを投影光学系に対して相対的に同期移動させて、基板にマスクＭのパターンを投影露光する走査露光方法において、マスクＭには、同期移動方向に沿う第１の方向にパターンを挟むようにマーク４３ａ〜４３ｆ、４４ａ〜４４ｆが複数形成されており、投影光学系を介して複数のマーク４３ａ〜４３ｆ、４４ａ〜４４ｆの投影された像を計測して、その結果に基づいて投影光学系の結像特性を求め、所定の結像特性になるように投影光学系を調整する。 （もっと読む）

【課題】 電子線リソグラフィーを用いて、良好な形状を有する数十ナノメートル径のホールパターンを形成する。
【解決手段】 下地表面上に、ポジ型の電子線レジストを含有するレジスト層を形成し、前記レジスト層に電子線を照射した後、現像することにより、前記レジスト層にホールを形成する工程を有し、前記ホールの平均径をＷ（単位：nm）とし、Ｗが８０のときの最適な電子線照射量をＤ₈₀としたとき、４０≦Ｗ≦７０であるホールを形成する際に、電子線照射量Ｄ_Wが０．８５×６０／（Ｗ−２０）≦Ｄ_W／Ｄ₈₀≦１．１×６０／（Ｗ−２０）
を満足するように電子線を照射するレジストパターンの形成方法。 （もっと読む）

【課題】 ステージの駆動反力が他ユニットに影響を与えず、高精度な位置決め精度を有する位置決め装置を提供する。
【解決手段】 本発明の位置決め装置は、第１の基準面を有するベースと、該第１の基準面上を移動可能であり、該第１の基準面と垂直な第２の基準面を有する第１の移動体と、該第１の基準面上を移動可能であり、該第２の基準面に沿って移動可能な第２の移動体と、該第１の移動体と第２の移動体との間で駆動力を発生する駆動装置とを備えることを特徴とする。これにより、目的物を搭載する第２移動体の位置決め精度を飛躍的に向上させることができる。 （もっと読む）

【課題】 波長の変動を伴う光線を、光源から受光素子まで伝送する装置において、光線の波長の変動に応じて受光素子上の光線が照射される位置が変化することを抑制する。
【解決手段】 光伝送装置は、光線を受け入れ且つ光線を発射するための光学素子であり、それが受け入れる光線とそれから発射される光線との間の偏向角が、波長の変化に応じて変化する、光学素子と、光線を受け入れ且つ光線を発射するための補償光学素子であり、それが受け入れる光線とそれから発射される光線との間の補償偏向角が、波長の変化に応じて変化する、補償光学素子とを有し、光学素子と補償光学素子とは、光源と受光素子との間で光学的に直列に配置され、波長の増加に応じて偏向角は第一方向に変化し、波長の増加に応じて補償偏向角は第二方向に変化して、受光素子上の光線が照射される位置が、波長の増加に応じて変化することが抑制されるよう、偏向角の第一方向の変化は補償偏向角の第二方向の変化により補償される。 （もっと読む）

【課題】試料を試料室から露光装置に入れる動作と試料を露光装置から試料室に出す動作とを、同時に行なえるを提供する。
【解決手段】パターンの設けられている基板を保持する基板ステージ手段と、前記基板を一時格納する基板格納手段と、試料を移動可能に保持する試料ステージ手段と、前記試料を一時格納する試料格納手段と、前記試料を前記試料格納手段と前記試料ステージ手段との間で搬送する第１搬送手段と、前記第１搬送手段を格納する第１搬送空間と、前記第１搬送空間の気圧を制御する第１気圧制御手段とを有する第１ロードロック手段と、前記試料を前記試料格納手段と前記試料ステージ手段との間で搬送する第２搬送手段と、前記第２搬送手段を格納する第２搬送空間と、前記第２搬送空間の気圧を制御する第２気圧制御手段とを有する第２ロードロック手段と、を有することを特徴とする半導体露光装置。 （もっと読む）