【目的】 縮小投影露光装置の光軸ずれ補正方法の改良に関し、縮小投影露光装置の光軸ずれを自動的に補正することが可能な縮小投影露光装置と光軸ずれ補正方法の提供を目的とする。
【構成】 光源、インプットレンズ、フライアイレンズ及び絞りから構成される有効光源１から出た光線を、集光レンズ２、投影レンズ３を経てＸＹＺステージ４に載置した半導体基板７に照射する縮小投影露光装置において、ＸＹＺステージ４上に載置され、有効光源１と投影レンズ３の間に配設したレチクル６を透過した光線を検出する光検出器５と、有効光源１をＸＹ方向に移動させる自動補正機構を有し、光検出器５は、焦点深度内の少なくとも二つのＺ軸位置においてこの光線を検出してそれぞれの位置におけるＸＹ方向の光軸ずれを検出するものであり、自動補正機構は、このＸＹ方向の光軸ずれに基づいてこの有効光源の位置を補正するものであるように構成する。 （もっと読む）

【目的】 マスクと感光基板とを複数配列した投影光学系に対して一次元方向に走査する走査型露光装置において、感光基板の伸縮による基板の形状の変化に対して転写像を補正する。
【構成】 走査方向に直交する方向（Ｙ方向）に沿って配置された複数の投影光学系３ａ〜３ｅと感光基板５との間の光路中に平行平板ガラス４ａ〜４ｅを設ける。感光基板の伸縮量（形状の変化）に応じて投影光学系の投影倍率を倍率制御装置１０によって変更するとともに、駆動装置１２によって平行平板ガラスを回転して光軸ＡＸ１〜ＡＸ５をＸ，Ｙ方向にシフトする。 （もっと読む）

【目的】 工程数を削減しつつ、光リソグラフィ技術の限界を越えた微細幅のパターンを形成すること。
【構成】 レジスト膜３に紫外線光を照射すると、レジスト膜３は周囲から徐々に硬化していくので、この紫外線光の照射を調整することで、このレジスト膜３の上面部４及び側面部５に硬化部を形成することができる。その後、レジスト膜３上面部４を除去することにより、レジスト膜３内部の未硬化部６を露出させ且つこれを除去すると、硬化した側面部５のみが残存する。この、側面部５の幅は、紫外線光の調整しだいで自由に設定できるので、リソグラフィ以下の寸法も可能となる。この技術により作成されたパターンは、スタック型キャパシタの下部電極に凹凸を設けて、その表面積を拡大し、蓄積容量を増大させるためのマスクとして利用できる。 （もっと読む）

【目的】 露光領域が大きな場合でも、スループットを低下させずに、良好な結像性能のもとで回路パターンを転写できる露光装置を提供すること。
【構成】 第１の物体(8) と第２の物体(9) とを移動させつつ第１の物体の像を第２の物体上へ投影露光する露光装置は、第１の物体の等倍の正立像を第２の物体上に形成する第１及び第２の投影光学系 (2a,2b)を有する。第１及び第２の投影光学系は、少なくとも像側がテレセントリックで構成される。 （もっと読む）

【目的】 基板の焦点合わせを良好に行うことができると共に、物体テーブルが正確に直線案内に沿って案内されるような支持装置を提供する。
【構成】 支持装置（１）は基面（５）と、基面に平行に延びる直線案内（１３）に沿って支持装置を案内するための第１と第２の支承ユニット（２、１１）を含む。また剛性化部材（２３）に連結された物体テーブルをもち、物体テーブル（１９）は基面を横切るｚ方向に２つの支承ユニットに対して変位でき、かつ３つの力アクチュエータ（３７）によって基面に平行に向いた少なくとも１つの回転軸線の回りに傾斜できる。剛性化部材は連結部材（３５）によって第２支承ユニットに連結され、連結部材はｚ方向に弾性変形でき、かつ力アクチュエータによって第１支承ユニットに連結される。かくて剛性化部材及び物体テーブルと２つの支承ユニットとの静的に決定される連結が得られる。 （もっと読む）

【目的】 プリアライメント動作を短時間で行なえ、しかもプリアライメント動作の際における基板表面へのスリ傷の発生を抑制する。
【構成】 露光装置１００の基板供給部２００は、Ｘ軸に沿って移動するＸ軸センタリングユニット２３０，２５４とＹ軸に沿って移動するＹ軸センタリングユニット２６０，２８０を有する。各センタリングユニットには、Ｘ軸ガイドピン２１２，Ｙ軸ガイドピン２２０等が突出して設けられている。基板供給部２００に基板Ｋが搬送されると、各軸のセンタリングユニットを中央に移動し、基板Ｋを基板供給部２００の中央にプリアライメントする。２枚目以降の基板Ｋのプリアライメントに際しては、一旦各軸のセンタリングユニットをプリアライメント位置から僅かに後退させておき、この位置から各軸のセンタリングユニットを移動して２枚目以降の基板Ｋのプリアライメントを行なう。 （もっと読む）