国際特許分類[G03F7/20]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 露光;そのための装置 (8,784)
国際特許分類[G03F7/20]の下位に属する分類
焦点調節手段,例.自動焦点調節手段 (137)
同一表面の異なる位置を同一パターンで同時に露光するもの (9)
同一表面の異なる位置を同一パターンで逐次露光するもの (31)
カーブした表面への露光 (76)
国際特許分類[G03F7/20]に分類される特許
8,521 - 8,530 / 8,531
直流放電灯および該放電灯を用いた映写装置並びに半導体露光装置
【目的】長時間に亘り陰極封止管部の気密が保持され、点灯不能あるいはランプ破裂の発生がなく、信頼性を高めること。
【構成】石英ガラス製バルブ11中には不純物としてナトリウム,カルシウム,銅,カリウムの一種以上が含有されている。本発明に係る直流放電灯は点灯中のランプ電圧をVl(V)とし、電極間距離をL(mm)とし、このときの電位傾度E=Vl/L(V/mm)とするとき、石英ガラス製バルブ11中のナトリウム,カルシウム,銅,カリウムの合計含有量C(ppm )がC≦E/2.7を満足する値に設定されたものである。
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レーザ放電イメージング方法及び装置
【構成】 赤外領域付近において放出を行うレーザデバイスを用いてリソグラフ印刷プレートをイメージングするための装置及び方法、並びに当該装置及び方法によりイメージングを行うのに適したプレートである。レーザ出力は、一つ又はより多くのプレート層を融除し、或いは表面層を物理的に変形する。好適な出力は、レーザダイオード(500)からスリット(502)その他の開口を介して放出される赤外線レーザをレンズ系(520,525,530,535)を介して導くことにより得られる。何れの場合にもプレート上には、イメージに関するパターン造作が結果的に得られる。イメージ造作は、インク又はインク付着防止液体に対して、未露光領域とは異なる親和性を示す。
【効果】 低〜中位の電力レベルで動作するレーザ設備を用いて、リソグラフ印刷プレートを迅速且つ効率的にイメージングすることを可能にする。
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露光装置
【目的】 スループット等の低下なく長期的に安定した高精度の露光を行えるようにする。
【構成】 原版を照明してそのパターンの像を、所定の露光基準面に表面を一致させた感光基板上に露光転写する光学手段と、露光基準面に対する感光基板表面の距離と傾きを検出する基板表面位置検出手段と、基板保持手段と、基板保持手段を移動させるX−Yステージと、基板保持手段を傾斜させるレベリングステージと、基板保持手段をθ方向に回転させる微θステージと、レーザ干渉計により基板保持手段のX,Y,θ位置を測定する水平位置測定手段と、基板表面位置検出手段および水平位置測定手段の出力に基き各ステージを位置決めし、感光基板の表面と露光基準面とを一致させてから、原版のパターン像を露光転写する駆動制御手段とを備えた露光装置において、前記各ステージを駆動させた際に水平位置測定手段の測定値に誤差を生じさせる誤差要因を検出する誤差要因検出手段を具備し、制御手段は、その検出結果を考慮してX−Yステージおよび微θステージの駆動制御を行うものである。
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レイビル基を有するポリマーを含有する放射線感光性組成物
【目的】 本発明はフェノール単位と環式アルコール単位とのポリマー結合剤を有する放射線感光性組成物を提供する。
【構成】 ポリマーのフェノール単位及び/又は環式アルコール単位の少なくとも一部は酸レイビル基に結合している。結合剤を酸レイビル基に並程度に置換するだけで、露光領域と非露光領域との間に高い溶解度の差が得られる。
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E−ビームレジスト用の塩基現像可能な放電トップ層
【目的】 水性塩基可溶性の導電性ポリマーを、電気的帯電を消失させるために利用することと、これにより荷電粒子ビームを含む方法の精度を改善することに関する。
【構成】 電気伝導性の官能化ポリマーとしてポリアニリン、ポリパラフェニルビニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリ−p−フェニレンオキサイド、ポリフラン、ポリフェニレン、ポリアジン、ポリセレノフェン、ポリフェニレンサルファイドおよびポリアセチレンを用いる荷電粒子ビームからの蓄積された電荷を消失させるための組成物と、ポリ(ヒドロキシアニリン)とポリチオフェンの合成方法と、水性塩基可溶性の導電性フィルムを調製するための方法が述べられている。
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投影露光方法及び回路素子製造方法
液晶表示素子用電極パターンの形成方法
【目的】 露光時のパターンズレを防止し表示品質の向上を図った液晶表示素子用電極パターン形成方法を提供する。
【構成】 少なくとも2回のフォトリソ工程を繰り返して基板上に液晶表示素子用電極パターンを形成する方法において、基板上に形成したフォトレジストへの所望パターンの露光の際に全面一括露光によるフォトリソ工程と全面を複数エリアに分割する分割露光によるフォトリソ工程とを併用して行う。
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露光方法
レジストパターンの形成方法及びその装置
カリックスアレーン誘導体およびそのフィルムおよびそのパターン形成方法
8,521 - 8,530 / 8,531
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