【課題】露光装置内に搬入されたレチクルとペリクルに囲まれた空間であるペリクル空間のパージ時間を短くでき、レチクルの搬入時間が短縮され生産性が向上する露光装置を提供する。
【解決手段】 ペリクル枠２５に各１つ以上設けられた供給口ａと排出口ｂにそれぞれ不活性ガスを供給および排出するための供給ノズル３３および排出ノズル３４を近接あるいは密接させて、これらの供給口と排出口を介してペリクル空間２０のパージを行うとともに、ペリクル膜の外側からペリクル空間と略同一の圧力を加える。 （もっと読む）

【課題】感光材料に孔が設けられている場合においても、感光材料に対して正確にピントを合わせて露光できる露光装置および露光方法の提供。
【解決手段】感光材料の被露光面の位置高さを計測する距離計測手段と、感光材料の被露光面の孔位置を判断する孔位置特定手段と、感光材料上における孔位置を特定する孔座標測定手段と、変位データ作成手段と、露光手段の光ビームの焦点位置を前記被露光面に一致させるフォーカス制御を行うフォーカシング手段とを備えた露光装置において、前記距離計測手段において所定の大きさ以上の変位量を検出した場合には、前記変位データ作成手段は、前記孔位置特定手段と、前記フォーカシング手段と、前記孔位置特定手段による判断結果に基づいて孔と判断された位置を除いて、前記変位データ作成手段において、前記フォーカシング手段によるフォーカス制御のための変位データを作成する。 （もっと読む）

【課題】マイクロパターンの作製を安価且つ迅速に実現できる光反応装置を提供する。
【解決手段】光反応装置１は、入力画像を表示するＬＣＤパネルに光を照射することによって画像を投写するＬＣＤプロジェクタ３と、光反応性の試料を設置する試料設置ステージ１６と、ＬＣＤプロジェクタ３からの投写光を縮小して試料上に結像させる縮小投写レンズ１３と、試料に結像される画像の投写倍率を調整するためのズーム調整機構４とを備える。ズーム調整機構４は、ＬＣＤパネルと縮小投写レンズ１３間の距離を調整するための第１調整ベース１１と、縮小投写レンズ１３と試料間の距離を調整するための第２調整ベース１２とから構成されている。 （もっと読む）

【課題】光源としてのランプとマイクロミラーデバイスを用いたパターン描画装置で、マイクロミラーデバイスに対して紫外光を斜めから入射させる必要がなくかつ反射した紫外光の光路を邪魔しない装置を提供する。
【解決手段】パターン描画装置１００では、水銀ランプ１０１からの紫外光を偏光変換光学系１０３に入射させ、無偏光の光を直線偏光のＳ波に変換する。紫外光は、偏光ビームスプリッタ１０５に入射し１００％近く反射して上方に進み、１／４波長板１０６を通過し円偏光となってマイクロミラーデバイス１０７に入射する。 マイクロミラーデバイスで反射する紫外光の内、パターン露光に寄与する紫外光は真っ直ぐに下方に進み、再度、１／４波長板を通過することでＰ波となり、偏光ビームスプリッタを１００％近く透過し下方に進む。下方に進む紫外光の内、パターン露光に寄与するものは、ピンホール板１１０を通過して基板１１４に到達する。 （もっと読む）

【課題】 露光装置のデフォーカス量を簡単且つ精度良く測定する。
【解決手段】 投影露光装置の投影光学系により基板上に転写されるマスクパターンが設けられた露光マスクであって、マスクパターンは、高低差のある基板３２上の各高さに転写される一のパターンを含み、基板３２上における投影露光装置のデフォーカス量によって、基板３２上における各高さに転写されるパターンＡ，Ｂの寸法差または終端部の後退量差が変動する。これにより、露光装置のデフォーカス量を簡単且つ精度良く見積もることができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、描画中に成形偏向器ドリフトを補正して描画位置及びショットサイズのずれのない描画を行う。
【解決手段】描画中に、半導体ウエハ１１からの反射電子量を反射電子量検出器２０により測定し、この測定された反射電子量と予め測定したショットサイズＳに対する反射電子量の関係とからドリフト量算出回路２４によりドリフト量（ｘ´，ｙ´）を求め、このドリフト量により電子ビームのショットサイズＳを各補正回路２５ａ，２５ｂにより補正し、このショットサイズに従って成形偏向器６を偏向調整する。 （もっと読む）

【目的】ウエハ等の被露光基板上のフォトレジストの表面形状を光学的手段によって検出し、露光単位毎に焦点を合せる領域を選択し、解像度の高い投影露光を実現する投影露光装置およびその方法を提供する。
【構成】可干渉性光源１１からの可干渉光を、大きい入射角でウエハ等の被露光基板４の表面に照射させて反射光と参照光を干渉させ、検出位置と共役な位置の干渉縞の位相の揺らぎから被露光基板４の表面形状を検出し、露光単位毎に前記検出された被露光基板４の表面形状データから所望の表面形状データを選択し、該選択された所望の表面形状データに基づいて被露光基板の露光単位の表面を縮小投影レンズ９１の結像面に焦点合せ制御を行う。 （もっと読む）