【課題】リソグラフィ装置の焦点深度を増大させる方法を提供する。
【解決手段】この方法は、パターニングデバイスのパターンを放射ビームで照明することにより回折放射ビームを形成するステップと、位相変調素子を回折放射ビームで照明するステップと、回折放射ビームの一部分の位相波面をリソグラフィ装置の第１の焦点面を有する第１の位相波面とリソグラフィ装置の第２の別の焦点面を有する第２の位相波面とに変換するステップとを含み、変換ステップは、第１の回折放射ビームの第１の部分の位相及び第２の回折放射ビームの対応する第１の部分の位相に第１の位相波面の少なくとも部分的に形成する位相の変化を与えるステップと、第１の回折放射ビームの第２の部分の位相及び第２の回折放射ビームの対応する第２の部分の位相に第２の位相波面の少なくとも部分的に形成する位相の変化を与えるステップとを含む。 （もっと読む）

【課題】 リソグラフィ装置の焦点特性を少なくとも示す情報を入手する方法を提供する。
【解決手段】 この方法は、放射を実質的に回折させる第１のパターンフィーチャと、該放射を実質的に回折させない第２のパターンフィーチャとを含むパターニングデバイスのパターンを対称照明モードを有する放射ビームで照明し、位相変調素子をパターニングデバイスのパターンから発する放射で照明して、位相変調素子を用いて実質的に回折した放射内に光軸に対して非対称を導入し、放射ビーム受光素子を位相変調素子から発する放射で照明して受光素子上に、第１及び第２のパターンフィーチャに関連する第１及び第２のフィーチャを有する受光素子パターンを形成し、第１のフィーチャと第２のフィーチャとの相対位置に関する位置情報を入手し、入手した位置情報からリソグラフィ装置の焦点特性を少なくとも示す情報を判別するステップを含む。 （もっと読む）

【課題】走査露光装置において基板の表面位置を計測する際の計測対象ポイントの間隔をより小さくすることができる技術を提供する。
【解決手段】複数の計測ポイントで基板の表面位置を計測する計測器を有する走査露光装置は、前記複数の計測ポイントが並んだ方向である配置方向と前記基板の走査方向とが直交しない状態で前記基板の表面位置を前記計測器に計測させる制御部を備える。前記計測器による計測結果に基づいて前記基板の露光が制御される。 （もっと読む）

【課題】フォーカス検出に要する時間の短縮に有利な露光装置を提供する。
【解決手段】物体面に配置されたレチクルのパターンを像面に配置された基板に投影する投影光学系を備える露光装置であって、前記基板を保持するステージに配置された位相シフト型のマークと、前記物体面又は前記物体面と光学的に共役な位置に配置され、前記投影光学系を介して前記マークの像を撮像する撮像素子と、前記撮像素子で撮像された前記マークの像のうち一対のエッジ部によって形成されるエッジ像の間隔に基づいて、前記マークの前記投影光学系の光軸方向の位置を算出する算出部と、を有することを特徴とする露光装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】対象物同士の位置合わせを簡便に高精度に行うことができるアライメント方法およびアライメント装置を提供することを目的とする。
【解決手段】アライメント装置１０の上下移動機構１４の偏心等によるアライメントマーク画像のずれ量を示す誤差テーブルを作成し、アライメントマーク画像のずれ量を無視できる許容間隔を予め導出する。その後、ウエハ１とマスク２を接触して倣い調整した後、ウエハ１とマスク２の間隔を導出した許容間隔内の所定の間隔として、ウエハ１とマスク２のアライメントを行う。 （もっと読む）

【課題】リソグラフィツールのプロセスエラーを補償するシステム、方法、及びコンピュータプログラムを提供する。
【解決手段】この方法は３つのステップを含むことができる。第一に、第一センサがウェーハの上面を感知して、ウェーハの第一表面の第一トポグラフィマップを画定する第一センサデータを提供する。第一センサは、例えばエアゲージである。第二に、第二センサが第一センサと並列にウェーハの上面を感知して、ウェーハの第一表面の第二トポグラフィマップを画定する第二センサデータを提供する。第二センサは、例えば光センサ又は容量センサである。第三に、較正モジュールが、第一及び第二センサデータに基づいて露光システムの焦点位置決めパラメータを較正する。較正モジュールは、ハードウェア、ソフトウェア、ファームウェア、又はそれらの組み合わせで実施することができる。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動の影響を抑制して被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 面位置検出装置は、第１パターンからの第１の光と第２パターンからの第２の光とを被検面（Ｗａ）へ入射させて、被検面に対して第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜１０）と、被検面で反射された第１の光および第２の光をそれぞれ第１観測面（２３Ａａ）および第２観測面（２３Ｂａ）へ導いて、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（３０〜２４）と、第１観測面および第２観測面における第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、例えば第２パターンの中間像を第１パターンの中間像に対して所定方向に反転された像として投射する。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動に影響されずに被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 第１パターンからの第１測定光および第２パターンからの第２測定光を被検面（Ｗａ）へ導いて第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜９）と、被検面によって反射された第１測定光および第２測定光を第１観測面（２３ａ）および第２観測面（２３ａ）へ導いて第１パターンの観測像および第２パターンの観測像を形成する受光光学系（２９〜２４）と、第１パターンの観測像および第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。送光光学系は、第１測定光の被検面への入射面に沿った第１パターンの中間像の投射倍率と、第２測定光の被検面への入射面に沿った第２パターンの中間像の投射倍率とを異ならせる。 （もっと読む）

【課題】 光学部材の変動に影響されずに被検面の面位置を高精度に検出する。
【解決手段】 面位置検出装置は、第１パターンからの第１の光および第２パターンからの第２の光を異なる入射角で被検面（Ｗａ）に入射させ、被検面に第１パターンの中間像および第２パターンの中間像を投射する送光光学系（４〜１１）と、被検面によって反射された第１の光および第２の光をそれぞれ第１観測面（２３Ａａ）および第２観測面（２３Ｂａ）へ導いて、第１観測面に第１パターンの観測像を形成するとともに第２観測面に第２パターンの観測像を形成する受光光学系（３１〜２４）と、第１観測面における第１パターンの観測像および第２観測面における第２パターンの観測像の各位置情報を検出し、該各位置情報に基づいて被検面の面位置を算出する検出部（２３〜２１，ＰＲ）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】基板の生産性を良好にする。
【解決手段】感光層１６ａの最小高さＦ_ｋと最大高さＮ_ｋとの差が焦点調整範囲Ｒの大きさより小さく、かつ露光位置で感光層１６ａの最大高さの部位Ｎ_ｋ及び最小高さの部位Ｆ_ｋがスキャナ２１の焦点位置が調整可能な焦点調整範囲Ｒ内に位置している場合でも、感光層１６ａの複数の部位の高さの平均値または中央値とスキャナ２１の焦点位置が調整可能な焦点調整範囲Ｒ内の中央値が略一致するステージ１４の高さを演算し、演算された１つ以上のステージ１４の高さに基づいて、ステージ１４の高さが演算された基板１６より後にスキャナ２１に搬入される基板１６が載置されるステージ１４及びスキャナ２１の少なくとも一方の位置を変更することにより、ステージ１４とスキャナ２１との位置関係を変位センサ１９へ搬入する前に補正する。 （もっと読む）