【課題】各主走査において光ビームの合焦位置を基板の主面上に精度よく合わせる。
【解決手段】パターン描画装置は、基板９の主面との間の検出距離を取得する距離検出部５およびヘッドからの光ビームのフォーカス調整を行うフォーカス機構４７１を備える。往路または復路である各主走査において主走査方向に伸びる線状領域にパターンを描画する際に、次の主走査にて描画が行われる線状領域に対して複数の検出距離が取得され、直前の主走査にて取得された複数の検出距離を用いて複数回のフォーカス調整が行われる。制御部６の制御により、主走査方向に関して、往路および復路のそれぞれにて複数の検出距離が取得される検出位置と、複数回のフォーカス調整が完了する際の照射領域の複数の位置とが一致するとともに、往路および復路における複数の検出距離の検出位置が近似する。これにより、各主走査において光ビームの合焦位置が主面上に精度よく合わせられる。 （もっと読む）

【課題】フォーカス位置の計測結果に誤差が含まれる場合であっても適切な近似平面を再現性良く算出する。
【解決手段】原版のパターン像を投影光学系を介して基板に投影して露光する露光装置であって、前記基板及び原版を相対的に移動可能に保持するステージと、前記基板の平面度情報を検出するフォーカス位置検出手段と、前記フォーカス位置検出手段により計測される基板の平面度情報を用いて、当該基板の平面度の誤差を最小化して近似平面を算出する算出手段と、算出された前記近似平面の傾きが所定の制約条件を超えている場合、前記所定の制約条件を満たすような近似平面にするための前記近似平面の傾き成分を演算する演算手段と、演算された前記近似平面の傾き成分に基づいて前記基板の傾きを補正するように前記ステージを制御する制御手段と、を有する。 （もっと読む）

【課題】ウエハ外周部のショットを高歩留まりかつ高効率で露光する露光制御装置を提供すること。
【解決手段】ウエハ外周部に配置される露光ショット内でのウエハの高さに関する高さ情報に基づいて、露光ショットを、露光するショットまたは露光しないショットの何れかに設定する露光有無設定部１２と、露光有無設定部１２が設定した露光するショットへの露光指示と、露光有無設定部１２が設定した露光しないショットに露光を行わないようスキップさせる指示と、を出力する露光指示部１４と、を有する。 （もっと読む）

【課題】フォーカス値の測定時間を短縮し、かつ正確なフォーカス値を得ることができる半導体装置の製造方法及び露光装置を提供する。
【解決手段】半導体装置の製造方法は、ウエハ３上に形成されたレジスト６より下層に形成された膜によって反射率が異なる領域について測定されたフォーカス値を取得し、反射率が低い第１の領域３１について得られたフォーカス値に、前記第１の領域３１よりも反射率が高い第２の領域３２について得られたフォーカス値を近づけて露光処理を行う。 （もっと読む）

【課題】露光装置の適切なベストフォーカスを得る。
【解決手段】テスト基板上にポジ型レジストを塗布し、テストパターン用マスク原版を用いてフォーカスを振って複数個所に露光した後、現像を行なって、テスト基板上の複数個所にそれぞれ残しパターンからなるテストパターンを形成する（ステップＳ１１）。フォーカスごとのテストパターンのＴＯＰ寸法とＢＯＴＴＯＭ寸法をそれぞれ測定する（ステップＳ１２）。テストパターンごとに、ＴＯＰ寸法とＢＯＴＴＯＭ寸法の比率（ＴＯＰ寸法／ＢＯＴＴＯＭ寸法）を算出する（ステップＳ１３）。算出した複数の比率のうち最も値が大きい比率に対応するテストパターンについて露光した時のフォーカスポイントをベストフォーカスとする（ステップＳ１４）。 （もっと読む）

【課題】ウエハのエッジ部まで精度よく露光する。
【解決手段】フォーカス測定光ＥＬを照射するショット領域Ｓが、ウエハ６のエッジ付近の予め定められた領域にかからないショット領域Ｓである場合には、所定数のスリット状領域ＳＬおきに露光面の高さを測定し、ウエハ６のエッジ付近の予め定められた領域にかかるショット領域Ｓである場合には、ウエハ６のエッジ付近の予め定められた領域にかからないショット領域Ｓに比べて、多くのスリット状領域ＳＬの露光面の高さを測定する走査型露光装置。 （もっと読む）

【課題】光ビーム照射装置から照射される光ビームの焦点を精度良く調節して、パターンの描画を精度良く行う。
【解決手段】チャック１０に画像取得装置（ＣＣＤカメラ５１）を設け、画像取得装置（ＣＣＤカメラ５１）の焦点をチャック１０に支持される基板１の表面の高さに合わせて、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームを受光する。そして、画像取得装置（ＣＣＤカメラ５１）から出力された画像信号を処理して、光ビーム照射装置２０から照射された光ビームの結像状態を検出し、検出結果に基づき、光ビーム照射装置２０から照射される光ビームの焦点を調節する。 （もっと読む）

【課題】例えば複数個の孤立パターンを含む孤立的なパターンを累進焦点露光法で高精度に露光する。
【解決手段】露光用の照明光ＩＬでレチクルＲのパターン及び投影光学系ＰＬを介してウエハＷを露光する露光方法において、そのパターンの形状及び照明光ＩＬの非対称な照明特性に応じて、投影光学系ＰＬの像面ＰＷ１に対するウエハＷの露光面の傾斜角θｐ、及びその露光面に沿ったウエハＷの移動方向の少なくとも一方の露光条件を設定する工程と、傾斜角θｐで傾斜したウエハＷ上にそのパターンの像を露光しつつ、ウエハＷの移動と、レチクルＲのその移動方向に対応する方向への移動とを同期して行う工程と、を含む。 （もっと読む）

【課題】 干渉光の強度のピーク及びコントラストを最適化し、高速かつ高精度に被測定物の表面位置を測定できる測定装置を提供する。
【解決手段】 本発明は、光源から出射され分岐された光のうちの、参照面で反射された参照光と被測定物の表面で反射された測定光とによる干渉光の強度に基づいて前記被測定物の表面位置を測定する測定装置であって、測定光の光量を検出する検出部と、参照光の光量と前記検出部により検出された測定光の光量とに基づいて算出される干渉光の強度が目標範囲に入るように前記光源の光量を制御する制御部と、を備える。 （もっと読む）

【課題】光の透過性を有する基板の面位置を高精度に検出できること。
【解決手段】 基板の表面で反射された光を検出し、その検出結果に基づいて表面の面位置を検出する面位置検出装置である。その面位置検出装置は、基板の裏面を保持する保持部と、該保持部に対して凹状に形成された凹部とを有する保持装置と、基板の屈折率と同等の屈折率を有する流体を凹部に供給する流体供給装置と、凹部の上方の基板の表面に光を照射する照射装置と、を備える。 （もっと読む）