国際特許分類[G03F7/207]の内容
物理学 (1,541,580) | 写真;映画;光波以外の波を使用する類似技術;電子写真;ホログラフイ (245,998) | フォトメカニカル法による凹凸化又はパターン化された表面の製造,例.印刷用,半導体装置の製造法用;そのための材料;そのための原稿;そのために特に適合した装置 (42,984) | フォトメカニカル法,例.フォトリソグラフ法,による凹凸化またはパターン化された表面,例.印刷表面,の製造;そのための材料,例.フォトレジストからなるもの;そのため特に適合した装置 (38,375) | 露光;そのための装置 (8,784) | 焦点調節手段,例.自動焦点調節手段 (137)
国際特許分類[G03F7/207]に分類される特許
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露光装置及びデバイス製造方法
【課題】検出光がフォトディテクタに入射されない暗状態の直後であっても高精度かつ簡便に基板の面位置を検出しうる露光装置を提供する。
【解決手段】基板4の表面で反射された検出光のフォトディテクタ13への入射位置に応じて基板の面位置を検出する面位置検出器を備え、検出された第1面位置情報を、検出光がフォトディテクタに入射しない暗状態の期間に応じて補正して、第2面位置情報を出力する補正部15cを備える。または、検出光を検出領域に投光する投光系と検出領域で反射された検出光を検出するフォトディテクタとを有し、フォトディテクタへの検出光の入射位置に応じて検出領域の面位置を検出する面位置検出器を備える。そして、検出領域の外側に基板のショット領域が位置するときに、検出光を投光させ、検出領域で反射させた検出光をフォトディテクタに入射させて、フォトディテクタを所定の状態にセットする制御部15を備える。
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光学フォーカスセンサ、検査装置及びリソグラフィ装置
【課題】基板が焦点にあるかを検出する装置を提供する。
【解決手段】基板が検査装置の焦点面にあるかを検出するために、光学フォーカスセンサが、対物レンズを介して放射ビームを受ける。光学フォーカスセンサは、放射ビームを第一サブビームと第二サブビームに分割するスプリッタを含む。アパーチャと検出器が各サブビームの光路にある状態で、各検出器が受ける放射の量を比較することによって、基板が焦点にあるかを検出することが可能である。
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フォトマスク高さ測定方法及び高さ測定装置を有する電子線描画装置
【課題】描画状況下での高さ測定位置の検出が可能なフォトマスク高さ測定方法及びこの高さ測定が可能な電子線描画装置を提供することを課題とする。
【解決手段】 キャリブレーションマークに光の反射率が異なるパターンを作成し、このパターンを光で走査し、検出された光量データと対応させて高さ測定する測定点の位置を特定し、描画状況下で、前記走査及び前記高さ測定する測定点の位置の特定を行い、所定の光量データに対応する測定点の位置を前記描画状況の前後で比較し、描画状況下における位置ずれを検出し、この位置ずれから、描画状況下の高さ測定する測定点の位置の補正データを生成する高さ測定方法及び電子線描画装置を提供する。
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帯状ワークの露光装置及び帯状ワークの露光装置におけるフォーカス調整方法
【課題】露光処理の途中でフォーカス調整を行うことができ、フォーカス調整専用の照明手段や受像手段を追加することなく短時間でフォーカス調整できるようにすること。
【解決手段】マスクMに形成されているパターンを帯状ワークWに投影し、露光する帯状ワークの露光装置において、マスクMのアライメントマークMAMの内側に投影レンズ用フォーカス調整パターンFPを形成する。また、ワークステージ10の貫通孔または切り欠き10a上に光透過部材10bを配置し、アライメント顕微鏡用フォーカス調整パターンAPを形成する。マスクと帯状ワークのアライメントマークを、アライメント顕微鏡12で検出し、マスクMと帯状ワークWの位置合わせを行い、ついで、アライメント顕微鏡12により、投影レンズ用フォーカス調整パターンFPと上記アライメント顕微鏡用フォーカス調整パターンAPを検出しフォーカス調整を行なう。
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電子線描画装置、非同期回転振れ量算出方法、及びパターン描画方法
【課題】精度よく非同期回転振れの量を算出する。
【解決手段】回転テーブル31の回転角度毎の回転振れ量を変位データとして算出し、この変位データを順次メモリ52eに記憶する。そして、メモリ52eに順次記憶された変位データを値の大きさに基づいて並び替え、この並び替えられた変位データのうち順位が中位の変位データの値を基準値とする。変位データをその大きさに基づいて並び変えることにより、非同期回転振れ量を包含する変位データは、並び替えられた変位データのうち高順位、若しくは低順位となるため、並び替えた変位データのうち順位が中位の変位データの値を基準値とすることで、非同期回転振れの影響をほとんど受けていない基準値を算出することができる。そして、この基準値を用いることで、回転テーブル31の非同期回転振れ量を精度よく算出することができる。
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面位置検出装置、面位置検出方法、露光装置及びデバイス製造方法
【課題】
S偏光とP偏光の光軸ずれをオフセット補正し、基板の表面の位置の計測精度を向上させる面位置検出装置、面位置検出方法、露光装置およびデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】
投光光学系PLと受光光学系DLを有し、撮像素子Dからの信号を用いてウェハ3の表面の光軸方向の位置を検出する。ウェハ3の表面上の複数の計測点で光軸方向のウェハ3の表面の位置を計測し、各々の計測点での計測値を計測点毎の補正値で補正する。S偏光あるいはP偏光の偏光状態でパターンの像をウェハ3の表面上に投影する偏光部材Pを投光光学系PLに有する。基準とされる基準面においてS偏光での計測値とP偏光での計測値との差を予め計測し、ウェハ3の表面上の各々の計測点でS偏光での反射率とP偏光での反射率との比を計測し、差および反射率比を基に算出した補正値を選択する。
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投影光学装置、露光装置、デバイス製造方法、像面情報検出装置、および投影光学系の調整方法
【課題】 拡大倍率を有する複数の投影光学ユニットの結像性能の変化に関する情報を個別に検出し、これらの投影光学ユニットを用いて良好な投影露光を行うことのできるマルチ走査型の露光装置。
【解決手段】 第1面に配置される第1物体(M)の拡大像を第2面上に配置される第2物体(P)上に形成する投影光学装置は、所定方向(X方向)に沿って配列された複数の拡大倍率を有する投影光学ユニット(PL1〜PL11)と、少なくとも1つの投影光学ユニットを介して投影視野の近傍に形成される第1物体の像に関する情報を検出する像面情報検出手段とを備えている。像面情報検出手段は、投影光学ユニットを経て第1面で反射された光に基づいて、第1物体の像の第2面内における変位に関する像シフト情報を検出する像シフト情報検出手段を有する。
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レリーフ画像を形成するためのマスクフィルムおよび使用方法
マスク形成性フィルムは、画像形成可能層とキャリアシートとの間に透明層を有し、この透明層は、キャリアシートの屈折率より、又はこれとキャリアシートとの間の任意選択の直接隣接した層の屈折率より小さい(少なくとも0.04小さい)屈折率を有する。この低屈折率層は、レリーフ画像固体領域中により急勾配の肩角を与えるように、マスク画像転写中の入射輻射線の経路を変化させる。 (もっと読む)
露光装置及びデバイス製造方法
【課題】 走査型露光装置でTEG等の特殊なケースにおいて、フォーカス計測精度を上げて露光する。
【解決手段】 露光するときのウエハの位置とは異なる位置でスキャンしてフォーカス計測をして、フォーカス計測の計測値も使ってフォーカス情報を算出し、算出したフォーカス情報を使ってZ駆動やチルト駆動しながら露光位置でスキャン露光する。
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刷版供給装置
【課題】 比較的大きな刷版を使用する場合においても、この刷版を簡単かつ正確に位置決めすること。
【解決手段】 複数枚の刷版Pをその端縁がそろえられた状態で積載する収納部10と、収納部10に積載された刷版Pを搬送する刷版搬送機構14と、収納部10を移動可能に支持するコロと、収納部10を刷版Pの表面と平行な平面内で移動させる収納部移動機構26と、収納部10に積載された刷版Pの端縁の位置を検出するセンサ51、53と、センサ51、53からの信号に基づいて収納部移動機構26を制御する制御部とを備える。
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