【課題】 並列配置された２つの内面反射型のオプティカルインテグレータを用いて、２つの領域を所要の照明条件で個別に照明することのできる照明光学装置。
【解決手段】 第１照明領域（ＩＲ１）を照明する第１照明系は、その照明瞳に所望の光強度分布を形成する第１回折光学素子（３Ａ）と、第１照明領域を照明する光を均一化する内面反射型の第１オプティカルインテグレータ（５Ａ）と、第１回折光学素子と第１オプティカルインテグレータとを光学的に共役にする第１リレー光学系（７）とを有する。第２照明領域（ＩＲ２）を照明する第２照明系は、その照明瞳に所望の光強度分布を形成する第２回折光学素子（３Ｂ）と、第２照明領域を照明する光を均一化する内面反射型の第２オプティカルインテグレータ（５Ｂ）と、第２回折光学素子と第２オプティカルインテグレータとを光学的に共役にする第２リレー光学系（７）とを有する。 （もっと読む）

【課題】容易且つ確実に１回の露光で合焦位置、即ちベストフォーカス位置を精度良く求めることができ、極めて短時間で高精度の焦点計測を可能として、信頼性の高いパターニングを迅速に行う。
【解決手段】試験用フォトマスク１１は、第１のマスクパターン２１と、第１のマスクパターン２１の中心部位に設けられた第２のマスクパターン２２とが形成されている。第１のマスクパターン２１は、集光作用を有し、被転写体に対する露光照射量が焦点変動に依存して変化する性質を有するパターンであり、ここでは２次元のフレネル輪帯パターンとされている。 （もっと読む）

【課題】計測再現性が良く且つウエハのローカルチルト等の誤計測を低減できる面位置計測技術の実現。
【解決手段】複数のスリットに光を照射する光源１１と、前記スリットを通過した光を第１の回折格子に結像させるリレー光学系１４と、前記第１の回折格子からの回折光を前記基板に対して斜め方向から照射して、スリット像を前記基板上に結像させる照明光学系１６と、前記基板３からの反射光を第２の回折格子に結像させる集光光学系１７と、前記第２の回折格子で回折した光を受光素子２０に結像させる拡大光学系１９と、前記受光素子２０で受光した光から前記スリット像の位置を演算する演算処理部と、を有し、前記第１の回折格子と前記基板３とが前記照明光学系１６に関してシャインプルーフの関係を満たし、前記基板３と前記第２の回折格子とが前記集光光学系１７に関してシャインプルーフの関係を満たす。 （もっと読む）

【課題】専用マークではなく、実素子のレジストパターンを用いて露光の際のフォーカス量或いはドーズ量を管理できる技術の実現。
【解決手段】レチクルを介して基板を露光する露光装置は、異なるフォーカス量及び／又は露光量で転写パターンが露光された検査用基板に対して、異なる光学条件で特徴データを計測する計測手段と、計測された前記特徴データを用いて光学条件毎にフォーカス量及び／又は露光量を演算し、前記光学条件毎に求められたフォーカス量及び／又は露光量の推定誤差を算出する誤差算出手段と、前記フォーカス量の推定誤差が最小となる光学条件及び／又は前記露光量の推定誤差が最小となる光学条件を決定する決定手段と、決定された前記光学条件で露光用基板に転写パターンを露光し、当該露光用基板から求めた露光ショットのフォーカス量及び露光量を用いて、装置の光学条件を制御する露光制御手段と、を備える。 （もっと読む）

【課題】応力緩和層を容易に検査（評価）することを可能とし、優れた光学性能（結像性能など）を実現する多層膜ミラー及び評価方法を提供する。
【解決手段】ＥＵＶ光の波長帯域で用いられる多層膜ミラーであって、基板と、前記ＥＵＶ光を反射する反射層と、前記基板と前記反射層との間に形成され、前記反射層による前記基板の変形を緩和する応力緩和層とを有し、前記基板上において、前記応力緩和層が形成され、前記反射層が形成されていない第１領域が存在することを特徴とする多層膜ミラーを提供する。 （もっと読む）

【課題】露光処理、現像処理をして良好に網点を再現して製版可能とし、簡素な構成で制御が容易で廉価に製作可能な装置で露光処理をできるようにする。
【解決手段】光ラジカル重合反応を利用した画像記録層を設けた光重合性平版刷版に対し画像データに基づいて変調された光ビームを画像形成レベルの出力で照射して潜像を形成すると共に、画像記録層における非画像形成部に対して予備レベルの低出力の光ビームを照射して画像の形成に関与しない潜像を形成し、現像部で画像記録層に現像液を付けてブラッシングすることにより、画像形成レベルの光ビームで形成された潜像を残し、予備レベル光ビームで形成された潜像を除去して潜像を顕在化して製版する。 （もっと読む）

【課題】
製造の複雑さを過度に増大させることなく、分子レベルで微細パターンの表面ラフネスを制御できる製造方法を提供すること。
【解決手段】
本発明のナノパターンの製造方法は基板に光異性化化合物を有する配向膜を形成する工程と、前記配向膜上に、主鎖および側鎖を有する液晶性高分子を含有する液晶層を形成する工程と、直線偏光している紫外線を前記配向膜に照射して、前記紫外線により光異性化した光異性化化合物に対応して前記液晶層の液晶性高分子の主鎖を所定方向に配向させる工程と、前記液晶層をマスクとして、前記基板の異方性ドライエッチングを行い、前記液晶性高分子の側鎖の長さに対応した一定のピッチの凸部を有するナノパターンを形成する工程とを備える構成とする。 （もっと読む）

【課題】簡単な構成のマークを用いて投影光学系に関するフォーカス情報を計測する。
【解決手段】主光線が投影光学系ＰＬの光軸ＡＸに対して傾斜した照明光を用いて、マーク５０Ａ，５０Ｂからの２つの回折光のそれぞれの重心の中心が投影光学系ＰＬの瞳面ＰＬＰ上でＸ方向にずれるようにマーク５０Ａ，５０Ｂを照明し、マーク５０Ａ，５０Ｂの投影光学系ＰＬによる像をウエハＷ上に投影する工程と、投影されたマーク５０Ａ，５０Ｂの像のＸ方向の間隔を求める工程と、その間隔に基づいてそれらのマーク像が投影される位置におけるデフォーカス量を求める工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】 プリズム部材の内面反射面で全反射された光束に発生する偏光成分による相対的な位置ずれが被検面の面位置の検出に及ぼす影響を抑えて、被検面の面位置を高精度に検出することのできる面位置検出装置。
【解決手段】 投射系および受光系のうちの少なくとも一方は、入射光束を全反射するための内面反射面（７ｂ，７ｃ；８ｂ，８ｃ）を有する全反射プリズム部材（７；８）を備えている。全反射プリズム部材の内面反射面で全反射された光束の偏光成分による相対的な位置ずれが被検面（Ｗａ）の面位置の検出に及ぼす影響を抑えるために、全反射プリズム部材を形成する光学材料の屈折率と全反射プリズム部材の内面反射面に対する入射光束の入射角とが所定の関係を満たすように設定されている。 （もっと読む）

【課題】 上流側での露光処理に影響を与えることなく、感光材料の表裏を反転させるべく設けられたリバース機構を通過する感光材料の移動方向を方向変換させることができ、長尺な感光材料であっても全長に亘って適正に露光処理することのできる露光処理装置を提供する。
【解決手段】 一端を先頭にして搬送されてくる露光処理中の感光材料を受け取って他端を先頭にして感光材料を送り出すリバース機構と、リバース機構を通過した感光材料の移動方向を方向変換させる方向変換案内面を有するガイド手段とを備えた露光処理装置において、ガイド手段は、方向変換された感光材料の移動方向を少なくとも一回以上方向変換させるよう、感光材料を方向変換させる部位に方向変換案内面を更に有し、方向変換案内面は、それぞれの上流側の感光材料の移動軌跡を延長した仮想線に交差するように形成されていることを特徴とする。 （もっと読む）