【課題】露光中に基板テーブルを加速する際、焦点位置が変化する液浸リソグラフィ装置で、焦点寛容度を向上させ、且つ又はコントラスト制御を安定化する。
【解決手段】液浸リソグラフィで投影系ＰＬを浸液１０から密封するのに使用される平行平板である投影系の最終要素５０が、装置の光軸に対して傾斜する場合投影ビームの入射角を変化させる。この浸液で発生する力を受動的に利用したり、最終要素を移動させることにより、基板上のあらゆる点で連続的に焦点を変化させて焦点寛容度を向上させる。また基板に対して投影ビームを傾斜させるなど、いくつかの方法が開示される。 （もっと読む）

【課題】デフォーカス量に対する感度が高いフォーカス管理を行うことができる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】ウェーハ上にレジスト層を形成し、ライン状の遮光領域６内にスペース８が形成されたマスク１を使用して、レジスト層を露光する。スペース８は、焦点管理用パターンであり、その幅は露光に使用する光の解像度未満であり、光の焦点が基準範囲内にあるときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現せず、光の焦点が基準範囲から外れているときは、現像後のレジスト層にスペース８に起因する形状が出現する。そして、現像後のレジスト層におけるスペース８に相当する部分を評価して、光の焦点が基準範囲内にあるかどうかを判定する。 （もっと読む）

【課題】露光中に基板テーブルを加速する際、焦点位置が変化する液浸リソグラフィ装置で、焦点寛容度を向上させ、且つ又はコントラスト制御を安定化する。
【解決手段】液浸リソグラフィで投影系ＰＬを浸液１０から密封するのに使用される平行平板である投影系の最終要素５０が、装置の光軸に対して傾斜する場合投影ビームの入射角を変化させる。この浸液で発生する力を受動的に利用したり、最終要素を移動させることにより、基板上のあらゆる点で連続的に焦点を変化させて焦点寛容度を向上させる。また基板に対して投影ビームを傾斜させるなど、いくつかの方法が開示される。 （もっと読む）

【課題】対象物の被検面の面位置情報を精度良く検出でき、被検面の位置を制御するときの制御精度の維持に寄与できる検出装置を提供する。
【解決手段】検出装置は、対象物の被検面の面位置情報を検出する。検出装置は、被検面の高さ方向での位置を被検面上に設定した計測点で検出し、高さ方向の位置に対応した高さ位置情報を出力する検出器と、第１エッジを有する第１領域、及び第１エッジと対象物の中心との間に第２エッジを有する第２領域を被検面に設定する設定装置と、第１エッジと第２エッジとの間の第３領域に設定された計測点での高さ位置情報に重み情報を加味する重み設定装置と、重み情報を加味された高さ位置情報に基づいて、被検面の面位置情報を取得する処理装置とを備える。重み設定装置は、第１エッジ及び第２エッジの少なくとも一方の位置と計測点の位置とに関係する情報に応じて、高さ位置情報に重み情報を設定する。 （もっと読む）

【課題】デフォーカス量および露光量変動量のモニタに加え、デフォーカス方向の判別を可能とするフォーカスモニタ用マーク、フォーカスモニタ方法及びデバイス製造方法を提供する。
【解決手段】本発明のマークは、ウエハ面に対して突出して形成されたレジストからなる複数のドット４により構成された２つのドット群１５と、計測領域３ａとを有し、ドット群１５は計測領域３ａから離れるにつれ各ドット１５の寸法が大きくなるように配列されているドットパターンマーク１と、ウエハ面上のレジストに形成された複数のホール５からなる２つのホール群１６と、計測領域３ｂとを有し、各ホール５が、計測領域３ｂから離れるにつれ各ホール５の寸法が大きくなるように配列されているホールパターンマーク２と、を有する。 （もっと読む）

【課題】 被測定物の表面の反射率分布の影響を低減して、高精度に表面形状を測定できる形状測定方法を提供すること。
【解決手段】 被測定物の表面形状を測定する形状測定方法において、光源からの光を測定光と参照光とに分割し、前記測定光を前記被測定物の表面に斜めに入射させ、前記参照光を参照ミラーに入射させるステップと、前記被測定物で反射した前記測定光と前記参照ミラーで反射した前記参照光とを光電変換素子へ導くステップと、前記測定光と前記参照光とで形成される干渉光を、前記被測定物を移動しながら前記光電変換素子で検知するステップと、前記被測定物の表面上の同じ位置で反射した前記測定光から得られる干渉信号に基づいて、前記被測定物の表面形状を求めるステップと、を実行する。 （もっと読む）

【課題】 ＤＭＤのようにパターンを可変的に表示するパターン表示素子を用いる構成において、被検面の面位置を高精度に且つ安定的に検出することのできる位置検出装置。
【解決手段】 本発明の位置検出装置では、被検面（Ｗａ）上に斜め方向から光束を投射する投射系（１〜８）と、被検面で反射された光束を受光する受光系（９〜１５）とを備え、この受光系の出力に基づいて被検面の位置を検出する。投射系は、パターンを可変的に表示するパターン表示素子（４）と、このパターン表示素子のパターンの像を被検面上に形成するための結像光学系（６，８）と、パターン表示素子への入射光の入射角度を被検面への入射光の入射角度よりも実質的に小さく変更するための入射角変更素子（７）とを有する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の焦点ずれを高精度に検出することにより高精度な露光を行うことができる走査型露光装置を提供する。
【解決手段】第１照明領域Ｉ１、Ｉ３、Ｉ５の第１パターンの像を形成する第１投影光学系ＰＬ１、ＰＬ３、ＰＬ５と、第２照明領域Ｉ２、Ｉ４の第２パターンの像を形成する第２投影光学系とを備える走査型露光装置において、重複露光領域の形成に寄与する前記第１投影光学系の像視野内の重複領域に対応する前記第１照明領域内の部分領域またはその近傍の第１検出位置における前記第１パターンに対する前記第１投影光学系の焦点ずれ、および前記重複露光領域を形成に寄与する前記第２投影光学系の像視野内の重複領域に対応する前記第２照明領域内の部分領域またはその近傍の第２検出位置における前記第２パターンに対する前記第２投影光学系の焦点ずれ検出する検出装置を備えることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 ステージの全動作範囲において、基板搭載面の位置を連続的に計測する。これにより、ステージ位置決め精度の向上と基板ステージの小型化を図る。
【解決手段】 本発明の面位置計測装置は、基板を搭載するステージの基板搭載面の、予め定められた基準面に対する位置を計測する。そのために、前記ステージとは分離して前記基準面と平行に配設された第１ミラーと、前記基板搭載面と前記第１ミラーとの距離を計測する第１レーザ干渉測長系と、前記第１ミラーと前記基準面との距離を計測する第２レーザ干渉測長系とを備える。さらに、前記第１レーザ干渉測長系による計測値と前記第２レーザ干渉測長系による計測値に基づいて前記基準面に対する前記基板搭載面の位置を演算する演算手段を備える。 （もっと読む）

【課題】ベストフォーカス付近において適切なフォーカス計測を行うこと。
【解決手段】計測装置は、投影露光装置のフォーカス位置に対してエッジ間隔が極値を持つ検査マークが形成された基板を計測するための計測装置であって、前記検査マークのエッジ間隔が異なるフォーカス位置で極値を持つように計測条件を変更し、各計測条件で撮像された前記検査パターンのエッジ間隔情報を取得する取得手段と、前記各計測条件で撮像された前記検査パターンのエッジ間隔情報に基づいて、デフォーカス量を算出する算出手段と、を備える。 （もっと読む）