【課題】合焦位置を正確かつ容易に検出することができる、露光装置を提供する。
【解決手段】空間光変調素子１１により、波長λの光によるＬ／Ｓパターンが作成される。Ｌ／Ｓパターンは、投影光学系１３により、所定の投影面に投影される。Ｌ／Ｓパターンには、λ／ＮＡ＜Ｐ_１＜２λ／ＮＡを満たす周期Ｐ_１のＬ／Ｓパターンと、１．２Ｐ_１＜Ｐ_２＜１．６Ｐ_１を満たす周期Ｐ_２のＬ／Ｓパターンとが含まれる。 （もっと読む）

【課題】 例えばガラス基板の表面に付着した異物の影響を抑えて、その裏面の面位置の変位を高精度に検出することのできる変位検出装置。
【解決手段】 被検面（２０ａ）の面位置の変位を検出する変位検出装置は、第１乃至第３の光（Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３）を被検面の第１乃至第３位置へそれぞれ導いて被検面またはその近傍に第１乃至第３の集光点を形成するための、第１乃至第３の光に共通の光学系（３，４，５）と、被検面で反射された第１乃至第３の光に基づいて第１乃至第３位置における第１乃至第３変位情報をそれぞれ検出し、該３つの変位情報のうちの互いに最も類似した２つの変位情報に基づいて被検面の面位置の変位を検出する検出系（ＤＳ：５，４，３，６，７，８，９）とを備えている。 （もっと読む）

【課題】検出信号のコントラストを落とすことなく正確に基板表面の面位置を測定できる位置測定装置、位置測定方法および前記位置測定装置を具備した投影露光装置を実現する。
【解決手段】光源からの光を参照光と測定光に分離する第１のビームスプリッタと、参照光が入射する参照ミラーと、参照ミラーで反射した参照光と、被測定物に入射して反射した測定光とを合成する第２のビームスプリッタと、合成された参照光と測定光とが干渉することにより生じる干渉パターンを検出する光電変換素子と、被測定物を駆動する駆動機構と、を備え、干渉光により形成される干渉パターンを、被測定物を駆動しながら、光電変換素子により検出し、干渉パターンから得られる検出信号の変化に基いて、被測定物の表面位置を求める位置測定装置において、反射した測定光と反射した参照光が干渉する領域の信号を選択する選択手段を設けたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】面位置計測装置の校正を行うための基準部材の表面形状を効率的に計測する。
【解決手段】投影光学系を用いてウエハＷ上に明暗パターンを露光する露光方法であって、Ｘスケール部３９ＸＡを用いて多点ＡＦ系９０の複数の検出基準点のＺ位置情報を計測する多点ＡＦ系９０の校正工程と、Ｘスケール部３９ＸＡをＸ方向に多点ＡＦ系９０の複数の計測点の間隔だけ移動しつつ、多点ＡＦ系９０によりＸスケール部３９ＸＡの表面の複数箇所のＺ位置情報を複数回計測する計測工程と、この計測工程で得られた複数のＺ位置情報を統計処理してＸスケール部３９ＸＡのＺ方向の形状情報を算出する算出工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能でマスクレス露光が可能でありかつスポット照射が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置は、光源と、ミラーを繰り返し傾斜させるＭＥＭＳ光スキャナと、光源からの光をミラーを介して被露光物上に露光する露光光学系と、を備え、光源からの光をＭＥＭＳ光スキャナにより第１周波数（１／ｔ１）で振動するミラーにより走査して被露光物を照射する際に、光源からの光を第２周波数（１／ｔ２）で点滅させ、第２周波数と第１周波数との周波数差に基づいて走査光により露光を行う。 （もっと読む）

【課題】小型化が可能でかつ安定した動作で高精度なマスクレス露光が可能な露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１０は、光源１２と、ミラーＭを繰り返し傾斜させるＭＥＭＳ光スキャナと、光源からの光をミラーを介して被露光物Ａ上に露光する露光光学系と、を備え、光源からの光をＭＥＭＳ光スキャナで傾斜するミラーにより走査して被露光物上に照射する際に、その走査光による被露光物の表面におけるドーズ量が一定となるように走査光の走査速度に基づいて走査光の光強度を変化させて被露光物に対し露光を行う。 （もっと読む）

【課題】ショット領域と計測点との位置関係が複数のショット領域間で異なることによる不利益、例えば局所デフォーカスを低減する。
【解決手段】露光装置は、感光剤が塗布された基板の複数のショット領域を投影光学系を介して順に露光する。露光装置は、基板が走査駆動された状態で、連続する複数のショット領域内に定義された計測点の面位置を計測する計測器と、計測器による計測結果に基づいて、基板の被露光領域が投影光学系の像面に一致するように基板の面位置を制御する制御部とを備える。複数のショット領域４０１、４０２において、計測点を共通の配置とする。 （もっと読む）

【課題】被検面の下地の状態にかかわらず、該被検面の位置を正確に検出できるようにする。
【解決手段】被検面Ｗ上の第１照射領域に第１検出光ＤＬ１を斜め方向から照射する第１送光光学系１１ａと、被検面Ｗ上の前記第１照射領域を含み前記第１照射領域よりも大きい第２照射領域に第２検出光ＤＬ２を斜め方向から照射する第２送光光学系１１ｂと、被検面Ｗで反射された第１検出光ＤＬ１及び第２検出光ＤＬ２を検出する検出手段２８を有する受光光学系１２と、第１送光光学系１１ａによる第１検出光ＤＬ１の照射及び第２送光光学系１１ｂによる第２検出光ＤＬ２の照射を選択的に切り換えるとともに、検出手段２８による第１検出光ＤＬ１に基づく検出値を検出手段２８による第２検出光ＤＬ２に基づく検出値により補正して、当該補正された検出値に基づいて、被検面Ｗの面位置を検出する制御手段２９とを備える面位置検出装置である。 （もっと読む）

【課題】簡易な構成によって正確に焦点位置を検出し、高精度のパターンを形成する。
【解決手段】描画装置において投影光学系の焦点位置を検出する場合、ＣＣＤラインセンサ６０を角度αだけ傾斜させた状態で描画テーブル１８に搭載する。そして、コントラストが繰り返される焦点検出用パターンを、ＣＣＤラインセンサ６０の受光面６０Ａに投影する。検出される一連の画像信号に基づき、投影光学系の焦点位置を検出する。焦点位置が検出されると、描画テーブル１８の位置が調整する。 （もっと読む）

【課題】基板テーブル上面から液体を除去するシステムを有する装置を提供する。
【解決手段】液浸リソグラフィ投影装置が開示される。この装置は、基板を保持する基板テーブルを含む。基板テーブルは、基板から基板テーブル上面の端部を越える液体流れが許容されている。この装置は、基板テーブル端部下方で液体を回収する溝をさらに含む。液体回収を改善するいくつかの構成が開示される。 （もっと読む）