【課題】フォーカス計測できない露光領域への露光ショットを行う際、露光ショット位置の直前の露光領域での露光ショットのフォーカス計測値および基板の傾き計測値を使用して露光を行うことによりその露光ショットを有効化し、品質を保ちながら生産性を落とすことなく、基板上での良質な製品の取れ数を増加させることができる露光方法を提供する。
【解決手段】基板の主面をその外縁部を含め複数個の露光領域に分割して露光する露光方法であって、前記基板の外縁部より外側に中心がある露光領域104，106を露光する際、その位置でのフォーカス計測および前記基板の傾き計測を行わず、その直前の露光領域におけるフォーカス計測値および基板の傾き計測値を用いて前記基板の外縁部より外側に中心がある露光領域を露光することにより、露光ショットを有効化し、品質を保ちながら生産性を落とすことなく、基板上での良質な製品の取れ数を増加させることができる。 （もっと読む）

【課題】高精度なフォーカス制御を実現する。
【解決手段】第１基板が載置されたステージを所定方向に走査し、該所定方向に沿って設けられた第１及び第２投影光学ユニットを介して第１基板のパターンを第２基板に露光する。ステージに第３基板を載置してステージを所定方向に走査する第１ステップと、第３基板上に所定方向に沿って配置された複数のマークを第１投影光学ユニットを介して検出し、複数のマークに対応する第１投影光学ユニットの第１フォーカス位置情報を計測する第２ステップと、複数のマークを第２投影光学ユニットを介して検出し、複数のマークに対応する第２投影光学ユニットの第２フォーカス位置情報を計測する第３ステップと、第１及び第２フォーカス位置情報に基づいて、前記パターンに対応する第１及び第２投影光学ユニットの各フォーカス位置と第２基板との相対位置を調整する第４ステップと、を含む。 （もっと読む）

【課題】 微細化トレンドに従って焦点深度が極めて小さくなるに従って、フォーカス検出の高精度化がますます重要となっている。しかしながら要求精度に合致する検出範囲は狭小化の一途にあり、ウエハ表面を確実に検出範囲内に位置付けることが難しくなっており、露光不良の一因となっている。
【解決手段】 ウエハを保持する可動ステージと、面位置計測手段を持った面位置計測方法において、ウエハ表面の全体、又は一部のウエハ表面形状を計測する段階と、計測したウエハ表面形状を記憶する段階を持ち、記憶したウエハ表面形状に沿った軌道で可動ステージを動かしながら面位置の変化量を計測する手段と、軌道からの変化量を駆動する手段とを有する。 （もっと読む）

【課題】マスク撓みや光学系の歪みによって発生するデフォーカスを補正できる露光装置、フォーカス補正装置、及びそれを用いたデバイスの製造方法を提供する。
【解決手段】原版１に光を照射する照明光学系７と、該照明光学系７により照射された原版１のパターンを基板４上に投影する投影光学系３と、原版１を保持し駆動する原版ステージ２と、基板４を保持し移動する基板ステージ６とを有する露光装置３０であって、基板ステージ６は、基板４を吸着保持する複数のチャック５を有し、チャック５は、吸着部と、該吸着部を基板面に垂直な方向に駆動する駆動機構２１とを有する。 （もっと読む）

【課題】密着性を有する細線パターンを、短い露光時間で形成することができる感光性材料のパターン形成方法の提供。
【解決手段】本発明の感光性材料のパターン形成方法は、基体上に形成された感光性材料からなる感光層に対し、該感光層の前記基体と反対側の表面を基準として、該感光層の厚みの１倍〜３倍長さだけ前記基体側に露光光の焦点が位置するようにして露光光を照射することにより、前記基体上にパターンを形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】露光不良の発生を抑制できる露光装置を提供する。
【解決手段】露光装置は、基板が載置される載置部、載置部を保持する保持テーブル、及び保持テーブルに対して載置部を支持する支持部を含むステージ装置と、載置部の載置面に沿って支持部から張り出した載置部の外縁領域に載置される基板の面位置を検出する検出装置と、検出装置の検出結果に基づいてステージ装置を駆動する駆動装置と、ステージ装置によって移動された基板に露光光を照射する照射装置とを備えている。 （もっと読む）

【課題】レジスト寸法精度を向上させ、半導体デバイス生産の歩留まりを向上させることができる露光方法及び露光システムを提供する。
【解決手段】マスクパターンの第１及び第２のパターン部分を露光装置により基板上に転写した場合の第１及び第２の転写パターン部分に対応する第１のＯＰＥ誤差を取得し、前記第１のＯＰＥ誤差を低減する第１補正量を算出し、前記第１補正量が与えられた前記露光装置による前記第１の転写パターン部分と前記第２の転写パターン部分とのベストフォーカス差を算出し、前記ベストフォーカス差を低減する、第２補正量を算出する。第１補正量及び第２補正量が与えられた前記露光装置による第１及び第２の転写パターン部分に対応する第２のＯＰＥ誤差を取得し、第２のＯＰＥ誤差が所定範囲に含まれている場合に、第１補正量及び第２補正量を与えた露光装置により露光処理を行う。 （もっと読む）

【課題】露光中にワーク表面位置の変動を検出し、膜厚にむらのあるレジストでも適正な状態でワークを露光できる露光装置を提供する。
【解決手段】この露光装置１００は、ワーク（回転体）４を軸支する支持部（支持手段）７、８と、ワーク４を回転させるモータ（回転手段）３と、ワーク４表面を露光する露光光学系１と、ワーク４表面あるいは回転体表面に塗布されたレジスト膜（機能膜）表面の位置を検出する位置検出手段５と、位置検出手段５により検出された各表面位置と露光光学系１のフォーカス位置とのずれ量を計算する制御部（ずれ量計算手段）２と、を備え、支持部７、８及びモータ３はベース６上に固定されている。また、露光光学系１と直交する位置に位置検出手段５を配置している。 （もっと読む）

【課題】離散配置されてなるレーザーダイオードのいくつかが破損等の理由によって発光しない状態が生じても、継続的に使用可能なＣＴＰ装置を提供することを目的とする。
【解決手段】一部のチャンネルが非発光状態である場合には、正常時に露光ヘッドを移動させる基準区間の前後に設けられた補完区間においても露光ヘッドを移動させるようにしながら、非発光状態のチャンネルの存在位置に基づいて定められた、発光状態にある特定のチャンネルを用いて露光を行うように、チャンネル別露光データを生成し、移動手段によって、基準区間および補完区間において露光ヘッドを移動させつつ、露光制御手段がチャンネル別露光データに従って前記特定のチャンネルから露光用光を出射させることによって被露光領域を形成する。 （もっと読む）

【課題】投影光学系の結像位置を高精度で連続的に変更調整する。
【解決手段】傾斜面（３２ｂ，３３ａ）を有するくさび状のガラス板からなる第１および第２光学部材（３２，３３）を対向配置する。第１光学部材（３２）の傾斜面（３２ｂ）に陽圧源（Ｐ）から圧縮空気が供給される陽圧溝（３３ｃ）および負圧源（Ｖ）により真空吸引される負圧溝（３３ｄ）を設けてエアベアリングを構成し、第１および第２光学部材（３２，３３）を非接触で対向させる。アクチュエータ（３５）をコイルバネ（３６）の付勢力に抗して作動して、第１光学部材（３２）を第２光学部材（３３）に対して相対移動させることにより、光入射面（３２ａ）と光出射面（３３ｂ）の相対間隔（板厚）を変更調整することができる。このような結像位置調整装置（３１）を投影光学系の光軸上に設けることにより、その結像位置を任意に変更調整することができる。 （もっと読む）