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国際特許分類[G11B5/39]の内容

国際特許分類[G11B5/39]に分類される特許

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【課題】クロムが入っていない位相変位リソグラフィを用いて微細フィーチャの形成を容易にする方法を提供する。
【解決手段】細長い、クロムが入っていない架橋フィーチャ104は、フォトリソグラフィマスクを通るエネルギに対して180度を超える公称位相差を引起すエッチング深さを有して、フォトリソグラフィマスク上に形成される。対応するフォトレジストフィーチャは架橋フィーチャ104を用いて形成される。位相差は、対応するフォトレジストフィーチャの寸法的変動を最小にするよう選択される。 (もっと読む)


【課題】 磁気抵抗センサーのための磁気バイアス構造を提供する。
【解決手段】 本発明は、自由層の堅牢性向上およびバルクハウゼンノイズの低減のために磁気バイアスを改善する新たな磁気バイアス構造を有する磁気読み出しヘッドである。バイアス構造は、第1および第2の下層の上に形成されるハード磁性層を含む。第1の下層の少なくとも一部分は、別個の材料の島として形成され、第2の下層は第1の下層の上に形成される。第1の下層は、0.25〜0.75nmの厚さを有する。新たなシード層構造により、ハード磁性層が、センサースタックに隣接する領域でも、センサースタックの自由層と実質的に平行な磁気異方性を有する。 (もっと読む)


【課題】CPP-Tri-layer型磁気ヘッドの小型化を実現する。
【解決手段】実施形態に係わる磁気ヘッドは、第1及び第2磁気シールド層11,15間に配置される磁気抵抗素子とハードバイアス層HBとを備える。磁気抵抗素子は、第1及び第2磁気フリー層FL1,FL2と、これらの間の非磁性層13とを備える。第1及び第2磁気フリー層FL1,FL2の磁化方向は、外部磁界が零のときにハードバイアス層HBからの磁界により概略垂直状態にある。ハードバイアス層HBは、Fe、又は、FeとCoを主成分とする合金を備える。ハードバイアス層HBのアスペクト比は、2以上である。ハードバイアス層HBの厚さは、第1及び第2磁気シールド層11,15間のギャップよりも小さい。 (もっと読む)


【課題】読み取り素子のための空間の大きさを縮小することによって、磁気シールドの大きさおよびシールド間の利用可能な空間の大きさを最小化する。
【解決手段】空気ベアリング面(ABS)148に対して設置されたデータ読み取りスタック132は、第1のバッファ層142と第2のバッファ層142との間に取り付けられ、少なくとも一方のバッファ層は、データ読み取りスタックに所定の短絡比を付与する。 (もっと読む)


【課題】 シザーズ構造を有する磁気抵抗センサの磁気バイアス構造を提供する。
【解決手段】 磁気バイアス付与の堅牢性を向上させる新規のハードバイアス構造を有するシザーズ型磁気センサ。当該センサは、電気絶縁障壁層または導電スペーサ層等の非磁性層により分離された第1の磁気層および第2の磁気層を含むセンサスタックを含む。第1の磁気層および第2の磁気層は、逆平行に結合されるが、磁気バイアス構造により、エアベアリング面に対して平行でも垂直でもない方向に傾けられた磁化方向を有する。磁気バイアス構造は、センサスタックの後縁から延在し、センサスタックの第1の側面および第2の側面に整列した第1の側面および第2の側面を有するネック部を含む。バイアス構造はまた、ネック部から後方に延在する先細または楔形部を含む。 (もっと読む)


【課題】 TMR素子の設置環境が高温環境下であってもTMR素子の絶縁破壊を防ぎ、さらにはノイズの影響を受け難く、高いS/N比を得ることができる磁気センサ装置を提供すること。
【解決手段】 トンネル磁気抵抗素子2と、該トンネル磁気抵抗素子2の両端子に一端が接続された一対のリード線3と、一対のリード線3の他端に接続されトンネル磁気抵抗素子2を電圧駆動または電流駆動して抵抗変化を検出する駆動検出回路4とを備え、該駆動検出回路4が、一対のリード線3の他端に接続された一対の出力端子4a間に少なくとも一対のダイオード6aを互いに逆向きにして並列または直列に接続して構成された保護回路6を有している。 (もっと読む)


【課題】この発明のさまざまな実施例は、第1の強磁性自由層138と第2の強磁性自由層140との間に配置されたスペーサ層142とともに構築されてもよい、磁気応答積層132に一般的に向けられる。
【解決手段】少なくとも1つの強磁性自由層は、磁気応答積層の磁気抵抗比(MR)を向上させる結合サブ層186,196を有することができる。 (もっと読む)


【課題】装置、センサおよびセンサの製造方法を提供する。
【解決手段】さまざまな実施の形態が、概して所定の第1の形態を有する減結合層で構築された磁気センサに向けられる。磁気自由層は、減結合層に接して隣り合うように蒸着可能であり、減結合層は、処置得の第2の形態を有する少なくとも第1のサブ層を有するように構成された磁気自由層を有する。 (もっと読む)


【課題】磁気抵抗効果素子の特性劣化を抑制する。
【解決手段】本実施形態の磁気抵抗効果素子は、膜面に対して垂直方向に磁気異方性と不変な磁化方向とを有する第1の磁性体30と、膜面に対して垂直方向に磁気異方性と可変な磁化方向とを有する第2の磁性体10と、磁性層10,30の間の非磁性体20とを、含む。第1及び第2の磁性体のうち少なくとも一方は、ボロン(B)及び希土類金属及び遷移金属を含む磁性層301を備え、磁性層301において、希土類金属の含有量は、20at.%以上であり、遷移金属の含有量は、30at.%以上であり、ボロンの含有量が、1at.%以上、50at.%以下である。 (もっと読む)


【課題】安定した情報の記録および再生を行なうことができる。
【解決手段】本実施形態に係る磁気媒体は、第1磁性層、第2磁性層、および非磁性層を含む。第1磁性層は、第1磁性体により形成され、磁化の方向に応じて前記情報が記録される。第2磁性層は、前記第1磁性体と磁気異方性が異なる第2磁性体により形成される。非磁性層は、前記第1磁性層と前記第2磁性層との間に積層され、非磁性体で形成される。前記第1磁性層の磁化と前記第2磁性層の磁化とは、前記非磁性層を介した磁気の交換作用により、互いの磁化が反対方向を向いて結合することを示す反平行結合する。 (もっと読む)


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