【課題】 本発明は走査電子顕微鏡におけるレンズエラー決定方法、より詳細にはそのようなレンズエラーの決定を可能にする試料に関する。
【解決手段】 本発明はたとえば、シリコンウエハ上に所謂‘自己集合’する結晶として比較的容易に製造可能な正方晶MgOの使用について説明する。そのような結晶はほぼ理想的な角度及び端部を有する。これは、たとえレンズエラーが存在してもレンズエラーが存在しない状況での明確な像を与えることができる。これは、良好な再構築が各異なるアンダーフォーカス面及びオーバーフォーカス面でのビーム断面で構成されることを可能にする。レンズエラーはこの再構築に基づいて決定可能である。ここでレンズエラーは補正器の手段により補正可能である。 （もっと読む）

本発明は、第１の多孔プレートと、第１の多孔プレートとの間に間隙を形成する第２の多孔プレートとを含む粒子光学部品であって、第１の多孔プレートの複数の開孔が、第１の多孔プレートの複数の開孔の各開孔が第２の多孔プレートの複数の開孔の対応する開孔と整列されるように配置され、前記間隙が第１の位置において第１の幅を有し、第２の位置において第２の幅を有し、第２の幅が第１の幅よりも少なくとも５％だけ大きい粒子光学部品に関する。また、本発明は、このような部品を含む荷電粒子システム及び荷電粒子装置、並びに、曲面を有する多孔プレートの製造方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 高スループットで試料の評価を行い、フリンジの電磁場の問題が生じず、軸上色収差又は球面収差を補正して処理速度を向上させた電子線装置を提供すること。
【手段】 複数の一次電子線によって試料Ｓを走査し、試料Ｓから放出される複数の二次電子線を写像投影光学系Ｃを介して検出する電子線装置において、写像投影光学系Ｃは軸上色収差補正レンズ２０を備える。軸上色収差補正レンズ２０は写像投影光学系Ｃのレンズ１９の像面に配置され、４極子電極と４極子磁極とを有するウィーン・フィルタであることが望ましい。 （もっと読む）

【課題】 本発明は電子線装置に関し、電流密度を高めた場合でも、ビームの縁の鮮明さを向上させることができる電子線装置を提供することを目的としている。
【解決手段】 電子ビームを成形して試料に照射する装置であって、電子ビームを発生させるための電子源Ｓと、電子ビームを集束し、前記電子源の第１の像を形成するための第１の集束レンズＣＬ１と、電子ビームを成形するための第１及び第２のスリットＳＬ１，ＳＬ２と、前記２つのスリットを共役に結び、前記第１の像を物体として後方に第２の像を結ぶための第２の集束レンズＣＬ２と、前記第１及び第２スリットを縮小して対物レンズＯＬの前方に結像し、前記第２の像を拡大して対物レンズＯＬの節面（又は主面）位置に第３の像を結像するための追加レンズＡＬ１，ＡＬ２と、前記スリットの像を最終的に試料面に結像するための対物レンズとを備える。 （もっと読む）

【課題】電磁界発生素子及び複数のこのような電磁界発生素子を含む多極素子を提供する。
【解決手段】磁極片（１０）と、磁極片（１０）が取り付けられたヨーク（１２）と、少なくとも１つのコイル（２０）と、この少なくとも１つのコイル（２０）を収容する真空気密容器（２１）と、真空気密容器（２１）が磁極片（１０）及びヨーク（１２）から離間するように真空気密容器（２１）を保持するようになったホルダ（４０、２３）とを含む電磁界発生素子（１）。 （もっと読む）

【課題】 偏向色収差を小さく抑えた荷電粒子線光学系を提供する。
【解決手段】 像面での偏向位置を複素座標でWoai(=Xoai+i Yoai)としそのうち偏向器によって偏向される分をwdi(=xdi + i ydi)とするとき、荷電粒子のエネルギー幅によって生じる偏向色収差の収差係数（ベクトル３に対応）が、wdi/Woai（ベクトル１に対応）に比例させるように（すなわち、ベクトル３’となるように）設定する。 （もっと読む）

【課題】 収差補正装置の操作性、耐圧、補正範囲などの問題を解決し、安定かつ最適な収差補正を行うことができる収差補正装置を備えた荷電粒子ビーム装置を実現する。
【解決手段】 試料２０に減速電圧Ｖ_Rを印加すると、試料２０の表面付近にレンズが形成され、ビームは開き角を増す。従って、試料２０の表面の位置を固定したまま（作動距離を一定に保ったまま）粒子プローブをフォーカスさせるためには、操作表示部９から対物レンズのレンズ強さを弱める（焦点距離を長くする）必要がある。このとき、実際には、減速電圧Ｖ_Rと共に対物レンズの収差係数も変化する。従って、物面側に換算した色収差係数Ｃ_CO、球面収差係数Ｃ_SO、も、減速電圧Ｖ_Rと共とに変化する。この結果、収差補正ユニットのフォーカス条件を一定に保っておくと、色収差および球面収差の補正条件を変更する必要がある。 （もっと読む）

【課題】偏向コマ収差と偏向色収差に関わらずｘ方向とｙ方向で線幅に差が生じないビーム補正方法、および、荷電粒子ビーム描画装置を実現する。
【解決手段】ビームについて動的焦点補正および動的非点補正を行う荷電粒子ビーム描画装置は、偏向コマ収差と偏向色収差によるビームぼけのｘ方向とｙ方向の差を解消するための非点ずらし量（３２２）および非点ずらし量（３２２）を動的焦点補正用の補正値（３２１）および動的非点補正用の補正値（３２１）にそれぞれ加算して（３２３，３２３）動的焦点補正（１１０）および動的非点補正（１２０）を行うビーム補正手段を具備する。 （もっと読む）

【課題】透過型電子顕微鏡観察における対物レンズのデフォーカス量及び対物絞りの選定といった条件選定を、計算を利用することで作業を軽減し、得られた電子顕微鏡像の解釈を容易にする。
【解決手段】操作者が観測を希望する空間的な大きさまたは距離dを入力する手段と、この値に基づく像が高いコントラスト、且つ重畳する偽像の影響を低減せしめる観察条件を算出し、それに基づき電子顕微鏡の加速電圧等に所望の変調をかける。 （もっと読む）

【課題】容易に調整可能で焦点深度の深い、収差補正手段を備えた走査形荷電粒子顕微鏡を提供する。
【解決手段】複数開口をもつ絞りを使用することにより、収差の補正状態をSEM画像から判定して、収差補正手段の調整にフィードバックする。略輪帯形状の絞りを収差補正手段と併用する。 （もっと読む）